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等離子體表面處理儀

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2019-08-31  來源:儀器信息網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):378
核心提示:等離子體表面處理儀 等離子體表面處理儀是通過利用對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子狀態(tài),利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等的目的。等離子體表面處理儀的用途:1、醫(yī)用材料研究,主要為研究和開發(fā)企業(yè)或研究所;2、電子領(lǐng)域,應(yīng)用較為廣泛,如電路板等;3、生物芯片領(lǐng)域;4、高端和精密研究的清洗、除污;5、電化學(xué)單位,進(jìn)行表面處理的單位。 精品推薦 品牌: 英國Hiden Analytical 型號: ESPion 產(chǎn)地:英國 供應(yīng)商:北京英格海德分析技術(shù)有限公司 儀
等離子體表面處理儀 等離子體表面處理儀 等離子體表面處理儀是通過利用對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子狀態(tài),利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等的目的。等離子體表面處理儀的用途:1、醫(yī)用材料研究,主要為研究和開發(fā)企業(yè)或研究所;2、電子領(lǐng)域,應(yīng)用較為廣泛,如電路板等;3、生物芯片領(lǐng)域;4、高端和精密研究的清洗、除污;5、電化學(xué)單位,進(jìn)行表面處理的單位。 精品推薦
品牌: 英國Hiden Analytical 型號: ESPion 產(chǎn)地:英國 供應(yīng)商:北京英格海德分析技術(shù)有限公司

儀器簡介:ESPion高級朗繆爾探針(AdvancedLangmuirProbesforElectricalPlasmaCharacterisation)可快速、可靠、精確地進(jìn)行等離子體診斷,是最先進(jìn)可靠的朗繆爾探針(LangmuirProbe)。 技術(shù)參數(shù):應(yīng)用: 蝕刻/沉積/ 清潔等離子體 脈沖等離子體操作 離子密度 (Ni Gi) 電子溫度(Te) 電子能量分布(EEDF) 電子密度(Ne) 等離子體電位 Debye 長度,懸浮電位 主要特點(diǎn): 獲得數(shù)據(jù)速度:每秒15次掃描,通過D-O-E-界面可以自動、半自動或手動分析 Hiden在被動射頻補(bǔ)償方面處于領(lǐng)先地位,在所有的商業(yè)化探針中 ESPion 具 有最高的屏蔽阻抗(4.25Mohm at 13.56 MHz cf. 100kohm) 高溫等離子體操作時的氣體制冷多感應(yīng)器鏈,使用者可調(diào)諧至其他頻率 參考探針補(bǔ)償用于抵制較低頻率影響,例如等離子體電位漂移(例如,反應(yīng)室 內(nèi)腔陽極氧化所致) 或噪音(例如,供電源引起) ESPion 是所有商業(yè)化探針中最快速的脈沖等離子體探針,ESPsoft 包括所有 必需的標(biāo)準(zhǔn)脈沖選通電路 300、600、915mm 自動線性驅(qū)動器可選,互鎖隔離閥, 90°探針,組合式 線性-旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器可選 自清洗循環(huán),防止探針尖端污染 經(jīng)由RS232、RS485、Ethernet LAN 和 ESPsoft軟件控制


品牌: 香港Teltec 型號: RIE 產(chǎn)地: 供應(yīng)商:香港電子器材有限公司

反應(yīng)式離子蝕刻機(jī) 性能特點(diǎn) Capability Features: 用于失效分析的剝層分析解決方案群,世界頂尖反應(yīng)式離子蝕刻機(jī),物理沉移系統(tǒng),原子層化學(xué)氣相沉積系統(tǒng). RIE/PE and RIE-ICP FA system 這些靈活的失效分析工具可以實現(xiàn)從鈍化層的去除到各項異性的氧化物的去除,從小管芯或已封裝的器件到300mm直徑的晶片整個范圍的工藝. 去除氮化物鈍化層后刻蝕金屬間介質(zhì)后四層金屬暴露 金屬間介質(zhì)后的失效分析 - 工藝靈活,既可采用RIE/PE,也可采用ICP - 先進(jìn)的管芯工藝:采用等離子體加速器的刻蝕速率比標(biāo)準(zhǔn)的RIE工藝快20倍 產(chǎn)品范圍: - 可以處理300mm晶片的RIE/PE雙模式設(shè)備 - 快速低損傷的模具刻蝕裝置 - 處理200mm晶片的雙模式設(shè)備 - 填充用的正硅酸乙酯(TEOS)工藝 - 各向同性的聚酰亞胺的去除(RIE或ICP模式) - 各向同性的氮化物(鈍化層)的去除(PE或ICP模式) - 各向異性的氧化物(金屬間介質(zhì)/層間介質(zhì))的去除(RIE或ICP模式) - 各向異性的低K值氧化物的去除(RIE或ICP模式) - 金屬支架的去除(RIE或ICP模式) - 多晶硅的去除(RIE模式) - 鋁或銅的去除(ICP模式)


