離子濺射儀 離子濺射儀是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌上型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜。離子濺射鍍膜要求試樣干燥清潔。為了使試樣表面清潔，必要時(shí)將試樣與陰極換位，利用火花放電清潔表面。然后試樣復(fù)原，再進(jìn)行濺射鍍膜。離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體為氧氣，常用的陰極材料有鐵、鎳、銅鉛等，有時(shí)電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬。 精品推薦
品牌： 上海孚光精儀 型號(hào)： fp-aligner 產(chǎn)地：德國(guó) 供應(yīng)商：孚光精儀（香港）有限公司

這款非接觸式掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)mask aligner 能夠適合6英寸,8英寸，12英寸晶圓掩膜對(duì)準(zhǔn)，是歐洲進(jìn)口的高精度紫外曝光機(jī). 非接觸式掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)mask aligner全面滿(mǎn)足科學(xué)研究，工藝級(jí)生產(chǎn)等多領(lǐng)域的應(yīng)用。完全采用非接觸式100%標(biāo)定系統(tǒng)，對(duì)晶圓和掩膜沒(méi)有傷害，大大提高間隙精度非接觸式掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)mask aligner適合各種電子元器件，包括半導(dǎo)體，LED,LD,MEMS，傳感器等。Alignment Scope Objectives separation 15 ~ 75mm Total magnification 100X Illuminator for observation Red LED (l=633 nm) X, Y Movement range of stage ±5 mm Adjustment ±5° Utility Power source for main body and mercury lamp AC 100V 50/60Hz 15A Vacuum source Below 21.3 Kpa (-80 Kpa from atmospheric pressure) Exposure Unit Lens Integrator lens Mercury lamp 250W ultra-high pressure vapor mercury lamp Effective exposure area Max 100 mm Intensity distribution ±5% or less Intensity of illumination 20 mW/cm2 (405 nm) Exposure time control Digital timer and rotary solenoid Mercury Lamp Lighting Unit AC 110V

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-600MS 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司

ETD-600MS微型磁控濺射儀是我公司研發(fā)生產(chǎn)的一款經(jīng)濟(jì)實(shí)用袖珍型鍍膜設(shè)備，更適合各科研及教育機(jī)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室的中試需求。配置參數(shù)如下：儀器尺寸：480mmWx320mmDx240H工作腔室：硼硅酸鹽玻璃180mmDx200mmH真空系統(tǒng)：渦輪分子泵，抽速為80L/s,前級(jí)機(jī)械泵抽速為2L/s帶防反油電磁閥及油污過(guò)濾器真空測(cè)量：采用復(fù)合真空計(jì)檢測(cè)真空極限真空度：優(yōu)于5X10-4Pa工作真空度：5X10-1Pa（濺射真空度手動(dòng)調(diào)節(jié)）濺射工作氣體：氬氣工作電壓：0-800V濺射電流：0-500mA電源：230V/50Hz(包括泵最大電流為6安培）靶材：D60-80mm多種弱磁靶選配項(xiàng)：氣體質(zhì)量流量計(jì)，冷水機(jī)，可根據(jù)用戶(hù)要求進(jìn)行功能改裝

品牌： 英國(guó)Quorum 型號(hào)： Q150V Plus 產(chǎn)地：英國(guó) 供應(yīng)商：天美（中國(guó)）科學(xué)儀器有限公司

產(chǎn)品簡(jiǎn)介Q150V Plus超高真空離子濺射/熱蒸發(fā)一體化鍍膜儀Q150V Plus為高真空鍍膜應(yīng)用做了優(yōu)化設(shè)計(jì)，極限真空度可達(dá)1x10-6mbar。結(jié)合潘寧規(guī)和皮拉尼規(guī)的使用，可以使易被氧化的金屬形成超小尺寸的顆粒，以實(shí)現(xiàn)高分辨率成像。高真空腔室也可以將氮?dú)?，氧氣和水完全除去，避免在濺射過(guò)程中因化學(xué)反應(yīng)導(dǎo)致雜質(zhì)和缺陷形成。較低的濺射速率還可獲得高純度和高密度的無(wú)定型碳膜。產(chǎn)品特點(diǎn)1. 極限真空度可達(dá)1x10-6mbar2. 新的LED狀態(tài)指示燈3. 16G內(nèi)存可以存儲(chǔ)1000個(gè)以上條件設(shè)置記錄4. 新軟件允許多用戶(hù)界面設(shè)置5. 新的電容觸摸屏設(shè)計(jì)

