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掃描電鏡

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2019-08-31  來源:儀器信息網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):613
核心提示:掃描電鏡/掃描電子顯微鏡 掃描電鏡/掃描電子顯微鏡是介于透射電鏡和光學(xué)顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察手段,可直接利用樣品表面材料的物質(zhì)性能進(jìn)行微觀成像。主要是利用二次電子信號成像來觀察樣品的表面形態(tài),即用極狹窄的電子束去掃描樣品,通過電子束與樣品的相互作用產(chǎn)生各種效應(yīng),其中主要是樣品的二次電子發(fā)射。 目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀裝置,這樣可以同時進(jìn)行顯微組織形貌的觀察和微區(qū)成分分析。 精品推薦 品牌: 日立 型號: AeroSurf1500 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司 產(chǎn)品
掃描電鏡/掃描電子顯微鏡 掃描電鏡/掃描電子顯微鏡 掃描電鏡/掃描電子顯微鏡是介于透射電鏡和光學(xué)顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察手段,可直接利用樣品表面材料的物質(zhì)性能進(jìn)行微觀成像。主要是利用二次電子信號成像來觀察樣品的表面形態(tài),即用極狹窄的電子束去掃描樣品,通過電子束與樣品的相互作用產(chǎn)生各種效應(yīng),其中主要是樣品的二次電子發(fā)射。 目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀裝置,這樣可以同時進(jìn)行顯微組織形貌的觀察和微區(qū)成分分析。 精品推薦
品牌: 日立 型號: AeroSurf1500 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

產(chǎn)品簡介日立高新AeroSurf1500 臺式掃描電鏡2016年,日立高新公司推出第一臺大氣壓下掃描電子顯微鏡AeroSurf1500,其獨特的設(shè)計可在大氣壓下得到清晰的掃描電子圖像。產(chǎn)品特點1、可在大氣壓(105Pa)下得到SEM圖像;2、臺式掃描電鏡設(shè)計;3、低真空下成分分析;4、優(yōu)質(zhì)的圖像處理控制;應(yīng)用領(lǐng)域1、食品檢測;2、生物科技;3、刑偵醫(yī)學(xué);4、醫(yī)藥檢測;5、環(huán)境監(jiān)測。


品牌: 日立 型號: SU9000 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

SU9000是世界上最高二次電子分辨率(0.4nm@30kV)和STEM分辨率(0.34nm@30kV)的掃描電鏡。它采取了獨特的真空系統(tǒng)和電子光學(xué)系統(tǒng),不僅分辨率性能優(yōu)異,而且作為冷場發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的Flashing操作,可以快速穩(wěn)定的進(jìn)行超高分辨成像。?主要特點:1.  新型電子光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計達(dá)到掃描電鏡世界最高分辨率:二次電子0.4nm(30KV),STEM 0.34nm(30KV)。2.  用改良的高真空性能和無與倫比的電子束穩(wěn)定性來實現(xiàn)高效率截面觀察。3.  采用全新設(shè)計的Super E x B能量過濾技術(shù),高效,靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。 應(yīng)用領(lǐng)域:1. 半導(dǎo)體器件2. 高分子材料3. 納米材料4. 生命科學(xué)


品牌: 日立 型號: SU5000 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

產(chǎn)品介紹: 日立全新一代熱場發(fā)射掃描電鏡SU5000繼承了日立半導(dǎo)體行業(yè)掃描電鏡CD-SEM高穩(wěn)定性和易操作的特點,不僅具有強大的觀察分析能力,同時具有全新的操作體驗。SU5000既滿足了專業(yè)電鏡操作者對高分辨觀察和分析的需求,也滿足了電鏡初學(xué)者對高質(zhì)量圖片的需求,是一臺操作簡便且功能強大的掃描電鏡。主要特點:? 高穩(wěn)定性熱場發(fā)射電子槍? 全新的EM Wizard軟件,無需設(shè)置參數(shù)即可獲得高質(zhì)量圖片? 高分辨率和強大的分析能力? 樣品適用性強:不導(dǎo)電樣品直接觀察(低真空功能,10-300Pa)? 全新的multi-finder功能,方便快捷的尋找樣品? 附件功能強大:拉伸臺,冷熱臺,電子束曝光,紅外CCD,離子束清潔系統(tǒng)等。


品牌: 日立 型號: S-3700N 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

- 在觀察110mm高樣品時可進(jìn)行能譜分析 -樣品室設(shè)置多種接口,可安裝EDS、WDS、EBSD和CL等多種分析用附件 -高低真空一鍵切換,無需手動安裝壓差光闌


品牌: 日立 型號: Regulus8100 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

1. 配備加速電壓減速功能,優(yōu)秀的低加速電壓成像能力,1kV分辨率可達(dá)0.8nm 2. 日立專利E×B技術(shù),無需噴鍍,可直接觀測不導(dǎo)電樣品


品牌: 日立 型號: SU7000 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

在相同WD的條件下,可同時實現(xiàn)二次電子、背散射電子觀察與X射線分析 最多可同時實現(xiàn)6通道檢測與顯示 可配置18個附件接口


品牌: 上海孚光精儀 型號: BSE 產(chǎn)地:德國 供應(yīng)商:孚光精儀(香港)有限公司

這款掃描電鏡探測器是全球領(lǐng)先的BSE探測器或背散射電子探測器,為掃描電子顯微鏡提供最佳的信噪比和超高的分辨率,是SEM探測器中的最新產(chǎn)品。這款掃描電鏡探測器適合全球所有的商用掃描電鏡,采用獨立設(shè)計理念, 具有標(biāo)準(zhǔn)的安裝法蘭接口,非常方便用戶的安裝和使用。掃描電鏡探測器特點采用YAG:Ce單晶閃爍體采用閃爍體和光電倍增管,提供極佳的圖像質(zhì)量全球最佳的超低能量鍍膜技術(shù),靈敏度可到0.5Kev 優(yōu)異的信噪比無限的探測器壽命電動可回縮高精密導(dǎo)臂波紋管密封高真空系統(tǒng)完全用戶訂制化的SEM連接系統(tǒng)背散射電子探測器性能YAG:Ce閃爍體探測器提供最佳效率和最小余光afterglow, decay time 衰減時間為75ns @30光子/Kev YAG:Ce閃爍探測器外徑15mm , 內(nèi)孔6mm, 4mm, 2mm 或1.2mm任選,它限制視場大小。靈敏度高達(dá)1pA電子束


品牌: 美國FEI 型號: Quanta 250FEG/450FEG/650FEG 產(chǎn)地:美國 供應(yīng)商:廣州貝拓科學(xué)技術(shù)有限公司

儀器簡介:QuantaFEG系列場發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡是FEI公司的最新產(chǎn)品之一。是在FEI公司著名產(chǎn)品XL30ESEM-FEG場發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡的基礎(chǔ)上發(fā)展而來的。QuantaFEG場發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡綜合場發(fā)射電鏡高分辨和ESEM環(huán)境掃描電鏡適合樣品多樣性的優(yōu)勢,可對各種各樣的樣品(包括導(dǎo)電樣品、不導(dǎo)電樣品、含水含油樣品、加熱樣品等等)進(jìn)行高分辨的靜態(tài)和動態(tài)觀察和分析。QuantaFEG和Quanta一樣具有優(yōu)異的系統(tǒng)擴(kuò)展性能,可同時安裝能譜儀、波譜儀、EBSP、陰極熒光等附件。主要特點:1.完全數(shù)字化系統(tǒng)控制,Windows XP操作系統(tǒng)2.場發(fā)射環(huán)境掃描系統(tǒng)兼顧高分辨和樣品多樣性3.數(shù)字電影功能可將觀察過程記錄為avi視頻文件4.穩(wěn)定的大束流(最大200nA)確保高速、準(zhǔn)確的能譜、波譜和EBSD分析5.可安裝冷臺、加熱臺、拉伸臺等進(jìn)行樣品原位、動態(tài)觀察和分析技術(shù)參數(shù):1.分辨率: 二次電子: 高真空模式 1.0nm @ 30kV; 3.0nm @ 1kV 高真空減速模式 2.3nm @ 1kV, 3.1nm @ 200V (可選項) 低真空模式 1.4nm @ 30kV; 3.0nm @ 3kV 環(huán)境真空模式 1.4nm @ 30kV 背散射電子: 高真空和低真空模式: 2.5nm @ 30kV 掃描透射STEM探測器: 0.8nm @ 30kV2.加速電壓 200V ~ 30kV, 連續(xù)可調(diào)3.高穩(wěn)定性Schottky場發(fā)射電子槍4.最大束流 200nA5.樣品室壓力最高達(dá)4000Pa6.樣品臺移動范圍 Quanta 250 FEG: X=Y=50mm Quanta 450 FEG: X=Y=100mm Quanta 650 FEG: X=Y=150mm