品牌: 型號: NextCVD(ICP-LP-PE-CVD) 產(chǎn)地: 供應(yīng)商:上海巨納科技有限公司

國內(nèi)的電感耦合等離子體都是基于中頻13.56MHz的電源發(fā)生器,等離子體密度較低,而且是螺旋管式,主要用于等離子體刻蝕,不適宜用于沉積高質(zhì)量薄膜。巨納集團(tuán)NextCVD系列多功能寬密度等離子體CVD(ICP-LP-PE-CVD)結(jié)合了電感耦合和電容耦合輝光放電的優(yōu)點(diǎn),可在寬密度工藝范圍(109-1013 cm-3)實現(xiàn)穩(wěn)定的等離子體輔助CVD,具有優(yōu)良的材料處理性能和廣泛的應(yīng)用范圍,是目前全球功能最強(qiáng)大的等離子體CVD系統(tǒng)。NextCVD 的原創(chuàng)性高密度低頻平板式電感耦合等離子體系統(tǒng)在國內(nèi)獨(dú)一無二。頻率可調(diào)節(jié),從低頻0.5- 4MHz范圍內(nèi)調(diào)節(jié);電感天線是平板式,可根據(jù)客戶要求改變天線的形狀、大小,從而實現(xiàn)兩種不同的放電模式:電感放電和電容放電,兩種模式下都能實現(xiàn)穩(wěn)定放電,兩種模式的等離子體特性截然不同,可以實現(xiàn)不同的功能。產(chǎn)品特點(diǎn)基片臺可電動旋轉(zhuǎn)、可加熱、可升降配裝手動高真空插板閥、手動角閥、電腦復(fù)合真空計由于采用了超高真空密封技術(shù),極限真空度高,沉積室可進(jìn)入10-5Pa量級,可保證更高的鍍膜純凈度,提高鍍膜質(zhì)量自動監(jiān)控和保護(hù)功能,包括缺水欠壓檢測與保護(hù)、相序檢測與保護(hù)、溫度檢測與保護(hù)、真空系統(tǒng)檢測與保護(hù)等配備可開關(guān)觀察窗,方便觀察及取樣品設(shè)備真空系統(tǒng)采用分子泵+機(jī)械泵真空機(jī)組采用磁力耦合傳動密封技術(shù)密封運(yùn)動部件真空規(guī)用金屬規(guī),刀口金屬密封性能技術(shù)參數(shù)設(shè)備極限真空度:5.0×10-5Pa(等離子體沉積腔室)。5.0×10-1Pa進(jìn)樣室高密度等離子體:電子密度最高能達(dá)到1013 cm-3氣體先驅(qū)物離化率:1-10%電感耦合離子體電源發(fā)生器頻率從0.5-4 MHz可調(diào),功率可從0-5000 W調(diào)節(jié)電感天線有橢圓和圓形兩種,相應(yīng)等離子源石英窗口形狀也有橢圓和圓形兩種,相應(yīng)等離子體放電模式也有電感和電容模式兩種,可根據(jù)用途選擇。等離子體源石英窗口大小可根據(jù)要求進(jìn)行調(diào)節(jié)供電:~380V三相供電系統(tǒng)(容量7KW),冷卻水循環(huán)量1M3/H,工作環(huán)境溫度10℃~35℃,冷卻水溫度18℃~25℃設(shè)備占用面積12M2(設(shè)備安裝面積4M×3M)進(jìn)樣室上方窗口(玻璃橡膠圈密封):¢20cm沉積室抽氣口在底部,樣品架的兩邊抽氣,有利于薄膜的均勻沉積設(shè)備總體漏放率:關(guān)機(jī)12小時后,真空度≤10Pa從大氣到抽到≤7×10-4Pa,小于45min(新設(shè)備充干燥氮?dú)?,提高了工作效率樣品臺可旋轉(zhuǎn),速度:0~25轉(zhuǎn)/分 可控可調(diào)。(樣品臺尺寸¢200mm)基片尺寸¢6英寸(根據(jù)用戶需要可變)樣品臺加熱器溫度:室溫~500±1℃。溫度可控可調(diào)基片最大升降距離0~100mm可調(diào)配備2支¢3英寸磁控靶,其中一支可鍍鐵磁材料,磁控靶可伸縮磁控濺射靶電源:射頻源 500W、13.56MHz;直流濺射電源,500W缺水欠壓檢測與保護(hù)、相序檢測與保護(hù)、溫度檢測與保護(hù)、真空系統(tǒng)檢測與保護(hù)應(yīng)用領(lǐng)域:光伏行業(yè)(氮化硅/非晶硅/微晶硅/等離子體織構(gòu)與刻蝕)新型二維材料(石墨烯/二硫化鉬等的表面改性及制備)半導(dǎo)體工藝(刻蝕工藝/氮化硅與二氧化硅工藝等)納米材料的生長與納米形貌的刻蝕構(gòu)造石墨烯氫等離子體可控改性石墨烯氬等離子體可控改性氬等離子體可控改性:引入空位缺陷氫等離子體可控改性:引入SP3缺陷


品牌: 德國Diener 型號: PLASMABEAM 產(chǎn)地:德國 供應(yīng)商:上海爾迪儀器科技有限公司

Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大氣壓等離子清洗機(jī)/等離子表面處理 PlasmBeam PlasmBeam PC PlasmBeam DUOApplications: Rubber Electronic PlasticsCables-Tules效果: PlasmaBeam清洗過的區(qū)域,噴水后沒有殘留水滴。底材:鋁底材:塑料技術(shù)參數(shù):型號PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO發(fā)生器頻率與功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz,600W反應(yīng)氣休/冷卻氣體無油空壓機(jī)無油空壓機(jī)無油空壓機(jī)氣體壓力5-8bar5-8bar5-8bar氣體流量2m3/h2m3/h4m3/h離子束手柄單只直徑32mm,長度270mm,重量0.6kg電纜長度3m,Φ19mm(可訂制)處理的最大寬度為12mm兩只其它參數(shù)同前操作模式手動控制/遠(yuǎn)程控制MS-Windows控制無有無電源AC230V/6A/50~60Hz尺寸(mm)W562*H211*D420W562*H360*D650W562*H211*D420重量(KG)203020


