1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 30 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源 (離子槍) 中國(guó)總代理.

目前 KRI 射頻離子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效離子源. 適用于集成在小型的真空腔體內(nèi)

 KRI 考夫曼型離子源 RFICP 100 緊湊設(shè)計(jì),適用于離子濺鍍和離子蝕刻.小尺寸設(shè)計(jì)但是可以輸出 400 mA 離子流

KRI 考夫曼型離子源 RFICP 220 高能量柵極離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