KRI 考夫曼離子源 Gridded RFICP 系列
上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源 RFICP 系列,無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長
RFICP  系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源, 電子供應(yīng)器, 中和器, 電源控制等
RFICP  系列離子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性光透射,均勻性,附著力等
RFICP系列離子源應(yīng)用:
離子輔助鍍膜 IBAD( Ion beam assisted deposition in thermal e-beam evaporation )
離子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering evaporation )
表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )
離子濺鍍IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)
離子蝕刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)
RFICP系列離子源技術(shù)參數(shù):