品牌: 型號: NDS312 產(chǎn)地:日本 供應(yīng)商:北京歐屹科技有限公司

NDS UV解膠機(jī)NDS312 UV解膠機(jī)NDS UV解膠機(jī)簡介:UV解膠機(jī)適合6/8/12寸芯片整片照射使用,主體部分為不銹鋼、鋁合金制作,質(zhì)量可靠,性能穩(wěn)定;貼膜精度高且穩(wěn)定;操作簡單,易懂易會。NDS UV解膠機(jī)特點(diǎn):1)小巧的桌面式設(shè)計2)采用液晶觸摸屏一鍵式全自動完成解膠過程3)LED冷光源代替了傳統(tǒng)的高壓汞燈,結(jié)果試驗認(rèn)證,4)使用壽命比普通汞燈壽命長10倍以上5)LED冷光源與汞燈組成的光源相比,更能實現(xiàn)穩(wěn)定性,均勻性的照射6)LED冷光源安全性高,熱量小,功耗低7)設(shè)備開門關(guān)門時,LED冷光源處于關(guān)閉狀態(tài),有效防止紫外光外泄對人體傷害8)U V照射機(jī)具有故障提示報警燈功能NDS UV解膠機(jī)參數(shù):序號內(nèi) 容參 數(shù)1額定電壓AC 220V2頻率50/60HZ3額定功率800W4UV燈波長365nm5外形尺寸(長*寬*高)700mm×660mm×380mm6機(jī)器重量35kg7膠膜類型UV膜8膠膜厚度0.15~0.17mm9照射功能自動式10保護(hù)接地電阻小于4ΩNDS UV解膠機(jī)尺寸:外形尺寸(長*寬*高)700mm×660mm×380mm


品牌: 美國IXRF 型號: PIB-10 產(chǎn)地:美國 供應(yīng)商:天美(中國)科學(xué)儀器有限公司

產(chǎn)品簡介IXRF等離子親水性處理儀 PIB-10PIB-10等離子親水性處理儀采用稀薄空氣中交流放電產(chǎn)生等離子體,用其中正離子處理樣品表面,去除吸附在樣品表面的疏水性物質(zhì),并同時在表面形成羥基親水層,使其轉(zhuǎn)變?yōu)橛H水性表面。技術(shù)參數(shù):1. 儀器尺寸:寬200mm×高340mm深340mm,內(nèi)置旋轉(zhuǎn)泵2. 樣品倉尺寸:內(nèi)徑110mm,高度60mm,硬質(zhì)玻璃制造3. 電極尺寸:直徑50mm,靜電屏蔽電極4. 樣品臺尺寸:直徑50mm5. 電極-樣品間距:35mm主要特點(diǎn):1. 軟/硬兩種處理模式,同時適用于軟樣品(碳膜類樣品,超薄切片樣品撈片更容易,貼合度更好)和硬樣品(鉆石刀等,減小刀尖的水接觸角,避免切片起皺、連續(xù)切片更加整齊不亂漂)2. 以交流放電進(jìn)行離子清洗3. 浮動式樣品臺與放電電極絕緣,保護(hù)樣品不受傷害4. 可以用于塑料凳絕緣物質(zhì)的離子刻蝕,交流離子轟擊不會造成刻蝕的局部不均勻


品牌: 型號: LZ12 產(chǎn)地: 供應(yīng)商:廣東正業(yè)科技股份有限公司

PCB離子污染測試儀PCB離子污染測試儀用途:本產(chǎn)品用于印制線路板行業(yè)相關(guān)檢測儀器,可對清洗,涂敷等工藝前后光板進(jìn)行離子污染測試;拓展應(yīng)用到對元器件生產(chǎn)工藝中某一階段的制品進(jìn)行測試或?qū)ρb配清洗前后的電路板做離子污染測試;有利于進(jìn)一步提高電子產(chǎn)品壽命, 可靠性,控制環(huán)境污染。PCB離子污染測試儀特點(diǎn):1、操作簡單:由電腦控制完成預(yù)熱、測試及再生測試;2、USB、RS232數(shù)據(jù)線自由切換,滿足不同端口電腦需求;3、2種操作語言可供選擇:中英文簡體;4、實時顯示電導(dǎo)率和離子曲線,測試過程更直觀;5、先進(jìn)的操用系統(tǒng)安全性:多級操作用戶密碼保護(hù);6、具有加熱及溫控功能,工作溫度恒定在40℃±0.3℃;7、采用陰陽離子混合交換樹脂,過濾效果更好;8、系統(tǒng)自動保存測試結(jié)果,測試報告為Excel格式;9、測試時間可自行設(shè)定,測試過程中也可以手動停止保存結(jié)果。效率提升對比圖:效率提升約27%(30L為例)20mlNACL動態(tài)測:14min20mlNACL靜態(tài)測6min+13min再生=19min測試方式動態(tài)離子測試靜態(tài)離子測試儀器型號ASIDA LZ21ASIDA LZ12物件尺寸66.0*66.0cmPCB實際面積8712.0 Sq.cmPCB有效面積百分比100%測試耗時14min6min等價總質(zhì)量12530 u g Eq NaCL12197u g Eq NaCLPCB離子污染測試儀技術(shù)參數(shù):項目 規(guī)格型號 LZ12LZ21測試方法 靜態(tài)測試靜態(tài)/動態(tài)測試測試精度 ±5%電導(dǎo)率分析率0.001 us /c電極分辨率范圍0.0001us/c測量板面積標(biāo)準(zhǔn):1200-4200c 加大:1200-8712c萃取液比重 0.85-0.855基準(zhǔn)22-66MΩ66-100MΩ水箱體積標(biāo)準(zhǔn):352*70*600mm約17L加大:680*65*680mm約30L其他規(guī)格可另行定制外形尺寸 標(biāo)準(zhǔn):1050*600*920mm加大:1401*600*1000mm功率 1300W1700W電源要求 AC220V 50HZ重量 標(biāo)準(zhǔn):約115KG 加大:約150Kg工作環(huán)境溫度 22±3℃工作萃取液溫度 40±2℃