品牌: 美國FEI 型號: QEMSCAN 650F 產(chǎn)地:美國 供應(yīng)商:北京源海威科技有限公司

一、設(shè)備介紹QEMSCAN巖芯、巖屑分析系統(tǒng)是一個高速自動化的礦物參數(shù)自動定量分析系統(tǒng)。能對樣品進(jìn)行礦物物質(zhì)組成、巖石特征、成份定量、礦物嵌布特征、礦物粒級分布、礦物解離度等重要參數(shù)進(jìn)行自動定量分析,主要用于石油、礦業(yè)、冶金、地質(zhì)等領(lǐng)域。QEMSCAN系統(tǒng)在石油領(lǐng)域的應(yīng)用包括:1)鉆芯、鉆削礦物組成、巖石類型分析2)鉆井?dāng)?shù)據(jù)集累3)石油、天然氣勘探4)石油、天然氣資源、藏量評估5)生產(chǎn)井位置選擇6)卡鉆事故預(yù)防QEMSCAN巖芯、巖屑分析系統(tǒng)采用FEI公司Quanta 650F 場發(fā)射環(huán)境掃描電鏡作作為最主要的硬件平臺。Quanta 650F 場發(fā)射環(huán)境掃描電鏡利用電子束激發(fā)樣品產(chǎn)生的二次電子、背散射電子以及X射線等信號,以獲得樣品表面形貌,結(jié)合能譜儀等分析儀器可以對微區(qū)成分進(jìn)行檢測,是用于試樣的顯微形貌觀察及微區(qū)成分分析的必備手段,除氣體以外的試樣均可用掃描電鏡進(jìn)行觀察。在石油天然氣領(lǐng)域,Quanta 650F適用于觀察非常規(guī)油氣樣品的微納米孔隙結(jié)構(gòu)、大小、類型、微裂縫發(fā)育等;用于研究微納孔隙及縫隙上附著的水、油或瀝青,對巖石孔隙的含水飽和度及含油飽和度等進(jìn)行研究二、QUANTA 650F多用途掃描電鏡主要參數(shù)1、電子光學(xué)1)高分辨率肖特基場發(fā)射電子槍2)加速電壓: 200 V - 30 kV3)束流: 最大200 nA并連續(xù)可調(diào)4)放大倍數(shù): 6 x 1,000,000 x (四幅圖像顯示)2、分辨率1)30 kV下 3.0 nm(背散射探頭)2)30 kV下 1.0 nm(二次電子探頭)3)3 kV下 3.0 nm(二次電子探頭)3、檢測器1)高靈敏度、低電壓固體背散射探頭2)二次電子探頭3)樣品室紅外 CCD 相機(jī)4、真空系統(tǒng)1)樣品室真空度 (高真空模式) 6e-4 Pa2)樣品室真空度(低真空模式) 10 to 130 Pa3)樣品室真空度(環(huán)境真空模式) 10 to 4000 Pa5、樣品室1)左右內(nèi)徑 379mm2)10 mm 分析工作距離3)10個 探測器 / 附件接口4)EDS 采集角: 35°6、樣品臺1)X/Y = 150 mm2)Z = 65 mm3)Z向間隙 93.5mm4)傾斜:- 5° - + 70°5)連續(xù)旋轉(zhuǎn) 360°6)復(fù)精度: 2 μm (X/Y 方向)7)偽全對中樣品臺7、SEM 計算機(jī)Windows 7操作系統(tǒng)8、能譜儀1)雙硅漂移探頭2)超快速脈沖處理3)電制冷 (無需液氮)


品牌: 日立 型號: VC-100 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:上海西努光學(xué)科技有限公司

IXRF噴碳儀VC-100是專為電鏡設(shè)計的噴鍍儀器,可以替代傳統(tǒng)的真空蒸鍍裝置。主要特點:1.用普通的自動筆芯就可作為蒸鍍碳的原材料;2.每次使用一根鉛筆芯,操作簡單,重現(xiàn)性好;3.可用于碳強化或制作支持膜,可以制作碳復(fù)型膜;4.可在自動鉛筆芯纏繞Pt線做Pt/C的蒸鍍或直接向SEM樣品蒸鍍Pt。 應(yīng)用領(lǐng)域:1.對樣品進(jìn)行蒸碳,實現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析;2.對樣品進(jìn)行蒸鍍Pt/C或直接蒸鍍Pt等金屬;3.用于TEM樣品的陰影;4.做TEM表面復(fù)型樣品。


品牌: 日立 型號: ArBlade5000 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:上海西努光學(xué)科技有限公司

ArBlade5000是專門針對快速或大面積加工而設(shè)計的離子研磨儀,它保留了IM4000系列的平面和截面研磨功能,同時對加工速率有了很大提升。ArBlade5000的截面加工速率達(dá)到1mm/h,截面加工寬度最大可達(dá)8mm,可以滿足更大范圍的加工需求。主要特點:1. 專業(yè)的平面和截面加工2. 全新設(shè)計的氬離子槍3. 大面積、高精度、低損傷加工


品牌: 日立 型號: NX5000 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

產(chǎn)品簡介日立高分辨型雙束系統(tǒng) NX5000NX5000新型高分辨FIB-SEM雙束系統(tǒng)采用冷場發(fā)射電子槍和全新的Aquila α鏡筒,具有高分辨的觀察能力;同時大束流的離子槍和實時觀察功能使其具有超高的加工效率。獨特的第三束(Ar)加工可以避免樣品損傷,為超薄樣品和復(fù)雜的制備提供了新的解決方案,可以滿足納米材料、半導(dǎo)體材料、生物材料等多種樣品的快速、無損、精細(xì)加工。主要特點:1. 高分辨冷場發(fā)射電子槍,實現(xiàn)高分辨觀察(0.7nm@15kV)2. 全新的Aquila α鏡筒和多探測器實現(xiàn)不同觀察目的3. 大束流(100nA)、高穩(wěn)定性離子槍實現(xiàn)快速加工4. 實時觀察、多探針系統(tǒng)和7軸樣品臺等技術(shù)有效防止窗簾效應(yīng)5. 第三束Ar的引入實現(xiàn)無損和超薄樣品的加工6. 多種沉積氣體可選7. 全自動TEM樣品制備 應(yīng)用領(lǐng)域:納米材料微加工半導(dǎo)體及電子元器件加工生命科學(xué)


品牌: 日立 型號: SU3800 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:上海西努光學(xué)科技有限公司

日立全新一代高分辨鎢燈絲掃描電鏡SU3800采用全新的HexBias偏壓技術(shù),使其低電壓性能大大提升,同時升級的高靈敏度背散射探測器和可變壓力探測器使得SU3800的觀察能力進(jìn)一步提升。SU3800還增加了IFT燈絲監(jiān)控技術(shù)、全新的光鏡導(dǎo)航、集成的能譜以及報告導(dǎo)出等功能,使其操作也變得更為簡單。主要特點:  HexBias偏壓鎢燈絲電子槍; 優(yōu)異的高、低電壓性能; 高靈敏度五分割背散射電子探測器; 可變壓力二次電子探測器(高、低真空可用); 全新的操作界面和光鏡導(dǎo)航功能; 全自動燈絲設(shè)定和合軸; 報告導(dǎo)出和圖片處理; 可集成的EDS; 簡單方便的維護(hù)(燈絲更換視頻); 應(yīng)用領(lǐng)域: 材料科學(xué)、生命醫(yī)學(xué)、食品衛(wèi)生、半導(dǎo)體電子元器件、汽車制造等。主要參數(shù):?電子槍預(yù)對中鎢燈絲加速電壓0.3kV – 30kV分辨率3.0nm@30kV (SE)15.0nm@1kV (SE)4.0nm@30kV (BSE, LV)放大倍率5x – 300,000x(底片倍率)7x – 800,000x(顯示器倍率)探測器二次電子探測器,高靈敏度無分割背散射電子探測器可變壓力探測器UVD 2.0*低真空可變壓力范圍6 – 650Pa樣品臺(三軸馬達(dá))X: 0 - 100 mmY: 0 – 40 mmZ: 5 – 65 mmR: 0 – 360°T: -20° - +90°*選配


品牌: 日立 型號: SU3900 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:上海西努光學(xué)科技有限公司

日立全新一代大型鎢燈絲掃描電鏡SU3900采用超大的樣品倉和多接口設(shè)計,適合超大樣品的觀察(直徑300mm)以及多種分析功能的拓展。同時,SU3900也采用了全新的HexBias偏壓技術(shù),也可以配置高靈敏度的背散射探測器和可變壓力二次電子探測器,使其高、低電壓性能都得到了提升。SU3900也具有IFT燈絲監(jiān)控技術(shù)、全新的光鏡導(dǎo)航、集成的能譜以及報告導(dǎo)出等功能,使其操作也變得更得非常簡單。主要特點:HexBias偏壓鎢燈絲電子槍; 超大樣品倉和多接口實際;優(yōu)異的高、低電壓性能; 高靈敏度五分割背散射電子探測器; 可變壓力二次電子探測器(高、低真空可用); 全新的操作界面和光鏡導(dǎo)航功能; 全自動燈絲設(shè)定和合軸; 報告導(dǎo)出和圖片處理; 可集成的EDS; 簡單方便的維護(hù)(燈絲更換視頻);應(yīng)用領(lǐng)域: 材料科學(xué)、 生命醫(yī)學(xué)、 食品衛(wèi)生、 半導(dǎo)體電子元器件、 汽車制造、 文物考古、 金屬冶金等。主要參數(shù):?電子槍預(yù)對中鎢燈絲加速電壓0.3kV – 30kV分辨率3.0nm@30kV (SE)15.0nm@1kV (SE)4.0nm@30kV (BSE, LV)放大倍率5x – 300,000x(底片倍率)7x – 800,000x(顯示器倍率)探測器二次電子探測器,高靈敏度無分割背散射電子探測器可變壓力探測器UVD 2.0*低真空可變壓力范圍6 – 650Pa樣品臺(三軸馬達(dá))X: 0 - 150 mmY: 0 – 150 mmZ: 5 – 85 mmR: 0 – 360°T: -20° - +90°*選配 


品牌: 日立 型號: TM4000/TM4000Plus 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

產(chǎn)品簡介日立臺式電鏡 TM4000/TM4000Plus主要參數(shù):1. 觀察條件:5kV/10kV/15kV(均四檔可調(diào))、EDX2. 放大倍率:10×~100000×3. 觀察模式:導(dǎo)體(TM4000Plus)、標(biāo)準(zhǔn)模式,消除電荷模式4. 探測器:4分割背散射探測器、低真空二次電子探測器            (TM4000Plus)應(yīng)用領(lǐng)域:生命科學(xué)材料科學(xué)化學(xué)電子制造食品工業(yè)


