NRE-4000RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)概述：NRE-4000是一款獨(dú)立式PE刻蝕RIE刻蝕一體機(jī)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持zui大到12"的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì)，并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個(gè)節(jié)流閥,一個(gè)250l/s的渦輪分子泵,濾網(wǎng)過(guò)濾器,以及一個(gè)10cfm的機(jī)械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過(guò)600W,13.56MHz的電源和自動(dòng)調(diào)諧器提供。系統(tǒng)將持續(xù)監(jiān)控直流自偏壓,該自偏壓可以高達(dá)-500V.這對(duì)于各向異性的刻蝕至關(guān)重要。

NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)是基于PC控制的全自動(dòng)系統(tǒng).系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實(shí)時(shí)顯示,流量及功率則以數(shù)字形式實(shí)時(shí)顯示.系統(tǒng)提供密碼保護(hù)的四級(jí)訪問(wèn)功能:操作員級(jí)、工程師級(jí)、工藝人員級(jí),以及維護(hù)人員級(jí).允許半自動(dòng)模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式), 和全自動(dòng)執(zhí)行程序模式(操作模式)運(yùn)行系統(tǒng)?；谌詣?dòng)的控制，該系統(tǒng)具有高度的可重復(fù)性。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體不銹鋼立柜支持各向同性刻蝕和各向異性刻蝕兩種模式能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬典型的硅刻蝕速率，400 ?/min高達(dá)12"的陽(yáng)極氧化鋁RF樣品臺(tái)水冷及加熱的RF樣品臺(tái)大的自偏壓淋浴頭氣流分布極限真空5x10-7Torr，20分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6Torr級(jí)別渦輪分子泵NRE-3000zui多支持4個(gè)MFC，NRE-4000zui多支持8個(gè)MFC無(wú)繞曲氣體管路自動(dòng)下游壓力控制雙刻蝕能力：RIE以及PE刻蝕(可選)終點(diǎn)監(jiān)測(cè)氣動(dòng)升降頂蓋手動(dòng)或自動(dòng)上下載片預(yù)真空鎖基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制菜單驅(qū)動(dòng)，4級(jí)密碼訪問(wèn)保護(hù)完全的安全聯(lián)鎖可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺(tái)，用于深硅刻蝕

NRE-4000RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)產(chǎn)品型號(hào)：

NRE-4000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的獨(dú)立式系統(tǒng)，占地面積26“D x 44"WNRE-3500：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的緊湊型獨(dú)立式系統(tǒng)，占地面積26“D x 26"WNRE-3000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng)，占地面積26“D x 26"WNRP-4000：RIE/PECVD雙系統(tǒng)NDR-4000：深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統(tǒng)