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產(chǎn)品簡介 NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕：可以用于光柵刻蝕，SiO2二氧化硅、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外，還可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。系統(tǒng)可以兼容反應(yīng)氣體以及非反應(yīng)氣體，比如Ar，O2，CF4，Cl2等。
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NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕_離子銑離子束刻蝕-德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司
核心提示：更新時間：2017-03-03 10:33:06193 聯(lián)系我們時請說明是91化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝! 產(chǎn)品簡介 NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕：可以用于光柵刻蝕，SiO2二氧化硅、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外，還可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。系統(tǒng)可以兼容反應(yīng)氣體以及非反應(yīng)氣體，比如Ar，O2，CF4，Cl2等。
產(chǎn)品簡介 NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕：可以用于光柵刻蝕，SiO2二氧化硅、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外，還可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。系統(tǒng)可以兼容反應(yīng)氣體以及非反應(yīng)氣體，比如Ar，O2，CF4，Cl2等。
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