品牌: 日立 型號: SU3500 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

高畫質(zhì)的鎢燈絲掃描電鏡, 圖象質(zhì)量更進(jìn)一步。通過高畫質(zhì)提升掃描電鏡的分析能力和操作性, 凝聚日立最先進(jìn)科技“獨具匠心”。SU3500鎢燈絲掃描電鏡具有實現(xiàn)了“3kV加速電壓7nm分辨率”的全新電子光學(xué)系統(tǒng), 可實現(xiàn)實時立體成像的“實時立體觀察功能”*1, 以及更高檢測效率的 “UVD超高靈敏度可變壓力檢測器”*1。它為觀察和分析提出了嶄新的標(biāo)準(zhǔn)。*1:自選特點低加速電壓觀察時分辨率更高,可更好地觀察樣品最表面的細(xì)微形狀和更有效地降低樣品的損壞全新設(shè)計的電子光學(xué)系統(tǒng)和信號處理技術(shù)實現(xiàn)了高速掃描和低噪音的觀察和以前的常規(guī)掃描電子顯微鏡相比*2,自動功能縮短*3了大約11秒具有在低真空時可以非常好地觀察樣品最表面的細(xì)微形狀的“UVD(超高靈敏度可變壓力探測器)”*4具有實現(xiàn)了實時立體成像的“實時立體觀察功能”*4(*2):和日立SEM S-3400N相比(*3):根據(jù)觀察條件的不同,時間會有變動(*4):自選規(guī)格項目描述二次電子分辨率3.0nm(加速電壓=30kV,WD=5mm高真空模式)7.0nm(加速電壓=3kV,WD=5mm高真空模式)背散射電子分辨率4.0nm(加速電壓=30kV,WD=5mm低真空模式)10.0nm(加速電壓=5kV,WD=5mm高真空模式)放大倍率5 - 300,000倍(底片倍率*5)7 - 800,000倍(顯示器顯示倍率*6)加速電壓0.3 - 30kV可變壓力范圍6 - 650Pa最大樣品尺寸直徑 200mm樣品臺X0 - 100mmY0 - 50mmZ5 - 65mmR360°T-20° - 90°可觀察區(qū)域直徑 130mm (旋轉(zhuǎn)并用)最大樣品高度80mm(WD=10mm)馬達(dá)臺5軸標(biāo)配電子光學(xué)系統(tǒng)電子槍預(yù)對中的鎢燈絲物鏡光闌4孔可動光闌探檢測器埃弗哈特 索恩利 二次電子探測器高靈敏度半導(dǎo)體背散射電子檢測器EDX分析 WD10mm(取出角35°)圖像顯示操作系統(tǒng)Windows7*7(如有更改,恕不另行通知)圖像顯示模式全屏模式(1,280 × 960 像素)小屏模式(800 × 600 像素)雙圖像顯示(800 × 600 像素)四屏幕顯示(640 × 480像素)信號混合模式排氣系統(tǒng)操作全自動排氣渦輪分子泵210升/秒 × 1機(jī)械泵135L/min(162L/min,60Hz)× 1(*2):以127mm×95mm(圖像尺寸4"×5")的顯示尺寸規(guī)定倍率(*3):以345mm×259mm(像素1,280×960)的顯示尺寸規(guī)定倍率(*4):Windows是微軟公司在美國和其他國家的注冊商標(biāo)


品牌: 深圳善時 型號: SS-60 產(chǎn)地:深圳 供應(yīng)商:深圳市善時儀器有限公司

SS-60系列臺式掃描電鏡具有體型小巧,占用空間?。? 放大倍率30~60,000X,15nm分辨率; 采用二次電子和背散電子兩種探測器; SS-60掃描電鏡具有強大軟件功能,操作簡單,易于維護(hù); 國產(chǎn)掃描電鏡,良好售后服務(wù)系統(tǒng);


品牌: 深圳善時 型號: SS-150 產(chǎn)地:深圳 供應(yīng)商:深圳市善時儀器有限公司

SS-150系列臺式掃描電鏡具有體型小巧,占用空間小; 放大倍率30~150,000X; 5nm分辨率; 采用二次電子和背散電子兩種探測器; 通過選配EDS可進(jìn)行元素成份分析; SS-150系列掃描電鏡具有強大軟件功能,操作簡單,易于維護(hù); 國產(chǎn)掃描電鏡,良好售后服務(wù)系統(tǒng);


品牌: 日本電子 型號: JSM-6510 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:深圳市瑞盛科技有限公司

JSM-6510掃描電子顯微鏡 不是所有的JEOL產(chǎn)品能在所有的國家使用。產(chǎn)品性能及詳情請聯(lián)系地區(qū) JEOL 辦事處或銷售商。謝謝。 JSM-6510A/ JSM-6510LA分析型掃描電子顯微鏡,與日本電子公司的元素分析儀(EDS),統(tǒng)合于一體。結(jié)構(gòu)緊湊的EDS由顯微鏡主體系統(tǒng)的電腦控制,操作員只用一只鼠標(biāo),就可完成從圖像觀測到元素分析的整個過程。 操作窗口 直觀的操作界面的設(shè)計,簡明易懂便于迅速掌握操作。 支持多用戶 單個用戶可以根據(jù)常用功能設(shè)置相應(yīng)的圖標(biāo),營造快捷的操作環(huán)境。用戶登錄時,即可加載已注冊過的設(shè)定。
畫面上并列顯示二次電子成像和背散射電子成像這兩種實時圖像。可同時觀察樣品的形貌和組成分布。 微細(xì)結(jié)構(gòu)測量 適合于多種測量功能??稍谟^察圖像上直接進(jìn)行測量。也可將測量結(jié)果貼至SEM圖像,保存在文件中。
分析型掃描電子顯微鏡配備兩臺監(jiān)視器,一臺用于SEM圖像觀察和另一臺用于元素分析(EDS)。一只通用鼠標(biāo)即可同時控制兩臺監(jiān)視器。大尺寸畫面使操作更加簡便與舒適。
工廠預(yù)置中心燈絲,十分便于更換。因此,可長期保持穩(wěn)定的高性能。此外,操作界面還能以映像形式顯示燈絲維護(hù)的步驟說明。 可信賴的真空系統(tǒng) 真空系統(tǒng)使用高性能的擴(kuò)散泵保證了潔凈的高真空狀態(tài)。擴(kuò)散泵內(nèi)部無活動部件,體現(xiàn)了操作穩(wěn)定,維護(hù)簡便的特色。 JSM-6510規(guī)格 保證分辨率 3.0nm(30kV) 8.0nm(3kV) 15nm(1kV) 放大倍數(shù) 5至300,000x 加速電壓 0.5kV至30kV 電子槍 工廠預(yù)對中燈絲 聚光鏡 變焦聚光鏡 物鏡 錐形物鏡 樣品臺 全對中樣品臺 X-Y 80mm-40mm Z 5mm至48mm 旋轉(zhuǎn) 360° 傾斜 -10°至+90° 排氣系統(tǒng) (高真空模式) DPx1,RPx1 排氣系統(tǒng) (低真空模式) DPx1,RPx2


品牌: 美國FEI 型號: SEM 450/660 產(chǎn)地:美國 供應(yīng)商:上海禹重實業(yè)有限公司

該產(chǎn)品是世界上第一款可以對有機(jī)材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等有電荷積累的樣品和/或污染性樣品進(jìn)行超高分辨表征的低真空場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FEG-SEM)。作為FEI公司引領(lǐng)市場的眾多設(shè)備中最新的一員,Nova NanoSEM為用戶在納米研究、開發(fā)與生產(chǎn)的相關(guān)工作提供了更多的可能。Nova NanoSEM的出現(xiàn)為那些非導(dǎo)電的以及有污染的納米材料研究和開發(fā)者們帶來了新的表征手段。與NanoSEM同時發(fā)布的FEI Helix探測技術(shù)將浸入式透鏡和低真空掃描電鏡兩種技術(shù)成功地組合在一起,這在場發(fā)射掃描電鏡的歷史上還是第一次。在給用戶帶來超高分辨率的同時,還能在低真空環(huán)境下有效地抑制非導(dǎo)電材料的電荷積累效應(yīng)。Nova NanoSEM的這種新技術(shù)還可以有效地抑制由前道樣品處理過程所引起的電子束誘導(dǎo)污染。除了低真空條件下二次電子和背散射電子成像以外,Nova NanoSEM還具有浸入式透鏡的技術(shù)和FEI所特有的使用電子束進(jìn)行納米結(jié)構(gòu)沉積的氣體化學(xué)技術(shù),所有的這些特點使之成為納米結(jié)構(gòu)與納米材料研究領(lǐng)域中最先進(jìn)、最理想的掃描電鏡技術(shù)參數(shù)1. 分辨率高真空模式 1.0nm @ 15kV 1.8nm @ 1kV 0.8nm @ 30kV(STEM探測器)低真空模式 1.5nm @ 10kV(Helix探測器) 1.8nm @ 3kV(Helix探測器)2. 加速電壓 200V - 30kV,連續(xù)可調(diào)3. 電子束流范圍 0.3pA - 100nA, 連續(xù)可調(diào)4. 樣品臺移動范圍Nova NanoSEM 230: X=Y=50mmNova NanoSEM 430: X=Y=100mmNova NanoSEM 630: X=Y=150mm主要特點1. 超高分辨率Schottky場發(fā)射電子槍2. 全球唯一的超高分辨率低真空場發(fā)射掃描電鏡. 具有高真空和低真空( 200Pa)兩種真空模式.3. 對容易污染、容易電荷積累的納米材料和納米器件進(jìn)行觀察和分析4. 完全無油真空系統(tǒng)5. 可選配電子束曝光、電子束誘導(dǎo)沉積等納米設(shè)計/加工功能6. FEI公司基于Windows XP的-xT用戶界面


