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NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)概述：NRE-4000是一款獨(dú)立式PE刻蝕RIE刻蝕一體機(jī)，配套有淋…
NMC-4000（A）全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng)概述：NANO-MASTER針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)…
NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)概述：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕…
NIE-4000（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這…
NRE-4000（ICPM）ICP刻蝕機(jī)概述：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng)，系…
NLD-4000(A)全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有…
NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有…
MOVPE設(shè)備概述：MOVPE，也就是大名鼎鼎的MOCVD(金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積), 針對(duì)InGa…
NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可…
NPD-4000（M）PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)機(jī)制：PLD的系統(tǒng)設(shè)備簡單，相反，它的原理卻是非…
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si…
NRE-3500（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述：獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體…
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔70，…
NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙…
NIE-3000離子源清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動(dòng)放片取片，但通過計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)…
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