品牌: 合肥科晶 型號: GSL1100X-PJF 產(chǎn)地: 供應(yīng)商:合肥科晶材料技術(shù)有限公司

產(chǎn)品型號:GSL1100X-PJF 等離子表面處理儀 產(chǎn)品簡介:GSL1100X-PJF 等離子表面處理儀是一種緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng),主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件下,迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學(xué)元件、塑料等廣泛的材料。 為了獲得高質(zhì)量的外延薄膜或者光學(xué)涂層,預(yù)先進(jìn)行表面處理可以得到顯著的效果。 主要特點(diǎn): 操作簡單、安全,高速處理物件表面; 不需要真空、不需要腔室; 手提式、可以現(xiàn)場使用、成本低; 重量輕、結(jié)構(gòu)緊湊。 技術(shù)參數(shù): 輸入電源:110/220,50/60Hz,小于1000W; 輸出頻率:20-23KHz; 離子束頭:包括2個離子束頭,圓頭10-12mm,矩形頭15-18mm; 輸入氣體壓力和工作氣氛:最小0.275兆帕,工作氣氛可以是空氣、氮?dú)狻鍤?、混合氣體(不要使用易燃易爆氣體); 等離子工作壓力:0.048兆帕-0.068兆帕; 工作環(huán)境:溫度 42°C;濕度≤ 40%RH;沒有易燃?xì)怏w; 外形尺寸:380 (寬) ×210 (高) ×500 (長) mm; 凈重:10公斤; 產(chǎn)品證書:CE認(rèn)證 具體信息請點(diǎn)擊查看:www.kjmti.com


品牌: 型號: MPDEX‐21/21-2 產(chǎn)地: 供應(yīng)商:上海巨納科技有限公司

電感耦合等離子體系統(tǒng)可以產(chǎn)生高密度(1012~1013 cm-3)的電感耦合等離子體,可以施加頻率從0.5~13.56 MHz(低頻到中頻)的射頻電源,外加功率變化范圍是0~5000W。主要用于等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(CVD)、薄膜制備與處理、表面改性、刻蝕與晶片清洗等。電感耦合等離子體系統(tǒng)MPDEX21/21-2主要由以下幾個部分組成(1)平板式電感耦合等離子體源結(jié)合電源發(fā)生器和射頻匹配網(wǎng)絡(luò)可以產(chǎn)生高密度(1012~1013cm-3)的電感耦合等離子體,可以施加頻率從0.4~13.56 MHz(低頻到中頻)的射頻電源,外加功率變化范圍是0~5000W。主要用于等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(CVD)、薄膜制備與處理、表面改性、刻蝕與晶片清洗等。優(yōu)勢特點(diǎn)可有效控制離子轟擊效應(yīng),以利于減少離子轟擊。高度氣體先驅(qū)物的離化率,可以達(dá)到1~10%。廣泛的工藝化學(xué)范圍持有成本降低增強(qiáng)終端用戶工藝開發(fā)和輸出量整合式電源、匹配和等離子腔室即插即用的安裝廣泛的匹配范圍耐用的石英玻璃或三氧化二鋁介電質(zhì)材料最高的等離子功率密度(2)射頻匹配網(wǎng)絡(luò)(RF Matching Network)射頻網(wǎng)絡(luò)包括匹配(Matching)和調(diào)諧(Tuning),其中匹配網(wǎng)絡(luò)的固定電容可提供的選擇從5到100納法(nF)等等,調(diào)諧網(wǎng)絡(luò)的電容可調(diào)節(jié)范圍是10~2010,1010~3100,2010~4010,3010~5010,4010~6010皮法(PF)等等。主要為磁控濺射、電容耦合等離子體(CCP)和電感耦合等離子體(ICP)提供匹配網(wǎng)絡(luò),通過匹配網(wǎng)絡(luò)提供可調(diào)節(jié)的阻抗使磁控濺射、CCP和ICP能在不同的工藝條件下正常運(yùn)行。優(yōu)勢特點(diǎn)加強(qiáng)了工藝控制最大限度地減小反射功率加速反應(yīng)時間有助于提高工具吞吐量和產(chǎn)量簡單易控制的匹配平臺整合式儀器簡化的設(shè)計嚴(yán)格的測試(3)Advanced Energy PDX 8000低頻電源,340-440 KHz, 8000W主要為容性或者感性等離子體提供射頻電源。PDX系列大功率(5000和8000W)低頻電源為各種廣泛的工藝應(yīng)用提供一種高效、緊湊、易于整合的電源。這些高度可靠地電源提高了工藝靈活性,提供廣泛的運(yùn)行頻率范圍以優(yōu)化工藝控制,確保較高的工藝重復(fù)性,并提高了吞吐量。優(yōu)點(diǎn)功能恒功率、電壓或電流輸出最高的靈活性與模塊性強(qiáng)大的電弧控制自動制程保護(hù)裝置極寬的祖抗匹配范圍高功率密度5 kW和8kW選項兩種不同的弧處理電路高效能、緊湊型水冷式設(shè)計多種可選配件符合CE標(biāo)準(zhǔn)(4)Advanced Energy Dressler Cesar 2 MHz或13.56 MHz射頻發(fā)生器,600 W, 1000 W或2000 W主要為磁控濺射,CCP和ICP提供射頻電源。強(qiáng)大而多功能的Cesar平臺可提供非常穩(wěn)定的射頻功率輸送性能,以及一個多樣化的模式選擇,每種模式都具有一套獨(dú)特的功能(2、4、13.56、27.12和40.68 MHz;0.3至5 kW;擁有多種用戶界面和輸入選擇),從而使您能夠選擇一套特別適合您應(yīng)用的組件而無需定制發(fā)生器所需的漫長交付期。高質(zhì)量的組件和較少的零件數(shù)量使可靠性和產(chǎn)品生命周期均實現(xiàn)最優(yōu)化,從而使您的投資和制程生產(chǎn)力得到最大化的利用。一個全面而高度靈敏的操作菜單(可在該組件的多功能前面板上找到,并顯示在一個大的液晶顯示屏上)帶來了無與倫比的便利性提高了操作人員的效率,并使培訓(xùn)成本最小化。優(yōu)點(diǎn)功能更長的制程正常運(yùn)行時間更高的操作簡易性和靈活性無需定制組件提前期的定制化性能長期的使用簡易性,節(jié)省成本精的流線型設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)的平臺包裝高效率低發(fā)熱量200和400 VAC的輸入選擇兩個模擬用戶端口選擇RS-232、以太網(wǎng)、和Profibus通訊多功能前面板便利、全面的操作菜單CEX(相位同步)操作模式遵循SEMI(符合或超過標(biāo)準(zhǔn))