品牌: 美國FEI 型號: Quanta 650 產(chǎn)地:美國 供應(yīng)商:北京源海威科技有限公司

研究各種各樣的材料,并進(jìn)行結(jié)構(gòu)和成份表征,是目前對掃描電鏡的主流應(yīng)用要求。FEI Quanta FEG系列靈活、通用,足以應(yīng)對當(dāng)今人們廣博的研究方向這一挑戰(zhàn)。“分析任何樣品,得到所有數(shù)據(jù)”,在Quanta FEG上可得到表面像和成份像,并可輔以多種附件來確定材料的性質(zhì)和元素組成。 Quanta 50 FEG系列是基于前兩代成功的肖特基場發(fā)射環(huán)境掃描技術(shù)開發(fā)的第三代Quanta系列產(chǎn)品。這一系列產(chǎn)品用戶界面使用起來十分方便、靈活,有多種功能最大程度地發(fā)揮其使用效率,并且允許采集所有需要的數(shù)據(jù)。它是電鏡專家設(shè)計來給電鏡專家使用的儀器,性能遠(yuǎn)不止“簡便易用”。這些功能有:特有的圖像導(dǎo)航功能包括蒙太奇圖像導(dǎo)航、鼠標(biāo)雙擊樣品臺移動、鼠標(biāo)拖曳放大居中功能以及其它標(biāo)準(zhǔn)的特色技術(shù);SmartSCAN,一種智能掃描技術(shù),能降低信號噪音,提供更好的數(shù)據(jù);電子束減速模式,一個新的選項,將鎢燈絲掃描電鏡的低加速電壓性能提高到一個全新的水平;Nav-Cam彩色圖像導(dǎo)航器及新開發(fā)的探測器也大大增加了其靈活性。一、主要優(yōu)點1)世界上唯一具有環(huán)境掃描技術(shù)的高分辨場發(fā)掃描電鏡2)在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品,得到二次電子像和背散射電子像3)最大程度降低樣品制備要求:低真空/環(huán)境真空技術(shù)使得不導(dǎo)電樣品和/或含水樣品不經(jīng)導(dǎo)電處理即可直接成像和分析,樣品表面無電荷累積現(xiàn)象4)專利的“穿過透鏡”的壓差真空系統(tǒng),對導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品都可進(jìn)行EDS/EBSD分析,不管是在高真空模式或在低真空模式。穩(wěn)定的大束流(最大 200 nA)確保能譜及EBSD分析工作的快速、準(zhǔn)確5)電鏡可作為一個微觀實驗室。安裝特殊的原位樣品臺后,在從- 165 °C到1500 °C溫度范圍內(nèi),對多種樣品保持其原始狀態(tài)下進(jìn)行動態(tài)原位分析6)對導(dǎo)電樣品,可選用減速模式得到表面和成份信息7)直觀、簡便易用的軟件,即使電鏡新手也能輕易上手二、典型應(yīng)用:1、納米表征1)金屬及合金, 氧化/腐蝕, 斷口, 焊點, 拋光斷面, 磁性及超導(dǎo)材料2)陶瓷, 復(fù)合材料, 塑料3)薄膜/涂層地質(zhì)樣品斷面, 礦物4)軟物質(zhì): 聚合物, 藥品, 過濾膜, 凝膠, 生物組織, 木材5)顆粒, 多孔材料, 纖維2、原位過程分析1)增濕/去濕2)浸潤行為/接觸角分析3)氧化/腐蝕4)拉伸 (伴隨加熱或冷卻)5)結(jié)晶/相變3、納米原型制備1)電子束曝光 (EBL)2)電子束誘導(dǎo)沉積(EBID)三、主要參數(shù)1、電子光學(xué)1)高分辨肖特基場發(fā)射電子槍2)優(yōu)化的高亮度、大束流鏡筒3)45°錐度物鏡極靴,及“穿過透鏡”的壓差真空系統(tǒng),加熱式物鏡光闌4)加速電壓: 200 V - 30 kV5)束流: 最大200 nA并連續(xù)可調(diào)6)放大倍數(shù): 6 x 1,000,000 x (四幅圖像顯示)2、分辨率1)高真空30 kV下0.8 nm (STEM)*30 kV下1.0 nm (SE)30 kV下2.5 nm (BSE)*1 kV下3.0 nm (SE)2)高真空下減速模式*1 kV下3.0 nm (BSE)*1 kV下2.3 nm (ICD)*200 V下3.1 nm (ICD)*3)低真空30 kV下1.4 nm (SE)30 kV下 2.5 nm (BSE)3 kV下3.0 nm (SE)4)環(huán)境真空 (ESEM)30 kV下1.4 nm (SE)3、檢測器1)E-T二次電子探頭2)大視場低真空氣體二次電子探頭 (LFD)3)氣體二次電子探頭 (GSED)4)樣品室紅外CCD相機(jī)5)高靈敏度、低電壓固體背散射探頭*6)氣體背散射探頭*7)四分固體背散射探頭*8)閃爍體型背散射探頭/CLD*9)vCD (低電壓、高襯度探頭)*10)鏡筒內(nèi)探頭(ICD),用于減速模式下二次電子檢測*11)電子束流檢測器*12)分析型氣體背散射探頭 (GAD)*13)STEM探頭*14)Nav-Cam 光學(xué)相機(jī)彩色成像,用于樣品導(dǎo)航*15)陰極熒光探測器*16)能譜*17)波譜*18)EBSD*19)極靴底部安裝四環(huán)分隔式定向型背散射電子探頭 (DBS) 4、真空系統(tǒng)1)1個 250 l/s 渦輪分子泵, 2個機(jī)械泵2)專利的“穿過透鏡”的壓差真空系統(tǒng)3)電子束在氣體區(qū)域的行程:10 mm或2 mm4)可升級成無油機(jī)械泵5)2個離子泵6)樣品室真空度 (高真空模式) 6e-4 Pa7)樣品室真空度(低真空模式) 10 to 130 Pa8)樣品室真空度(環(huán)境真空模式) 10 to 4000 Pa9)典型換樣時間: 高真空模式≤ 150秒;低真空及環(huán)境真空模式≤ 270秒 (FEI標(biāo)準(zhǔn)測試程序)5、樣品室1)左右內(nèi)徑379mm2)10 mm分析工作距離3)10個探測器 / 附件接口4)EDS采集角: 35°6、樣品臺1)X/Y = 150 mm2)Z = 65 mm3)Z向間隙93.5mm4)傾斜:- 5° - + 70°5)連續(xù)旋轉(zhuǎn)360°6)重復(fù)精度: 2 μm (X/Y方向)7)偽全對中樣品臺7、圖像處理器1)最大6144 x 4096像素2)圖像文件格式:TIFF (8,16 or 24 bit), BMP or JPEG3)單窗口或四窗口圖像顯示4)四活動窗口5)實時或靜態(tài)按彩色或按灰度等級信號混合6)256 幀平均或積分7)數(shù)字動畫記錄 (.avi格式)8)直方圖及圖像測量軟件9)DCFI (漂移補償積分)8、支持軟件1)SmartSCAN 智能掃描技術(shù)2)蒙太奇圖像導(dǎo)航3)軟件溫度控制4)FEI動畫生成工具


