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Si3N4 X射線同步輻射用氮化硅薄膜窗口-91化工儀器網(wǎng)

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2019-09-03  來源:儀器信息網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):114
核心提示:各種光學(xué)顯微鏡,顯微鏡、勻膠機、等離子清洗機、干燥箱、探針式臺階儀輪廓儀,防震平臺,全光纖測試系統(tǒng),凝固點測試儀,金屬相圖儀,電鏡耗材 上海昭沅儀器設(shè)備有限公司,代理多項世界一流公司的表面形貌測試產(chǎn)品,擁有一支由經(jīng)驗豐富的銷售人員和技術(shù)人員組成的團(tuán)隊,著重為各高校,研究所等單位提供完整的實驗室科研儀器設(shè)備。公司倡導(dǎo)以客戶為中心的專家式營銷模式,關(guān)注產(chǎn)品和服務(wù)的每一個細(xì)節(jié),吸引了一批中青年專業(yè)人才,組成了充滿活力的技術(shù)開發(fā)和經(jīng)營管理隊伍,通過與大量用戶的良好互動,穩(wěn)步建立起完善的市場網(wǎng)絡(luò)和銷售服務(wù)平臺。為進(jìn)

各種光學(xué)顯微鏡,顯微鏡、勻膠機、等離子清洗機、干燥箱、探針式臺階儀輪廓儀,防震平臺,全光纖測試系統(tǒng),凝固點測試儀,金屬相圖儀,電鏡耗材


上海昭沅儀器設(shè)備有限公司,代理多項世界一流公司的表面形貌測試產(chǎn)品,擁有一支由經(jīng)驗豐富的銷售人員和技術(shù)人員組成的團(tuán)隊,著重為各高校,研究所等單位提供完整的實驗室科研儀器設(shè)備。 

 公司倡導(dǎo)以客戶為中心的專家式營銷模式,關(guān)注產(chǎn)品和服務(wù)的每一個細(xì)節(jié),吸引了一批中青年專業(yè)人才,組成了充滿活力的技術(shù)開發(fā)和經(jīng)營管理隊伍,通過與大量用戶的良好互動,穩(wěn)步建立起完善的市場網(wǎng)絡(luò)和銷售服務(wù)平臺。為進(jìn)一步提升產(chǎn)品品質(zhì),公司組織專門人員建立企業(yè)標(biāo)準(zhǔn),由上海市技術(shù)監(jiān)督局備案,保證產(chǎn)品更具卓越的品質(zhì)和優(yōu)異的穩(wěn)定性。 
 公司秉承 合作、服務(wù)、創(chuàng)新 的經(jīng)營宗旨和服務(wù)理念,決心為客戶提供無微不致的關(guān)懷,為中國科技教學(xué)實踐、材料測試、生物醫(yī)學(xué)研究、微納機電系統(tǒng)研發(fā)等領(lǐng)域提供先進(jìn)的解決方案與咨詢服務(wù)。

 


 X射線透射顯微成像/能譜(同步輻射)用氮化硅薄膜窗口

產(chǎn)品概述:X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線(如真空紫外線)的zui大透射率。主要用于同步輻射X射線透射顯微成像時承載樣品。 X-射線越軟(能量越低),穿透能力越差,所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在 離軸 狀態(tài)工作(即薄膜與光束成一定角度)時,也需要較薄的薄膜窗口,便于X射線更好地穿透。氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成,由于此種氮化硅窗口選用低應(yīng)力氮化硅(0-250MP)薄膜,因此比計量式和ST氮化硅薄膜更堅固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域,例如,X-射線(上海光源透射成像/能譜線站)、TEM、SEM、IR、UV等?,F(xiàn)在提供X-射線顯微成像/能譜(同步輻射)用氮化硅薄膜窗系列產(chǎn)品,規(guī)格如下:
外框尺寸 (4種標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格): 5 mm x 5 mm (窗口尺寸:1.0 mm或和 1.5 mm 方形) 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸:2.0 mm或 2.5 mm) 10 mm x 10 mm (窗口尺寸:3.0 mm或 5 mm 方形)邊框厚度: 200 m、381 m、525 m。 
Si3N4薄膜厚度:50、100、150和200nm我們也可以為用戶定制產(chǎn)品(30-500nm),但要100片起訂。本產(chǎn)品為一次性產(chǎn)品,不建議用戶重復(fù)使用,本產(chǎn)品不能進(jìn)行超聲清洗,適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。 技術(shù)指標(biāo):透光度:
對于X射線用窗口,500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果,對于軟X射線(例如碳邊吸收譜),100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶首選。真空適用性:真空適用性數(shù)據(jù)如下:

薄膜厚度 窗口面積 壓力差 50 nm 1.0 x 1.0 mm 1 atm 100 nm 1.5 x 1.5 mm 1 atm 200 nm 2.5 x 2.5 mm 1 atm


表面平整度:氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品的表面平整性很穩(wěn)定(粗糙度小于1nm),對于X射線應(yīng)用沒有任何影響。 溫度特性:氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品是耐高溫產(chǎn)品,能夠承受1000度高溫,非常適合在其表面利用CVD方法生長各種納米材料。 化學(xué)特性:氮化硅薄膜窗口是惰性襯底。 應(yīng)用簡介和優(yōu)點:1、同步輻射X射線(紫外或極紫外)透射成像或透射能譜應(yīng)用中是不可或缺的樣品承載體。2、耐高溫、惰性襯底,適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境,利于制備理想的用于X射線表征用的自組裝單層薄膜或薄膜(薄膜直接沉積在窗口上)。3、生物和濕細(xì)胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后,窗口具有很好的親水性。4、耐高溫、惰性襯底,也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。5、適合做為膠體、氣凝膠、有機材料和納米顆粒等的表征實驗承載體。同步輻射X射線應(yīng)用參考文獻(xiàn):PRL
 
關(guān)鍵詞: 薄膜 射線 窗口 透射 氮化硅
 
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