品牌: 德國Diener 型號: Tetra185 產(chǎn)地:德國 供應(yīng)商:上海爾迪儀器科技有限公司

Diener Tetra185 Plasma PCB DesmearingPCB等離子除膠機(jī) Diener Tetra185接受不同規(guī)格艙體及工藝定制循環(huán)時間為15分鐘和90分鐘之間同時可以處理7塊PCB板,處理最大尺寸為510×610mm 應(yīng)用領(lǐng)域:- 除污雜材料- 聚酰亞胺箔加壓前的蝕刻與活化,以便它能夠提高粘接強(qiáng)度- 表面清潔- 金屬表面粘接和焊接前的活化 去除膠渣的材料類型:- FR4standard (for example Panasonic MC-100MS/EX)-Modified FR4 systems (for example Panasonic: R-1766 T,R-1566W, R-1755-C)-BT-systems (for example Isola IS620)-CE-systems (Cyanante-Ester, for example Nelco)-Polyamide materials (for example Isola P97, FNC… and AP…)- PTFEbased on laminates (for example Rogers RO3000')- Polymer based on laminates (for exampleRogers RO4000')技術(shù)參數(shù)控制方式FULL PC-Control工藝氣體4路 MFCs壓力控制皮拉尼壓力計腔體材質(zhì)不銹鋼, 腔體尺寸W 400 mm x D 700 mm x H 665 mm 約185L托盤垂直,7層PCB專用電極垂直,7層PCB專用發(fā)生器80kHz,0~3000W真空泵螺桿泵,排氣速度500m3/h,外接冷卻水防腐有,可對應(yīng)CF4,SF6H2安全閥有活性碳過濾有外尺寸:W600 mm x D 1000 mm x H 2100 mm電源三相400 V / 16 A立體托盤艙門單個托盤


品牌: 德國Diener 型號: Femto電鏡專用型 產(chǎn)地:德國 供應(yīng)商:上海爾迪儀器科技有限公司

Diener電鏡專用等離子清洗機(jī)用途: 主要用于除去透射電鏡樣品及樣品桿上的污染,防止碳沉積以降低圖像分辨率及對樣品微區(qū)分析造成誤判。還可以利用該儀器清洗各類光闌等電子顯微鏡配件。特別適用于場發(fā)射掃描電鏡和場發(fā)射透射電鏡。用這種低能高頻等離子體清洗樣品表面,不會改變樣品元素成份和表面結(jié)構(gòu)特征。主要技術(shù)參數(shù):1. 可對多孔碳膜進(jìn)行高效且無破壞的清洗,提高樣品在低電壓下的成像能力,在化學(xué)微量分析時提高其精度2. 無油真空系統(tǒng):泵體部分由多級隔膜泵和超凈音分子泵組成,在保證真空度的同時,可在兩分鐘之內(nèi)達(dá)到抽真空和放氣過程,整個清洗過程在4分鐘內(nèi)可以完成3. 可清洗標(biāo)準(zhǔn)透射電鏡樣品桿4. 可清洗多孔碳膜5. 清洗時間:普通污染樣品小于2分鐘,重度污染樣品小于10分鐘 6. 重現(xiàn)性:可以自動記錄下同類產(chǎn)品清洗的條件,下次清同類產(chǎn)品時可以樣條件進(jìn)行技術(shù)規(guī)格:控制方式手動控制發(fā)生器40KHz,0~100W腔體材質(zhì)高硼硅玻璃腔體尺寸Dia.90*L280mm氣路單路???清清時間旋鈕式計時器0~99hour壓力控制范圍0~2mbar外型尺寸W345*D420*H211mm???電源電壓單相AC230V,16A真空泵排氣速度4m3/hour,極限真空度0.5Pa選配????發(fā)生器2.45GHz和13.56MHz腔體材質(zhì)石英玻璃氣路雙路計時器數(shù)字式計時器減壓閥配專用氣路接口鋼瓶10L


