NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機產(chǎn)品特點：

• 不銹鋼，鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

• 70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵

• 13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源

• 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

• 帶觀察視窗的腔門易于上下載片

• 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

• 帶密碼保護功能的多級訪問控制

• 完全的安全聯(lián)鎖

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機選配項：

• 向上、向下或側面濺射

• RF、DC以及脈沖DC濺射

• 共濺射、反應濺射

• 組合濺射

• RF或DC偏壓（1000V）

• 樣品臺可加熱到700°C

• 膜厚監(jiān)測儀

• 基片的RF射頻等離子清洗

• 預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

  
  

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機應用：

• 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆

• 光學以及ITO涂覆

• 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆

• 帶RF射頻等離子放電的反應濺射

  
  

型號：

• NSC-4000：基于PC計算機全自動控制的獨立式系統(tǒng)

• NSC-3500：基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立式系統(tǒng)

• NSC-3000：PC計算機全自動控制的臺式系統(tǒng)

• NSC-1000：半自動控制的臺式系統(tǒng)

(以下為雙系統(tǒng)型號)

• NSR-4000：濺射/RIE系統(tǒng)

• NSP-4000：濺射/PECVD系統(tǒng)

• NST-4000：濺射/熱蒸發(fā)系統(tǒng)