品牌： 英國(guó)Quorum 型號(hào)： Q150R ES PLUS 產(chǎn)地：英國(guó) 供應(yīng)商：天美（中國(guó)）科學(xué)儀器有限公司

Q150R ES PLUS標(biāo)配可互換的濺射插入頭及碳絲蒸鍍插入頭，集兩種功能于一體。濺射插入頭裝有磁控系統(tǒng)，可使濺射處理期間產(chǎn)生的高能電子偏轉(zhuǎn)，從而遠(yuǎn)離樣品。這有助于創(chuàng)建必要的冷濺射環(huán)境以消除熱影響，且確保濺射成膜中的精細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)；碳絲蒸鍍插入頭采用功能強(qiáng)大、無(wú)紋波直流電源，蒸發(fā)電流可控，確?？芍貜?fù)的碳蒸鍍膜。自動(dòng)蒸發(fā)源擋板可在鍍膜循環(huán)的除氣期間保護(hù)樣品?？焖?、易更換的3.05mm直徑碳棒蒸發(fā)插入頭作為可選，用于需要減慢速度但可控性更好的蒸發(fā)過(guò)程。

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-800 產(chǎn)地：北京 供應(yīng)商：北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司

ETD-800 型全自動(dòng)等離子濺射儀外觀亮麗做工精致，機(jī)箱大小僅有310mm x 260mm x 115mm。 ETD-800小型離子濺射儀是專(zhuān)門(mén)為掃描電子顯微鏡用戶(hù)設(shè)計(jì)的全自動(dòng)鍍膜設(shè)備；操作簡(jiǎn)便，放入樣品后可一鍵搞定；數(shù)字式計(jì)數(shù)器滿(mǎn)足精準(zhǔn)定時(shí)要求，特別適用對(duì)膜顆粒大小要求高的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡；膜厚均勻穩(wěn)定；

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-900 產(chǎn)地：北京 供應(yīng)商：北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司

TD-900 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致，離子濺射儀，噴金儀旋鈕式定時(shí)器檔位清晰，手感舒適；特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩(wěn)大氣，具有歐洲典雅風(fēng)范；前面板上的微泄漏氣閥門(mén)可以連接多種氣體；調(diào)節(jié)濺射電流大小，成膜速度快，質(zhì)量好；功能控制和定時(shí)皆由CPU調(diào)度，使用范圍廣。 工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得最佳鍍膜效果。 配有高位定性的飛躍真空泵

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-900M 產(chǎn)地：北京 供應(yīng)商：北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司

ETD-900M 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致。 磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。 配有高位定性的飛躍真空泵

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-3000 產(chǎn)地：北京 供應(yīng)商：北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司

ETD-3000型離子濺射儀外觀亮麗做工精致，旋鈕式定時(shí)器檔位清晰，手感舒適；特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩(wěn)大氣，具有歐洲典雅風(fēng)范；前面板上的微泄漏氣閥門(mén)可以連接多種氣體；調(diào)節(jié)濺射電流大小，成膜速度快，質(zhì)量好；高壓輸出可使成膜更加牢固快速。功能控制和定時(shí)皆由CPU調(diào)度，使用范圍廣。 工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得最佳鍍膜效果。 配有高位定性的飛躍真空泵

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-650MS 產(chǎn)地：北京 供應(yīng)商：北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司

