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PECVD設(shè)備 微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 那諾-馬斯特
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜，至大可達(dá)6” 直徑的基片上，該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì)，樣品臺(tái)可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的
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2025-01-23 |
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NPE-4000ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER ICPECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4,或DLC薄膜到z大可達(dá)6”直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪
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2025-01-23 |
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磁控濺射儀 NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源晶振夾具具有的1 ?的厚度分辨率帶觀察視窗的腔門易于上下載片基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制帶密碼保護(hù)功能的多級(jí)訪問控制完全的安全聯(lián)鎖
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2025-01-23 |
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電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī) NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置，其中樣品臺(tái)位于主腔體內(nèi)，二級(jí)腔體則用于安置電子束源。這種在兩個(gè)腔體之間帶有門閥的配置可以作為預(yù)真空鎖，使得電子束源腔體保持真空的情況下，實(shí)現(xiàn)基片通過主腔體放入基片到樣平臺(tái)(或夾具)上或從中取出。在需要自動(dòng)裝/卸載基
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2025-01-23 |
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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 NTE-4000（A）全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-4000（A）全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計(jì)算機(jī)控制的全自動(dòng)立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計(jì)經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實(shí)現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過程。它們具有低價(jià)格, 高性能以及高能力的特點(diǎn)，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要
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2025-01-23 |
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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 NTE-3500（A）全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-3500（A）全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計(jì)經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實(shí)現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過程。它們具有低價(jià)格, 高性能以及高能力的特點(diǎn)，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求。 N
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2025-01-23 |
產(chǎn)品分類