品牌: 美國FEI 型號: Quanta 450FEG 產(chǎn)地:美國 供應(yīng)商:北京源海威科技有限公司

研究各種各樣的材料,并進(jìn)行結(jié)構(gòu)和成份表征,是目前對掃描電鏡的主流應(yīng)用要求。FEI Quanta FEG系列靈活、通用,足以應(yīng)對當(dāng)今人們廣博的研究方向這一挑戰(zhàn)?!胺治鋈魏螛悠罚玫剿袛?shù)據(jù)”,在Quanta FEG上可得到表面像和成份像,并可輔以多種附件來確定材料的性質(zhì)和元素組成。一、 主要優(yōu)點1) 世界上唯一具有環(huán)境掃描技術(shù)的高分辨場發(fā)射掃描電鏡2) 在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品,得到二次電子像和背散射電子像3) 最大程度降低樣品制備要求:低真空/環(huán)境真空技術(shù)使得不導(dǎo)電樣品和/或含水樣品不經(jīng)導(dǎo)電處理即可直接成像和分析,樣品表面無電荷累積現(xiàn)象4) 專利的“穿過透鏡”的壓差真空系統(tǒng),對導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品都可進(jìn)行EDS/EBSD分析,不管是在高真空模式或在低真空模式。穩(wěn)定的大束流(最大 200 nA)確保能譜及EBSD分析工作的快速、準(zhǔn)確5) 電鏡可作為一個微觀實驗室。安裝特殊的原位樣品臺后,在從- 165 °C到1500 °C溫度范圍內(nèi),對多種樣品保持其原始狀態(tài)下進(jìn)行動態(tài)原位分析6) 對導(dǎo)電樣品,可選用減速模式得到表面和成份信息7) 直觀、簡便易用的軟件,即使電鏡新手也能輕易上手二、 典型應(yīng)用1、納米表征1)金屬及合金, 氧化/腐蝕, 斷口, 焊點, 拋光斷面, 磁性及超導(dǎo)材料2)陶瓷, 復(fù)合材料, 塑料3)薄膜/涂層地質(zhì)樣品斷面, 礦物4)軟物質(zhì): 聚合物, 藥品, 過濾膜, 凝膠, 生物組織, 木材5)顆粒, 多孔材料, 纖維2、原位過程分析1)增濕/去濕2)浸潤行為/接觸角分析3)氧化/腐蝕4)拉伸 (伴隨加熱或冷卻)5)結(jié)晶/相變3、納米原型制備1)電子束曝光 (EBL)2)電子束誘導(dǎo)沉積(EBID)三、主要參數(shù)1、電子光學(xué)1)高分辨肖特基場發(fā)射電子槍2)優(yōu)化的高亮度、大束流鏡筒3)45°錐度物鏡極靴,及“穿過透鏡”的壓差真空系統(tǒng),加熱式物鏡光闌4)加速電壓: 200 V - 30 kV5)束流: 最大200 nA并連續(xù)可調(diào)6)放大倍數(shù): 6 x 1,000,000 x (四幅圖像顯示)2、分辨率1)高真空30 kV下0.8 nm (STEM)*30 kV下1.0 nm (SE)30 kV下2.5 nm (BSE)*1 kV下3.0 nm (SE)2)高真空下減速模式*1 kV下3.0 nm (BSE)*1 kV下2.3 nm (ICD)*200 V下3.1 nm (ICD)*3)低真空30 kV下1.4 nm (SE)30 kV下 2.5 nm (BSE)3 kV下3.0 nm (SE)4)環(huán)境真空 (ESEM)30 kV下1.4 nm (SE)3、檢測器1)E-T二次電子探頭2)大視場低真空氣體二次電子探頭 (LFD)3)氣體二次電子探頭 (GSED)4)樣品室紅外CCD相機(jī)5)高靈敏度、低電壓固體背散射探頭*6)氣體背散射探頭*7)四分固體背散射探頭*8)閃爍體型背散射探頭/CLD*9)vCD (低電壓、高襯度探頭)*10)鏡筒內(nèi)探頭(ICD),用于減速模式下二次電子檢測*11)電子束流檢測器*12)分析型氣體背散射探頭 (GAD)*13)STEM探頭*14)Nav-Cam 光學(xué)相機(jī)彩色成像,用于樣品導(dǎo)航*15)陰極熒光探測器*16)能譜*17)波譜*18)EBSD*19)極靴底部安裝四環(huán)分隔式定向型背散射電子探頭 (DBS)*4、真空系統(tǒng)1)1個 250 l/s 渦輪分子泵, 2個機(jī)械泵2)專利的“穿過透鏡”的壓差真空系統(tǒng)3)電子束在氣體區(qū)域的行程:10 mm或2 mm4)可升級成無油機(jī)械泵5)2個離子泵6)樣品室真空度 (高真空模式) 6e-4 Pa7)樣品室真空度(低真空模式) 10 to 130 Pa8)樣品室真空度(環(huán)境真空模式) 10 to 4000 Pa9)典型換樣時間: 高真空模式≤ 150秒;低真空及環(huán)境真空模式≤ 270秒 (FEI標(biāo)準(zhǔn)測試程序)5、樣品室1)左右內(nèi)徑284 mm2)10 mm分析工作距離3)8個探測器 / 附件接口4)EDS采集角: 35°6、樣品臺1)X/Y = 100 mm2)Z = 60 mm3)Z向間隙75mm4)傾斜:- 5° - + 70°5)連續(xù)旋轉(zhuǎn)360°6)重復(fù)精度: 2 μm (X/Y方向)7)偽全對中樣品臺7、樣品座1)多樣品座2)單樣品座3)通用樣品座套件*4)適用于硅片或其它特殊要求的樣品座*8、圖像處理器1)最大6144 x 4096像素2)圖像文件格式:TIFF (8,16 or 24 bit), BMP or JPEG3)單窗口或四窗口圖像顯示4)四活動窗口5)實時或靜態(tài)按彩色或按灰度等級信號混合6)256 幀平均或積分7)數(shù)字動畫記錄 (.avi格式)8)直方圖及圖像測量軟件9)DCFI (漂移補償積分)9、支持軟件1)SmartSCAN 智能掃描技術(shù)2)蒙太奇圖像導(dǎo)航3)軟件溫度控制4)FEI動畫生成工具


品牌: 日立 型號: FlexSEM1000 II 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

體積小、操作簡單、性能強(4nm@20kV)、擴(kuò)展功能豐富 擁有多個探測器(SE、BSE) 擁有低真空功能,不導(dǎo)電和含水樣品直接觀察


品牌: 日立 型號: Regulus8200系列 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

1.選配頂端過濾器,可實現(xiàn)良好的成分對比度; 2.優(yōu)異的擴(kuò)展功能,可附加多種功能附件。


品牌: 日立 型號: SU3800 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

HexBias偏壓鎢燈絲電子槍; 優(yōu)異的高、低電壓性能; 高靈敏度五分割背散射電子探測器; 可變壓力二次電子探測器(高、低真空可用)。


品牌: 日立 型號: SU3900 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

全自動燈絲設(shè)定和合軸; 報告導(dǎo)出和圖片處理; 可集成的EDS; 簡單方便的維護(hù)(燈絲更換視頻)。


品牌: 韓國Seron 型號: AURA 100 產(chǎn)地:韓國 供應(yīng)商:聚擘國際貿(mào)易(上海)有限公司

AURA 100掃描電子顯微鏡(SEM)桌上型迷你SEM針對宏觀領(lǐng)域的應(yīng)用及初用者1) 價格低性能高的桌上型迷你SEM超高性能臺式掃描電鏡系統(tǒng)2) 兩級透鏡系統(tǒng)自由電子束對準(zhǔn)3) 電子束對準(zhǔn)操作簡單4) 配備強大的測量工具和分析軟件5) 尺寸小[388(W) × 600(D) × 565(H)]6) 用戶友好型操作界面,操作簡單


品牌: 韓國Seron 型號: AURA 200 產(chǎn)地:韓國 供應(yīng)商:聚擘國際貿(mào)易(上海)有限公司

掃描電鏡,掃描電子顯微鏡,SEM,透射電子顯微鏡,透射電鏡,場發(fā)射電子顯微鏡AURA 200掃描電子顯微鏡(SEM)桌上型迷你SEM通過SERON的由頂向下技術(shù)設(shè)計1) 具有低真空模式低成本模式2) 可獲得低KV圖像(從1KV),用于不導(dǎo)電樣品3) 雙縫透鏡設(shè)計減少球面像差4) 配備強大的測量工具和分析軟件5) 用戶友好型操作系統(tǒng)6) 尺寸小[388(W) ×600(D) × 638(H)]


品牌: 韓國Seron 型號: Seron AIS1800C 產(chǎn)地:韓國 供應(yīng)商:聚擘國際貿(mào)易(上海)有限公司

AIS1800C緊湊型掃描電子顯微鏡(SEM)學(xué)術(shù)版緊湊迷你型SEM 世界上最好的緊湊型設(shè)計的迷你型SEM,同時適用于辦公室環(huán)境1) 主動隔振系統(tǒng)以減小環(huán)境震動影響2) 緊湊型設(shè)計,配備輪式底盤以便移動3) 最小的安裝空間:540(W)×570(D)×1300(H)mm34) 配備ET-BSE背散射電子探測器5) 針對不導(dǎo)電樣品可實現(xiàn)低KV影像(從1kV)6) 配備功能強大的分析軟件,同時具備通用功能7) EDS探測角度25° (對于標(biāo)準(zhǔn)型EDS)


品牌: 韓國Seron 型號: AURA 100/200 產(chǎn)地:韓國 供應(yīng)商:聚擘國際貿(mào)易(上海)有限公司

AURA 100掃描電子顯微鏡(SEM)桌上型迷你SEM針對宏觀領(lǐng)域的應(yīng)用及初用者1) 價格低性能高的桌上型迷你SEM超高性能臺式掃描電鏡系統(tǒng)2) 兩級透鏡系統(tǒng)自由電子束對準(zhǔn)3) 電子束對準(zhǔn)操作簡單4) 配備強大的測量工具和分析軟件5) 尺寸小[388(W) × 600(D) × 565(H)]6) 用戶友好型操作界面,操作簡單AURA 200掃描電子顯微鏡(SEM)桌上型迷你SEM通過SERON的由頂向下技術(shù)設(shè)計1) 具有低真空模式低成本模式2) 可獲得低KV圖像(從1KV),用于不導(dǎo)電樣品3) 雙縫透鏡設(shè)計減少球面像差4) 配備強大的測量工具和分析軟件5) 用戶友好型操作系統(tǒng)6) 尺寸小[388(W) ×600(D) × 638(H)]


