NIE-3000離子源清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動(dòng)放片取片，但通過計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。

NIE-3000離子源清洗系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 低成本

• 離子束：高達(dá)2KV/10mA

• 離子電流密度100-360uA/cm2

• 離子束直徑：4",5",6"

• 兼容反應(yīng)及非反應(yīng)氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)

• 極限真空5x10-7Torr

• 260l/s渦輪分子泵，串接500 l/min干泵

• 14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體

• 水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(tái)(NIE-3500)

• 自動(dòng)上下載片（NIE-3500）

• 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

• 占地面積30"x30"

NIE-3000離子源清洗系統(tǒng)產(chǎn)品應(yīng)用：

• 表面處理

• 離子銑

• 表面清洗

• 帶活性氣體的離子束刻蝕：  光柵刻蝕，以及SiO2，Si和金屬的深槽刻蝕