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日立MC1000離子濺射儀
產(chǎn)品介紹：日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造，針對(duì)掃描電鏡的精細(xì)高端需求而設(shè)計(jì)，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品，尤其適合于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測(cè)應(yīng)用。

采用磁控型電極，最大限度地減輕對(duì)樣品的損壞。

離子濺射儀 MC1000特色

采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件可處理較厚或較大的樣品(選配件)記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

離子濺射儀 MC1000規(guī)格

項(xiàng)目說(shuō)明放電類型磁控二極管放電型(電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng))電極組成反向平行盤(嵌入磁鐵)電壓最大 0.4 kV DC(直流可變)電流最大 40 mA DC噴鍍速率 *1(最大)
[條件]
壓力：7 Pa
放電電流：40 mA
標(biāo)靶與樣品表面之間的距離：20 mmPt 靶(選配件)15 nm/minPt-Pd 靶(選配件)20 nm/minAu 靶(選配件)35 nm/minAu-Pd 靶(選配件)25 nm/min樣品尺寸最大直徑 60 mm最大高度20 mm機(jī)械泵135/162 l/min (50/60Hz)靶材*2Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)電源要求單相, 100 V AC ( 10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)尺寸寬度450 mm長(zhǎng)度391 mm高度390 mm重量主機(jī)：約 25 kg
機(jī)械泵：約 28 kg

*1

： 噴鍍速率僅供參考

*2

： 主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請(qǐng)從選項(xiàng)中選擇(鉑，鉑-鈀，金，金-鈀)。

應(yīng)用領(lǐng)域：

離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀測(cè)效率，另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

 

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