品牌: 北京馳奔 型號: Veritas-300plus 產(chǎn)地:韓國 供應(yīng)商:北京馳奔儀器有限公司

【簡介】 馳奔儀器-E系列鎢燈絲掃描電鏡,采用統(tǒng)一的優(yōu)良電子光學(xué)技術(shù),臺式電鏡和立式電鏡具有相同的分辨率性能和圖像質(zhì)量。電子槍均可升級為亮度提高10倍的更高級的電子槍,實現(xiàn)納米尺度形貌快速表征。樣品臺均采用先進(jìn)優(yōu)中心結(jié)構(gòu),方便3D重構(gòu)Veritas系列大型掃描電鏡,標(biāo)準(zhǔn)配置五軸優(yōu)中心全自動樣品臺,樣品室可同時接配二次電子(SE)、背散射電子(BSE)、X射線能譜(EDS)、波譜儀(WDS)、電子背散射衍射(EBSD)、陰極熒光(CL)等探測器附件。是一款媲美歐美大型掃描電鏡,功能強大的電子顯微分析平臺,相對歐美同類產(chǎn)品具有很高性價比。Veritas-300plus ,二次電子 + 背散射電子雙探測器成像,具有低真空環(huán)境,是一款高效率、經(jīng)濟(jì)型現(xiàn)代經(jīng)典立式掃描電鏡?!局饕攸c】●專門的經(jīng)濟(jì)型、拓展能力極強的大型樣品倉掃描電鏡●高分辨成像能力,滿足納米尺度快速形貌表征●五軸全自動,大批量分析測試,高效率●雙探測器,精細(xì)形貌和高分辨成分分布●樣品室等離子體消除荷電,絕緣體可直接觀察●一體化設(shè)計,可隨時移動?!窨山优渌幸?guī)格及高性能EDS,具有大型掃描電鏡的分析效果●優(yōu)中心樣品臺、可輕易實現(xiàn)立體對圖像采集,重構(gòu)3D形貌像?!具m用范圍】: 掃描電鏡廣泛應(yīng)用于冶金、機(jī)械、陶瓷、化工、半導(dǎo)體、電子器件、紡織、生物學(xué)等行業(yè)領(lǐng)域,適用于科學(xué)研究,工業(yè)產(chǎn)品失效分析,產(chǎn)品可靠性控制。先進(jìn)的電子光學(xué)性能,滿足客戶從幾倍到幾十萬倍的快速觀察分析,不但具有強大的圖像處理分析功能,還能廣泛連接各種標(biāo)準(zhǔn)或者非標(biāo)準(zhǔn)探測器,拓展成為可靠的分析型電鏡,實現(xiàn)用戶對材料的全方位微觀分析。Veritas-300適合大批量樣品快速分析測試,需要多種分析附件原位分析,大塊樣品測試。簡便的操作控制軟件,全鼠標(biāo)鍵盤操作,多種自動工具輔助獲得最佳圖像質(zhì)量樣品室CCD攝像機(jī)安全監(jiān)控五軸計算機(jī)導(dǎo)航控制,樣品坐標(biāo)可存儲【安裝示意】【性能指標(biāo)】型號Veritas-300plus樣品臺五軸優(yōu)中心,全自動X: 120mmY: 120mmZ: 5-65mmR: 360°無限T: -20°~90°電子槍預(yù)對中鎢燈絲 三極自動偏壓加速電壓200V-30KV (最大發(fā)射電流190μA @ 30KV/最大電子槍功率:5.7W)探測器ET-SED, Semconductor Solid state Bse Detector物鏡光闌20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌分辨率4nm @30KV ( SEI) 5nm@30KV (Bse Image)放大倍數(shù)10-300,000 X樣品室內(nèi)部尺寸 230(W)x210(D)x260(H)mm ,Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口最大樣品尺寸Φ210mm X 65mm工作距離0-65mm掃描光柵運動電位移 ±50μm, 電旋轉(zhuǎn) 0-360°掃描模式聚焦模式:320x240 像素 ,尺寸可變TV模式:800x 600像素 慢掃描模式,用于TV及聚焦模式。照相模式:800x600、960x720、1024x768、1600x1200、最大3200x2400像素動態(tài)聚焦,傾斜補償圖像格式JPG、TIFF、bmp、PNG真空模式高真空優(yōu)于9x10-3Pa低真空范圍 10-230Pa真空系統(tǒng)全自動真空系統(tǒng),真空高壓連鎖安全保護(hù)(高真空時間小于3分鐘)-渦輪分子泵 -旋片式機(jī)械真空泵 -電動閥門系統(tǒng):真空閘板閥、電磁閥等 自動功能亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和,物鏡光闌搖擺對中軟件系統(tǒng)基于Win8,Virtuoso1.1專用控制軟件. 內(nèi)嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。100%鼠標(biāo)鍵盤操作。主機(jī)尺寸/重量800(W)x825(D)x 1500(H)mm /200kg電源單相交流 220V 、50Hz、1KW耗材附件預(yù)對中燈絲,樣品托,碳導(dǎo)電膠帶,導(dǎo)電銀膠,專用工具可選配置四象限BSED | 樣品室攝像機(jī) | 升級LaB6/CeB6陰極 | 3D重構(gòu)成像軟件 | 拉曼光譜 | EDS能譜儀 | WDS波譜儀 | EBSD 電子背散射衍射 | CL 陰極熒光 |電子束曝光裝置


品牌: 北京馳奔 型號: Veritas-300 產(chǎn)地:韓國 供應(yīng)商:北京馳奔儀器有限公司

【簡介】馳奔儀器-E系列鎢燈絲掃描電鏡,采用統(tǒng)一的優(yōu)良電子光學(xué)技術(shù),臺式電鏡和立式電鏡具有相同的分辨率性能和圖像質(zhì)量。電子槍均可升級為亮度提高10倍的更高級的電子槍,實現(xiàn)納米尺度形貌快速表征。樣品臺均采用先進(jìn)優(yōu)中心結(jié)構(gòu),方便3D重構(gòu)Veritas系列大型掃描電鏡,標(biāo)準(zhǔn)配置五軸優(yōu)中心全自動樣品臺,樣品室可同時接配二次電子(SE)、背散射電子(BSE)、X射線能譜(EDS)、波譜儀(WDS)、電子背散射衍射(EBSD)、陰極熒光(CL)等探測器附件。是一款媲美歐美大型掃描電鏡,功能強大的電子顯微分析平臺,相對歐美同類產(chǎn)品具有很高性價比。Veritas-300 ,二次電子探測器成像,是一款高效率、經(jīng)濟(jì)型傳統(tǒng)經(jīng)典立式掃描電鏡?!局饕攸c】●專門的經(jīng)濟(jì)型、拓展能力極強的大型樣品倉掃描電鏡●高分辨成像能力,滿足納米尺度快速形貌表征●五軸全自動,大批量分析測試,高效率●一體化設(shè)計,可隨時移動?!窨山优渌幸?guī)格及高性能EDS,具有大型掃描電鏡的分析效果●優(yōu)中心樣品臺、可輕易實現(xiàn)立體對圖像采集,重構(gòu)3D形貌像。【適用范圍】: 掃描電鏡廣泛應(yīng)用于冶金、機(jī)械、陶瓷、化工、半導(dǎo)體、電子器件、紡織、生物學(xué)等行業(yè)領(lǐng)域,適用于科學(xué)研究,工業(yè)產(chǎn)品失效分析,產(chǎn)品可靠性控制。先進(jìn)的電子光學(xué)性能,滿足客戶從幾倍到幾十萬倍的快速觀察分析,不但具有強大的圖像處理分析功能,還能廣泛連接各種標(biāo)準(zhǔn)或者非標(biāo)準(zhǔn)探測器,拓展成為可靠的分析型電鏡,實現(xiàn)用戶對材料的全方位微觀分析。 Veritas-300適合大批量樣品快速分析測試,需要多種分析附件原位分析,大塊樣品測試。簡便的操作控制軟件,全鼠標(biāo)鍵盤操作,多種自動工具輔助獲得最佳圖像質(zhì)量樣品室CCD攝像機(jī)安全監(jiān)控五軸計算機(jī)導(dǎo)航控制,樣品坐標(biāo)可存儲【安裝示意】【性能指標(biāo)】型號Veritas-300樣品臺五軸優(yōu)中心,計算導(dǎo)航,五軸全自動控制X: 120mmY: 120mmZ: 5-65mmR: 360°無限T: -20°~90°電子槍預(yù)對中鎢燈絲 三極自動偏壓加速電壓200V-30KV (最大發(fā)射電流190μA @ 30KV/最大電子槍功率:5.7W)探測器ET-SED物鏡光闌20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌分辨率4nm @30KV ( SEI)放大倍數(shù)10-300,000 X樣品室內(nèi)部尺寸 230(W)x210(D)x260(H)mm ,Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口最大樣品尺寸Φ210mm X 65mm工作距離0-65mm掃描光柵運動電位移 ±50μm, 電旋轉(zhuǎn) 0-360°掃描模式聚焦模式:320x240 像素 ,尺寸可變TV模式:800x 600像素 慢掃描模式,用于TV及聚焦模式。照相模式:800x600、960x720、1024x768、1600x1200、最大3200x2400像素動態(tài)聚焦,傾斜補償圖像格式JPG、TIFF、bmp、PNG真空模式高真空優(yōu)于9x10-3Pa真空系統(tǒng)全自動真空系統(tǒng),真空高壓連鎖安全保護(hù)(高真空時間小于3分鐘)-渦輪分子泵 -旋片式機(jī)械真空泵 -電動閥門系統(tǒng):真空閘板閥、電磁閥等 自動功能亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和,物鏡光闌搖擺對中軟件系統(tǒng)基于Win8,Virtuoso1.1專用控制軟件. 內(nèi)嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。100%鼠標(biāo)鍵盤操作。主機(jī)尺寸/重量800(W)x825(D)x 1500(H)mm /200kg電源單相交流 220V 、50Hz、1KW耗材附件預(yù)對中燈絲,樣品托,碳導(dǎo)電膠帶,導(dǎo)電銀膠,專用工具可選配置四象限BSED | 樣品室攝像機(jī) | 升級LaB6/CeB6陰極 | 3D重構(gòu)成像軟件 | 拉曼光譜 | EDS能譜儀 | WDS波譜儀 | EBSD 電子背散射衍射 | CL 陰極熒光 |電子束曝光裝置