品牌: 德國Diener 型號: Tetra100 產(chǎn)地:德國 供應(yīng)商:上海爾迪儀器科技有限公司

Diener等離子表面處理設(shè)備 德國原裝進(jìn)口德國Diener是專門生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設(shè)備的公司, 是世界上材料處理低溫等離子體設(shè)備的市場和技術(shù)領(lǐng)先者。Diener采用先進(jìn)的集成化技術(shù)開發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40KHz 、80KHz、13.56MHz,以及代表等離子應(yīng)用最先進(jìn)技術(shù)的2.45GHz的等離子清洗機(jī)。 目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于:等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理。產(chǎn)品主要分布在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學(xué)、半導(dǎo)體科研、半導(dǎo)體封裝、芯片制造、MEMS器件等領(lǐng)域。其設(shè)備生產(chǎn)零件均選用其零件行業(yè)的最優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品,以保證性能技術(shù)穩(wěn)定。德國diener等離子表面處理設(shè)備特點(diǎn):等離子清洗機(jī)清洗效果好,效率高,應(yīng)用范圍廣。對清洗樣品,沒有任何材質(zhì)、外觀尺寸等要求等離子清洗過程中,溫升很小,基本可達(dá)到常溫處理。射頻功率無極連續(xù)可調(diào)。高效的特制電極,是產(chǎn)生均勻等離子體的保證。特制電極和托盤結(jié)構(gòu),可充分利用真空艙體內(nèi)部空間,使處理效率最大化,同時也可保證樣品可得到全面有效的清洗。特有的過載、短路和過熱保護(hù)電路,可保證射頻電源的穩(wěn)定和安全。設(shè)備整體模塊化設(shè)計,安裝與維護(hù)極為簡單。德國diener等離子表面處理設(shè)備的應(yīng)用范圍: 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉積凝膠的基片。 高分子材料表面修飾。 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 煤、石棉灰化。Diener Plasma 低壓/真空等離子表面處理/清洗/蝕刻機(jī)Tetra100 主要技術(shù)參數(shù):基本配置:根據(jù)具體組件/選裝件,外殼規(guī)格會有所不同腔室容積:根據(jù)具體版本,分為 80 - 100 升供電電源: 230 V 或者 400 V / 3 相位氣源質(zhì)量流量控制器 (MFCs)真空腔室圓形不銹鋼件,配有鉸鏈的門(約 ? 400 mm、長 625 mm)矩形不銹鋼件,配有鉸鏈的門(約寬 400 mm x 高 400 mm x 深 625 mm)裝載件產(chǎn)品支架(選項:水冷型)、石英玻璃舟皿、粉末轉(zhuǎn)鼓、散裝件轉(zhuǎn)鼓、鋁板、不銹鋼板、硼硅玻璃、石英玻璃電極單層或多層具有氣體噴淋的 RIE 電極控制系統(tǒng)PCCE 控制系統(tǒng) (MicrosoftWindows CE)PC 控制系統(tǒng) (Microsoft Windows POS Ready 2009)壓力測量PiraniBaratron(適用于腐蝕性氣體版本)計時器數(shù)字型發(fā)生器頻率: 40 kHz: 功率 0 - 1000 W;0 - 1500 W;0 - 2500 W13.56 MHz: 功率 0 - 300 W;0 - 600 W;0 - 1000 W2.45 GHz: 功率 0 - 1200 W所有發(fā)生器均為 0 - 100% 無級可調(diào)型真空泵規(guī)格和制造商均各有不同(按照活性炭過濾器的需要)其他選項備件套件、壓力計、腐蝕性氣體設(shè)計結(jié)構(gòu)、氣瓶、減壓器、加熱板、溫度顯示器、加熱型腔室、Faraday Box、等離子體聚合配件、測試墨水、 氧氣發(fā)生器、慢速通風(fēng)裝置、慢速抽吸裝置、TEM樣品架法蘭、維護(hù)/服務(wù)、當(dāng)?shù)卣Z言的文件、現(xiàn)場安裝,包括培訓(xùn)??蓱?yīng)要求提供的其他選項。上海爾迪儀器科技有限公司 中國總代理


