顆粒度分析視頻電子顯微鏡-顆粒圖像分析軟件

  在任何分析中，關(guān)于顆粒的最佳測(cè)量數(shù)目都沒(méi)有固定不
變的規(guī)定，這是因?yàn)槠渲写嬖谝粋€(gè)過(guò)去很少被注意的統(tǒng)計(jì)學(xué)
問(wèn)題，如果測(cè)量的顆粒數(shù)太少，就不能得到完全的方位型式，
而且作出的方位圖會(huì)過(guò)分受可見的或不被觀測(cè)者懷疑的顯微
域的影響。相反，如果測(cè)量的顆粒數(shù)過(guò)多，就會(huì)不適當(dāng)?shù)卣?/p>

用本該用于另一樣本的時(shí)間。一般地說(shuō)，對(duì)于石英光軸和云
母解理，測(cè)量400 到500 個(gè)顆粒是合適的；對(duì)于二軸晶礦物
的三個(gè)光率體軸或?qū)τ诜浇馐廨S和伴生的雙晶中解理面，
100 到200 個(gè)顆粒是最佳測(cè)量數(shù)目——特別是組構(gòu)是均勻的，
橫測(cè)線間距寬的情況下是如此。

  顯微亞組構(gòu)與小型褶皺的幾何關(guān)系是特別重要的，此間
的主要問(wèn)題是，確定隱含在褶皺面中的構(gòu)造不均勻性，是否
伴隨有顯微亞組構(gòu)的相應(yīng)不均勻性。在確定后者是否均勻，
必須要切自一個(gè)單褶皺不同域的一套定向薄片上，逐個(gè)薄片
地進(jìn)行研究。

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