品牌: 北京馳奔 型號: Genesis-500Aplus 產(chǎn)地:韓國 供應(yīng)商:北京馳奔儀器有限公司

【簡介】 馳奔儀器-E系列鎢燈絲掃描電鏡,采用統(tǒng)一的優(yōu)良電子光學(xué)技術(shù),臺式電鏡和立式電鏡具有相同的分辨率性能和圖像質(zhì)量。電子槍均可升級為亮度提高10倍的更高級的電子槍,實現(xiàn)納米尺度形貌快速表征。樣品臺均采用先進(jìn)優(yōu)中心結(jié)構(gòu),方便3D重構(gòu)Genesis系列小型立式掃描電鏡,標(biāo)準(zhǔn)配置五軸優(yōu)中心樣品臺,樣品室可同時接配二次電子(SE)、背散射電子(BSE)、X射線能譜(EDS)等探測器或附件,可拓展波譜儀(WDS)、電子背散射衍射(EBSD)、陰極熒光(CL)附件。是一款小巧、功能強大的電子顯微分析平臺。Genesis-500Aplus 采用五軸全自動優(yōu)中心樣品臺,二次電子+背散射電子探測器成像,樣品室低真空環(huán)境,可直接觀察絕緣體,是一款高效率、經(jīng)濟(jì)現(xiàn)代經(jīng)典立式掃描電鏡?!局饕攸c】:●專門的經(jīng)濟(jì)型、拓展強大的小型立式掃描電鏡●高分辨成像能力,滿足納米尺度快速形貌表征●批量分析測試,高效率●精細(xì)形貌和高分辨率成分襯度雙探測器●樣品室低真空等離子體消除絕緣樣品荷電●體型小巧,節(jié)約空間,可隨時移動。●可接配所有規(guī)格及高性能EDS,具有大型掃描電鏡的分析效果●優(yōu)中心樣品臺、可輕易實現(xiàn)立體對圖像采集,重構(gòu)3D形貌像。*精密五軸自動樣品臺專利的優(yōu)中心樣品臺(多工位樣品托)簡便的操作控制軟件,全鼠標(biāo)鍵盤操作,多種自動工具輔助獲得最佳圖像質(zhì)量樣品室CCD攝像機(jī)安全監(jiān)控五軸計算機(jī)導(dǎo)航控制,樣品坐標(biāo)可存儲Genesis-小型立式掃描電鏡在北京奧林匹克公園國家會議中心,公開展示體驗。隨時可以移動【適用范圍】: 掃描電鏡廣泛應(yīng)用于冶金、機(jī)械、陶瓷、化工、半導(dǎo)體、電子器件、紡織、生物學(xué)等行業(yè)領(lǐng)域,適用于科學(xué)研究,工業(yè)產(chǎn)品失效分析,產(chǎn)品可靠性控制。先進(jìn)的電子光學(xué)性能,滿足客戶從幾倍到幾十萬倍的快速觀察分析,不但具有強大的圖像處理分析功能,還能廣泛連接各種標(biāo)準(zhǔn)或者非標(biāo)準(zhǔn)探測器,拓展成為可靠的分析型電鏡,實現(xiàn)用戶對材料的全方位微觀分析。Genesis-500Aplus適合批量樣品快速分析測試,適合多種分析附件原位分析,適合生物樣品,絕緣體等非到點樣品直接觀察?!景惭b示意】【性能指標(biāo)】型號Genesis-500Aplus樣品臺五軸優(yōu)中心,計算機(jī)導(dǎo)航,全自動控制X: 40mmY: 40mmZ: 5-45mmR: 360°無限T: -20°~90°電子槍預(yù)對中鎢燈絲 三極自動偏壓加速電壓200V-30KV (最大發(fā)射電流190μA @ 30KV/最大電子槍功率:5.7W)探測器ET-SED, Semiconductor Solid state BseD物鏡光闌20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌分辨率4nm @30KV ( SEI) 5nm@30KV (Bse Image)放大倍數(shù)10-300,000 X樣品室內(nèi)徑φ150mm,Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口最大樣品尺寸Φ96mm X 50mm工作距離0-45mm掃描光柵運動電位移 ±50μm, 電旋轉(zhuǎn) 0-360°掃描模式聚焦模式:320x240 像素 ,尺寸可變TV模式:800x 600像素 慢掃描模式,用于TV及聚焦模式。照相模式:800x600、960x720、1024x768、1600x1200、最大3200x2400像素圖像格式JPG、TIFF、bmp、PNG真空模式高真空優(yōu)于9x10-3Pa樣品室低真空范圍 10-100Pa真空系統(tǒng)全自動真空系統(tǒng),真空高壓連鎖安全保護(hù)(高真空時間小于3分鐘)-渦輪分子泵 -旋片式機(jī)械真空泵 -電動閥門系統(tǒng):真空閘板閥、電磁閥等 自動功能亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和,物鏡光闌搖擺對中軟件系統(tǒng)基于Win8,Virtuoso1.1專用控制軟件. 內(nèi)嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。100%鼠標(biāo)鍵盤操作。主機(jī)尺寸/重量600(W)x623(D)x 1350(H)mm /120kg電源單相交流 220V 、50Hz、1KW耗材附件預(yù)對中燈絲,樣品托,碳導(dǎo)電膠帶,導(dǎo)電銀膠,專用工具可選配置四象限BSED | 樣品室攝像機(jī) | 升級LaB6/CeB6陰極 | 3D重構(gòu)成像軟件 | 拉曼光譜 | EDS能譜儀 | WDS波譜儀 | EBSD 電子背散射衍射 | CL 陰極熒光 |電子束曝光裝置


品牌: 北京馳奔 型號: Genesis-500A 產(chǎn)地:韓國 供應(yīng)商:北京馳奔儀器有限公司

【簡介】 馳奔儀器-E系列鎢燈絲掃描電鏡,采用統(tǒng)一的優(yōu)良電子光學(xué)技術(shù),臺式電鏡和立式電鏡具有相同的分辨率性能和圖像質(zhì)量。電子槍均可升級為亮度提高10倍的更高級的電子槍,實現(xiàn)納米尺度形貌快速表征。樣品臺均采用先進(jìn)優(yōu)中心結(jié)構(gòu),方便3D重構(gòu)Genesis系列小型立式掃描電鏡,標(biāo)準(zhǔn)配置五軸優(yōu)中心樣品臺,樣品室可同時接配二次電子(SE)、背散射電子(BSE)、X射線能譜(EDS)等探測器或附件,可拓展波譜儀(WDS)、電子背散射衍射(EBSD)、陰極熒光(CL)附件。是一款小巧、功能強大的電子顯微分析平臺。Genesis-500A 采用五軸全自動優(yōu)中心樣品臺,二次電子探測器成像,是一款高效率、經(jīng)濟(jì)型傳統(tǒng)經(jīng)典立式掃描電鏡。【主要特點】:●專門的經(jīng)濟(jì)型、拓展強大的小型立式掃描電鏡●高分辨成像能力,滿足納米尺度快速形貌表征●批量分析測試,高效率●體型小巧,節(jié)約空間,可隨時移動?!窨山优渌幸?guī)格及高性能EDS,具有大型掃描電鏡的分析效果●優(yōu)中心樣品臺、可輕易實現(xiàn)立體對圖像采集,重構(gòu)3D形貌像。*精密五軸自動樣品臺專利的優(yōu)中心樣品臺(多工位樣品托)簡便的操作控制軟件,全鼠標(biāo)鍵盤操作,多種自動工具輔助獲得最佳圖像質(zhì)量樣品室CCD攝像機(jī)安全監(jiān)控五軸計算機(jī)導(dǎo)航控制,樣品坐標(biāo)可存儲Genesis-小型立式掃描電鏡在北京奧林匹克公園國家會議中心,公開展示體驗。隨時可以移動【適用范圍】: 掃描電鏡廣泛應(yīng)用于冶金、機(jī)械、陶瓷、化工、半導(dǎo)體、電子器件、紡織、生物學(xué)等行業(yè)領(lǐng)域,適用于科學(xué)研究,工業(yè)產(chǎn)品失效分析,產(chǎn)品可靠性控制。先進(jìn)的電子光學(xué)性能,滿足客戶從幾倍到幾十萬倍的快速觀察分析,不但具有強大的圖像處理分析功能,還能廣泛連接各種標(biāo)準(zhǔn)或者非標(biāo)準(zhǔn)探測器,拓展成為可靠的分析型電鏡,實現(xiàn)用戶對材料的全方位微觀分析。Genesis-500A適合批量樣品快速分析測試,適合多種分析附件原位分析?!景惭b示意】【性能指標(biāo)】型號Genesis-500A樣品臺五軸優(yōu)中心,全自動X:40mm |Y: 40mm | Z: 5-45mm | R:360°無限| T:-20°~90°電子槍預(yù)對中鎢燈絲 三極自動偏壓加速電壓200V-30KV (最大發(fā)射電流190μA @ 30KV/最大電子槍功率:5.7W)探測器ET-SED物鏡光闌20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌分辨率4nm @30KV ( SEI)放大倍數(shù)10-300,000 X樣品室內(nèi)徑φ150mm,Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口最大樣品尺寸Φ96mm X 50mm工作距離0-45mm掃描光柵運動電位移 ±50μm, 電旋轉(zhuǎn) 0-360°掃描模式聚焦模式:320x240 像素 ,尺寸可變TV模式:800x 600像素 慢掃描模式,用于TV及聚焦模式。照相模式:800x600、960x720、1024x768、1600x1200、最大3200x2400像素圖像格式JPG、TIFF、bmp、PNG真空模式高真空優(yōu)于9x10-3Pa真空系統(tǒng)全自動真空系統(tǒng),真空高壓連鎖安全保護(hù)(高真空時間小于3分鐘)-渦輪分子泵 -旋片式機(jī)械真空泵 -電動閥門系統(tǒng):真空閘板閥、電磁閥等 自動功能亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和,物鏡光闌搖擺對中軟件系統(tǒng)基于Win8,Virtuoso1.1專用控制軟件. 內(nèi)嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。100%鼠標(biāo)鍵盤操作。主機(jī)尺寸/重量600(W)x623(D)x 1350(H)mm /120kg電源單相交流 220V 、50Hz、1KW耗材附件預(yù)對中燈絲,樣品托,碳導(dǎo)電膠帶,導(dǎo)電銀膠,專用工具可選配置四象限BSED | 樣品室攝像機(jī) | 升級LaB6/CeB6陰極 | 3D重構(gòu)成像軟件 | 拉曼光譜 | EDS能譜儀 | WDS波譜儀 | EBSD 電子背散射衍射 | CL 陰極熒光 |電子束曝光裝置


