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反應(yīng)離子刻蝕 NRE-3500型RIE-PE刻蝕機
NRE-3500型RIE-PE刻蝕機概述：獨立式RIE刻蝕PE刻蝕一體機，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口：一個帶有2的視窗,另一個空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持至大到12的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計，并且根據(jù)配套的真空泵可以達到10-6Torr 或更小的極限真空。該系
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2025-01-23 |
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磁控濺射儀 NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機產(chǎn)品特點：不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源晶振夾具具有的1 ?的厚度分辨率帶觀察視窗的腔門易于上下載片基于LabView軟件的PC計算機全自動控制帶密碼保護功能的多級訪問控制完全的安全聯(lián)鎖
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2025-01-23 |
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電子束蒸發(fā)鍍膜機 NEE-4000（A）全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
NEE-4000（A）全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置，其中樣品臺位于主腔體內(nèi)，二級腔體則用于安置電子束源。這種在兩個腔體之間帶有門閥的配置可以作為預(yù)真空鎖，使得電子束源腔體保持真空的情況下，實現(xiàn)基片通過主腔體放入基片到樣平臺(或夾具)上或從中取出。在需要自動裝/卸載基
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2025-01-23 |
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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 NTE-4000（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-4000（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計算機控制的全自動立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要
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2025-01-23 |
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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 NTE-3500（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-3500（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC計算機控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求。 N
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2025-01-23 |
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NPC-4000（A）全自動等離子去膠機（刻蝕機）
NPC-4000(A)全自動等離子去膠機(刻蝕機)概述：NANO-MASTER等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持
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2025-01-23 |
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NPC-3500（A）全自動plasma等離子清洗機
NPC-3500（A）全自動plasma等離子清洗機概述：NANO-MASTER等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持
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2025-01-23 |
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SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機
SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的
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2025-01-23 |
產(chǎn)品分類