品牌: 德國Diener 型號: Tetra50 產(chǎn)地:德國 供應(yīng)商:上海爾迪儀器科技有限公司

Diener等離子表面處理設(shè)備 德國原裝進(jìn)口德國Diener是專門生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設(shè)備的公司, 是世界上材料處理低溫等離子體設(shè)備的市場和技術(shù)領(lǐng)先者。Diener采用先進(jìn)的集成化技術(shù)開發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40KHz 、80KHz、13.56MHz,以及代表等離子應(yīng)用最先進(jìn)技術(shù)的2.45GHz的等離子清洗機(jī)。目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于:等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理。產(chǎn)品主要分布在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學(xué)、半導(dǎo)體科研、半導(dǎo)體封裝、芯片制造、MEMS器件等領(lǐng)域。其設(shè)備生產(chǎn)零件均選用其零件行業(yè)的最優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品,以保證性能技術(shù)穩(wěn)定。德國diener等離子表面處理設(shè)備特點(diǎn):等離子清洗機(jī)清洗效果好,效率高,應(yīng)用范圍廣。對清洗樣品,沒有任何材質(zhì)、外觀尺寸等要求等離子清洗過程中,溫升很小,基本可達(dá)到常溫處理。射頻功率無極連續(xù)可調(diào)。高效的特制電極,是產(chǎn)生均勻等離子體的保證。特制電極和托盤結(jié)構(gòu),可充分利用真空艙體內(nèi)部空間,使處理效率最大化,同時也可保證樣品可得到全面有效的清洗。特有的過載、短路和過熱保護(hù)電路,可保證射頻電源的穩(wěn)定和安全。設(shè)備整體模塊化設(shè)計,安裝與維護(hù)極為簡單。德國diener等離子表面處理設(shè)備的應(yīng)用范圍: 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉積凝膠的基片。 高分子材料表面修飾。 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 煤、石棉灰化。Diener Tetra50-LF Plasma 主要技術(shù)參數(shù):Tetra-50-LF 標(biāo)準(zhǔn)配置*操作界面簡單方便* 反應(yīng)艙 305mm(寬)×300mm(高)×625 mm(深) * 不銹鋼反應(yīng)艙體,鋁合金艙門* 40KHz 射頻發(fā)生器* 高效針孔電極* 數(shù)字計時器可自動設(shè)定操作程序* 皮拉尼真空泵可設(shè)定重復(fù)操作,真空泵排氣凈化管路* 雙氣體配置, 銅氣體管、氣體流量計、 針閥* 可調(diào)節(jié)氣體流量計* 自動計時器控制等離子處理過程* 功率:0-1000W連續(xù)可調(diào)* 自動阻抗匹配* 電極4層電極,樣品托盤4層放置 (可選裝最多至6層)不銹鋼托盤* 安全保護(hù)功能:防靜電真空開關(guān),安全傳感艙門* 電磁閥保護(hù),回流油霧不能進(jìn)入反應(yīng)艙* 操作:手動或全自動 * 參數(shù)控制: 處理時間、功率、氣體流量、壓力* 外形 600mm(寬)×1800mm(高)×800mm(深) * 電壓:380-400V/16A* 真空泵 :萊寶(Leybold)Type D16B(16m3/h) 選裝件:旋轉(zhuǎn)艙體、計算機(jī)控制系統(tǒng)上海爾迪儀器科技有限公司 中國總代理


品牌: 德國Diener 型號: PlasmaBeam Mini 產(chǎn)地:德國 供應(yīng)商:上海爾迪儀器科技有限公司

Technische Daten PlasmaBeamMini1.外尺寸: B 350 mm, H 166 mm, T 300 mm, 重量. 10 kg2. 噴頭直徑.φ25 mm, L 150 mm, 重量. 0.5 kg,線纜 1.5 m3. 發(fā)生器:2,45 GHz/8 W4.反應(yīng)氣體:單路Ar 5. 電源:單相100~240V,1.5A 上海爾迪儀器科技有限公司 中國獨(dú)家代理


品牌: 德國Diener 型號: Diener Tetra30 產(chǎn)地:德國 供應(yīng)商:上海爾迪儀器科技有限公司

Diener等離子表面處理設(shè)備 德國原裝進(jìn)口德國Diener是專門生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設(shè)備的公司, 是世界上材料處理低溫等離子體設(shè)備的市場和技術(shù)領(lǐng)先者。Diener采用先進(jìn)的集成化技術(shù)開發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40KHz 、80KHz、13.56MHz,以及代表等離子應(yīng)用最先進(jìn)技術(shù)的2.45GHz的等離子清洗機(jī)。目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于:等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理。產(chǎn)品主要分布在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學(xué)、半導(dǎo)體科研、半導(dǎo)體封裝、芯片制造、MEMS器件等領(lǐng)域。其設(shè)備生產(chǎn)零件均選用其零件行業(yè)的最優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品,以保證性能技術(shù)穩(wěn)定。德國diener等離子表面處理設(shè)備特點(diǎn):等離子清洗機(jī)清洗效果好,效率高,應(yīng)用范圍廣。對清洗樣品,沒有任何材質(zhì)、外觀尺寸等要求等離子清洗過程中,溫升很小,基本可達(dá)到常溫處理。射頻功率無極連續(xù)可調(diào)。高效的特制電極,是產(chǎn)生均勻等離子體的保證。特制電極和托盤結(jié)構(gòu),可充分利用真空艙體內(nèi)部空間,使處理效率最大化,同時也可保證樣品可得到全面有效的清洗。特有的過載、短路和過熱保護(hù)電路,可保證射頻電源的穩(wěn)定和安全。設(shè)備整體模塊化設(shè)計,安裝與維護(hù)極為簡單。德國diener等離子表面處理設(shè)備的應(yīng)用范圍: 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉積凝膠的基片。 高分子材料表面修飾。 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 煤、石棉灰化。Diener Tetra30 Plasma 主要技術(shù)參數(shù):1.*便捷的PC觸摸屏控制,操作系統(tǒng)為Windows CE5.0(ARM)2.*根據(jù)工藝要求不同,可設(shè)定功率、壓強(qiáng)、氣體流量與時間等參數(shù)3.雙路工作氣體,氣體流量通過數(shù)字式流量計(MFC)控制4.*反應(yīng)艙為不銹鋼,寬305mm ×深625 mm×高300 mm,容積約為50L5.高周波電流頻率13.56MHz,功率0~300W6.反射波自動調(diào)節(jié),無須手工調(diào)節(jié)7.電極材質(zhì)為鋁/不銹鋼8.運(yùn)行模式為手動/自動9.*可存儲多套工藝程序,圖表實時顯示工藝過程10.真空泵的排氣能力為16m3/Hour,配有強(qiáng)制進(jìn)氣閥11.*配有壓力傳感器,可根據(jù)工藝要求設(shè)定壓力值12.電源電壓:400V /16A