品牌: 北京馳奔 型號: Genesis-500Mplus 產(chǎn)地:韓國 供應(yīng)商:北京馳奔儀器有限公司

【簡介】 馳奔儀器-E系列鎢燈絲掃描電鏡,采用統(tǒng)一的優(yōu)良電子光學(xué)技術(shù),臺式電鏡和立式電鏡具有相同的分辨率性能和圖像質(zhì)量。電子槍均可升級為亮度提高10倍的更高級的電子槍,實現(xiàn)納米尺度形貌快速表征。樣品臺均采用先進(jìn)優(yōu)中心結(jié)構(gòu),方便3D重構(gòu)Genesis系列小型立式掃描電鏡,標(biāo)準(zhǔn)配置五軸優(yōu)中心樣品臺,樣品室可同時接配二次電子(SE)、背散射電子(BSE)、X射線能譜(EDS)等探測器或附件,可拓展波譜儀(WDS)、電子背散射衍射(EBSD)、陰極熒光(CL)附件。是一款小巧、功能強大的電子顯微分析平臺。Genesis-500Mplus 采用五軸優(yōu)中心樣品臺,全手動,Se+Bse探測器,同時采集高分辨形貌和高分辨率成分信息,具有低真空配置,是一款經(jīng)濟(jì)型現(xiàn)代經(jīng)典立式掃描電鏡?!局饕攸c】●專門的經(jīng)濟(jì)型、拓展強大的小型立式掃描電鏡●高分辨成像能力,滿足納米尺度快速形貌表征●精細(xì)形貌和成分襯度雙探測器●低真空等離子體消除荷電,非導(dǎo)電樣品可免噴金、噴碳等?!耋w型小巧,節(jié)約空間,可隨時移動?!窨山优渌幸?guī)格及高性能EDS,具有大型掃描電鏡的分析效果●優(yōu)中心樣品臺、可輕易實現(xiàn)立體對圖像采集,重構(gòu)3D形貌像。*精密五軸手動,精確校準(zhǔn)Z軸及T軸 專利的優(yōu)中心樣品臺(多工位樣品托)簡便的操作控制軟件,全鼠標(biāo)鍵盤操作,多種自動工具輔助獲得最佳圖像質(zhì)量一鍵成像Genesis-小型立式掃描電鏡在北京奧林匹克公園國家會議中心,公開展示體驗。隨時可以移動【適用范圍】: 掃描電鏡廣泛應(yīng)用于冶金、機(jī)械、陶瓷、化工、半導(dǎo)體、電子器件、紡織、生物學(xué)等行業(yè)領(lǐng)域,適用于科學(xué)研究,工業(yè)產(chǎn)品失效分析,產(chǎn)品可靠性控制。先進(jìn)的電子光學(xué)性能,滿足客戶從幾倍到幾十萬倍的快速觀察分析,不但具有強大的圖像處理分析功能,還能廣泛連接各種標(biāo)準(zhǔn)或者非標(biāo)準(zhǔn)探測器,拓展成為可靠的分析型電鏡,實現(xiàn)用戶對材料的全方位微觀分析。Genesis-500Mplus 適合多種分析附件原位分析。【安裝示意】【性能指標(biāo)】型號Genesis-500Mplus樣品臺五軸優(yōu)中心,全手動X: 40mmY: 40mmZ: 5-45mmR: 360°無限T: -20°~90°電子槍預(yù)對中鎢燈絲 三極自動偏壓加速電壓200V-30KV (最大發(fā)射電流190μA @ 30KV/最大電子槍功率:5.7W)探測器ET-SED ,半導(dǎo)體固體Bse探測器物鏡光闌20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌分辨率4nm @30KV ( SEI) 5nm@30KV (Bse Image)放大倍數(shù)10-300,000 X樣品室內(nèi)徑φ150mm,Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口最大樣品尺寸Φ96mm X 50mm工作距離0-45mm掃描光柵運動電位移 ±50μm, 電旋轉(zhuǎn) 0-360°掃描模式聚焦模式:320x240 像素 ,尺寸可變TV模式:800x 600像素 慢掃描模式,用于TV及聚焦模式。照相模式:800x600、960x720、1024x768、1600x1200、最大3200x2400像素圖像格式JPG、TIFF、bmp、PNG真空模式高真空優(yōu)于9x10-3Pa樣品室低真空范圍:10-100Pa真空系統(tǒng)全自動真空系統(tǒng),真空高壓連鎖安全保護(hù)(高真空時間小于3分鐘)-渦輪分子泵 -旋片式機(jī)械真空泵 -電動閥門系統(tǒng):真空閘板閥、電磁閥等 自動功能亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和,物鏡光闌搖擺對中軟件系統(tǒng)基于Win8,Virtuoso1.1專用控制軟件. 內(nèi)嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。100%鼠標(biāo)鍵盤操作。主機(jī)尺寸/重量600(W)x623(D)x 1350(H)mm /120kg電源單相交流 220V 、50Hz、1KW耗材附件預(yù)對中燈絲,樣品托,碳導(dǎo)電膠帶,導(dǎo)電銀膠,專用工具可選配置四象限BSED | 樣品室攝像機(jī) | 升級LaB6/CeB6陰極 | 3D重構(gòu)成像軟件 | 拉曼光譜 | EDS能譜儀 | WDS波譜儀 | EBSD 電子背散射衍射 | CL 陰極熒光 |電子束曝光裝置


品牌: 北京馳奔 型號: Genesis-500M 產(chǎn)地:韓國 供應(yīng)商:北京馳奔儀器有限公司

【簡介】馳奔儀器-E系列鎢燈絲掃描電鏡,采用統(tǒng)一的優(yōu)良電子光學(xué)技術(shù),臺式電鏡和立式電鏡具有相同的分辨率性能和圖像質(zhì)量。電子槍均可升級為亮度提高10倍的更高級的電子槍,實現(xiàn)納米尺度形貌快速表征。樣品臺均采用先進(jìn)優(yōu)中心結(jié)構(gòu),方便3D重構(gòu)Genesis系列小型立式掃描電鏡,標(biāo)準(zhǔn)配置五軸優(yōu)中心樣品臺,樣品室可同時接配二次電子(SE)、背散射電子(BSE)、X射線能譜(EDS)等探測器或附件,可拓展波譜儀(WDS)、電子背散射衍射(EBSD)、陰極熒光(CL)附件。是一款小巧、功能強大的電子顯微分析平臺。Genesis-500M 采用五軸優(yōu)中心樣品臺,全手動,二次電子探測器成像,是一款經(jīng)濟(jì)型傳統(tǒng)經(jīng)典立式掃描電鏡?!局饕攸c】●專門的經(jīng)濟(jì)型、拓展強大的小型立式掃描電鏡●高分辨成像能力,滿足納米尺度快速形貌表征●體型小巧,節(jié)約空間,可隨時移動?!窨山优渌幸?guī)格及高性能EDS,具有大型掃描電鏡的分析效果●優(yōu)中心樣品臺、可輕易實現(xiàn)立體對圖像采集,重構(gòu)3D形貌像。*精密五軸手動,精確校準(zhǔn)Z軸及T軸 專利的優(yōu)中心樣品臺(多工位樣品托)簡便的操作控制軟件,全鼠標(biāo)鍵盤操作,多種自動工具輔助獲得最佳圖像質(zhì)量Genesis-小型立式掃描電鏡在北京奧林匹克公園國家會議中心,公開展示體驗。隨時可以移動【適用范圍】: 掃描電鏡廣泛應(yīng)用于冶金、機(jī)械、陶瓷、化工、半導(dǎo)體、電子器件、紡織、生物學(xué)等行業(yè)領(lǐng)域,適用于科學(xué)研究,工業(yè)產(chǎn)品失效分析,產(chǎn)品可靠性控制。先進(jìn)的電子光學(xué)性能,滿足客戶從幾倍到幾十萬倍的快速觀察分析,不但具有強大的圖像處理分析功能,還能廣泛連接各種標(biāo)準(zhǔn)或者非標(biāo)準(zhǔn)探測器,拓展成為可靠的分析型電鏡,實現(xiàn)用戶對材料的全方位微觀分析。Genesis-500M 適合多種分析附件原位分析?!景惭b示意】【性能指標(biāo)】型號 Genesis-500M 樣品臺 五軸優(yōu)中心,全手動 X: 40mmY: 40mmZ: 5-45mmR: 360°無限T: -20°~90°電子槍 預(yù)對中鎢燈絲 三極自動偏壓 加速電壓 200V-30KV (最大發(fā)射電流190μA @ 30KV/最大電子槍功率:5.7W)探測器 ET-SED 物鏡光闌 20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌分辨率 4nm @30KV ( SEI) 放大倍數(shù) 10-300,000 X樣品室 內(nèi)徑φ150mm,Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口 最大樣品尺寸 Φ96mm X 50mm 工作距離 0-45mm 掃描光柵運動電位移 ±50μm, 電旋轉(zhuǎn) 0-360°掃描模式 聚焦模式:320x240 像素 ,尺寸可變TV模式:800x 600像素 慢掃描模式,用于TV及聚焦模式。照相模式:800x600、960x720、1024x768、1600x1200、最大3200x2400像素圖像格式 JPG、TIFF、bmp、PNG 真空模式 高真空優(yōu)于9x10-3Pa真空系統(tǒng) 全自動真空系統(tǒng),真空高壓連鎖安全保護(hù)(高真空時間小于3分鐘) -渦輪分子泵 -旋片式機(jī)械真空泵 -電動閥門系統(tǒng):真空閘板閥、電磁閥等 自動功能 亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和,物鏡光闌搖擺對中軟件系統(tǒng) 基于Win8,Virtuoso1.1專用控制軟件. 內(nèi)嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。100%鼠標(biāo)鍵盤操作。主機(jī)尺寸/重量 600(W)x623(D)x 1350(H)mm /120kg電源 單相交流 220V 、50Hz、1KW 耗材附件 預(yù)對中燈絲,樣品托,碳導(dǎo)電膠帶,導(dǎo)電銀膠,專用工具可選配置 四象限BSED | 樣品室攝像機(jī) | 升級LaB6/CeB6陰極|3D重構(gòu)成像軟件 | 拉曼光譜 | EDS能譜儀| WDS波譜儀 | EBSD 電子背散射衍射 | CL 陰極熒光|電子束曝光裝置


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