品牌: 德國Diener 型號: Diener 產(chǎn)地:德國 供應(yīng)商:上海爾迪儀器科技有限公司

Diener electronic 公司世界首創(chuàng)Diener electronic 公司推出了第一臺適合牙科種植專家和牙科技師使用的低壓等離子系統(tǒng)。牙科技術(shù)現(xiàn)在還沒有粘合促進(jìn)劑或者底漆僅在原子水平上進(jìn)行清洗、活化、蝕刻和涂層。用 FEMTO-PCCE-系統(tǒng)直接在實驗室中進(jìn)行等離子體預(yù)處理是極為有效和環(huán)保的。等離子體技術(shù)被認(rèn)為是極為環(huán)保的,而且成本較低,適合用來替代化學(xué)粘合促進(jìn)劑,其某些工藝對于牙科技術(shù)部件的預(yù)處理而言是至關(guān)重要的。表面蝕刻作為所有粘合劑和復(fù)合面的最佳保留基層,具有極好的潤濕性,而且科學(xué)記錄表明緊密清洗效果提供了決定性的優(yōu)勢。Femto PCCE-牙科技術(shù) 正面Femto PCCE-牙科技術(shù) 背面Femto牙科技術(shù)沒有粘合促進(jìn)劑或者底漆,通過等離子體預(yù)處理,極為有效和環(huán)保多年來,對很多行業(yè)領(lǐng)域而言,缺少等離子體技術(shù)是不可想象的。 隨著新的 Diener 等離子系統(tǒng)的研發(fā),特別是對于牙科技術(shù)和口腔醫(yī)學(xué)方面,等離子體技術(shù)現(xiàn)在也已經(jīng)擁有了自己的用戶群。用等離子體可以對金屬(EM、NEM 和鈦)和諸如 PEEK、PEKK、Acetal (POM)、PE、PA 或者 PMMA 之類的高性能塑料進(jìn)行清洗、活化、蝕刻和涂層。YoctoYocto種植術(shù)方面等離子體清洗的講座牙根植入物的等離子活化和上層結(jié)構(gòu)的精密清洗通過提高表面能量增加潤濕性改善周邊軟組織的附著性,并導(dǎo)致黏膜密封更為快速具有去污作用,并能夠有助于形成無刺激和無炎癥性介孔結(jié)構(gòu)能夠很好的固定所有部件,并借此減少細(xì)菌污染率減少螺栓連接的失效風(fēng)險


品牌: 美國EMS 型號: EMS1050 產(chǎn)地:美國 供應(yīng)商:海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司

EMS1050 低溫灰化儀應(yīng)用領(lǐng)域:l  生物芯片領(lǐng)域l  醫(yī)用材料、光學(xué)材料研究l  電子半導(dǎo)體領(lǐng)域l  高分子材料研究l  電化學(xué)、高端零部件處理l  有機(jī)材料的灰化、刻蝕 儀器性能:l  自動調(diào)頻高頻發(fā)生器l  內(nèi)置旋轉(zhuǎn)真空泵l  此系統(tǒng)通常使用氧及氬的混合氣體,氧去除有機(jī)物質(zhì)(碳?xì)浠衔铮?,氬對樣品表面進(jìn)行刻蝕l  低溫等離子灰化、刻蝕、清洗 (0-150 watts RF) l  真空監(jiān)測. l  雙重氣流針閥控制 l  精確時間定時 l  微處理器程序設(shè)置l  LCD狀態(tài)數(shù)字顯示l  腔室為圓柱形,樣品裝載為抽屜式抽拉系統(tǒng),樣本操作方便 l  聚碳酸脂安全防護(hù)  技術(shù)參數(shù):電鏡有機(jī)樣本的刻蝕尺寸450mm(W)x350mm(D)x300mm(H)工作腔室派熱克斯玻璃 150mm(L)x100mm(Dia.) (硼硅酸鹽玻璃為標(biāo)準(zhǔn)配置)重量25Kg等離子體輸出最大150w,13.56 MHz 。等離子體輸出最大150w,13.56 MHz 。真空度 ATM to 1 x 10-5mbar;通常 0.5 mbar to 1.0 mbar.時間控制最長可設(shè)置99小時59分鐘雙重氣流控制雙重針閥氣流控制,可選1種或2種氣體(校準(zhǔn)   5-100cm3/min air at A.T.P)電源230 V, 50Hz (3 amp Max)


品牌: 深圳誠峰 型號: CRF-APO-500W 產(chǎn)地:深圳 供應(yīng)商:深圳市誠峰智造有限公司

配置專業(yè)運(yùn)動控制平臺,PLC+觸摸屏控制方式,采用精準(zhǔn)運(yùn)動模組,操作簡便; 配置專業(yè)集塵系統(tǒng),保證產(chǎn)品品質(zhì)和設(shè)備的整潔、干凈; 可選配噴頭數(shù)量,滿足客戶多元化需求;


等離子體表面處理儀 儀器網(wǎng)等離子體表面處理儀產(chǎn)品導(dǎo)購專場為您提供等離子體表面處理儀功能原理、規(guī)格型號、性能參數(shù)、產(chǎn)品價格、詳細(xì)產(chǎn)品圖片以及廠商聯(lián)系方式等實用信息,您可以通過設(shè)置不同查詢條件,選擇滿足您實際需求的等離子體表面處理儀產(chǎn)品,同時等離子體表面處理儀產(chǎn)品導(dǎo)購專場還為您提供精品優(yōu)選等離子體表面處理儀產(chǎn)品和等離子體表面處理儀相關(guān)技術(shù)資料、解決方案、招標(biāo)采購等綜合信息。
 
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