ETD-650M型磁控濺射儀是我公司研制開(kāi)發(fā)的一款經(jīng)濟(jì)實(shí)用的袖珍型高真空磁控濺射設(shè)備，更適合各科研及教育機(jī)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室的中試驗(yàn)需求。系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（強(qiáng)/弱磁靶）、光纖旋轉(zhuǎn)臺(tái)（定制）、直流電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、循環(huán)水系統(tǒng)、膜厚監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。 真空系統(tǒng)：渦輪分子泵，抽速為300L/s 前級(jí)機(jī)械泵：抽速為4L/s，帶防返油電磁閥及油污過(guò)濾器 真空測(cè)量：采用復(fù)合真空計(jì)監(jiān)測(cè)真空

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-900C 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司

ETD-900C型濺射蒸碳儀是北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司針對(duì)SEM用戶(hù)研制生產(chǎn)的一款既能濺射金、銀、銅、鉑又能蒸發(fā)碳膜的一機(jī)多用設(shè)備。此款機(jī)器具有小巧方便操作簡(jiǎn)單成膜效果好之優(yōu)點(diǎn)，可以滿(mǎn)足廣大SEM用戶(hù)隨時(shí)樣品制備的需要。

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-900 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司

ETD-900 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致，旋鈕式定時(shí)器檔位清晰，手感舒適；特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩(wěn)大氣，具有歐洲典雅風(fēng)范；前面板上的微泄漏氣閥門(mén)可以連接多種氣體；調(diào)節(jié)濺射電流大小，成膜速度快，質(zhì)量好；功能控制和定時(shí)皆由CPU調(diào)度，使用范圍廣。

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-800 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司

ETD-800小型離子濺射儀是專(zhuān)門(mén)為掃描電子顯微鏡用戶(hù)設(shè)計(jì)的全自動(dòng)鍍膜設(shè)備；操作簡(jiǎn)便，放入樣品后可一鍵搞定；數(shù)字式計(jì)數(shù)器滿(mǎn)足精準(zhǔn)定時(shí)要求，特別適用對(duì)膜顆粒大小要求高的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡；外觀時(shí)尚小巧，機(jī)箱大小僅 310mm x 260mm x 115mm。

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-2000/3000 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司

儀器簡(jiǎn)介：ETD-2000/3000型離子濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，最簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。技術(shù)參數(shù)：配置參數(shù)如下： 1、靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.12mm 2、真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm 3、濺射面積： Ф50mm，最大放置 4、真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar 5、離子電流表： 最大電流：50mA(100mA) 6、定時(shí)器： 最長(zhǎng)時(shí)間：900S 7、微型真空氣閥： 可連接φ3mm軟管 8、可通入氣體： 多種 9、最高電壓： -1600（-3000）DCV 10、機(jī)械泵： 2L/S主要特點(diǎn)：特點(diǎn)： 1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監(jiān)控儀器狀態(tài)； 2. 濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥。在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室 壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得最佳鍍膜效果； 3. 特殊設(shè)計(jì)的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長(zhǎng)期使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘 罩“崩邊”現(xiàn)象； 4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經(jīng)久耐用； 5. 根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層更均 勻純凈。

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-2000Ⅲ 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司

儀器簡(jiǎn)介：ETD-2000 Ⅲ 型離子濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，最簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。他的特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)設(shè)計(jì)安裝了三個(gè)靶。旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，可以依次在同一樣品上涂覆三種材料。適用于實(shí)驗(yàn)室的各種復(fù)合膜樣品制備，及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。技術(shù)參數(shù)：配置參數(shù)如下：- 靶（上部電極）：直徑：45mm，厚度：0.12mm - 真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm - 濺射面積： Ф45mm，三區(qū)域 - 真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar - 離子電流表： 最大電流：50mA - 定時(shí)器： 最長(zhǎng)時(shí)間：900S - 微型真空氣閥： 可連接φ3mm軟管 - 可通入氣體： 多種 - 最高電壓： -1600（-3000）DCV - 機(jī)械泵： 2L/S主要特點(diǎn)：特點(diǎn)：1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監(jiān)控儀器狀態(tài)； 2. 濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥。在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得最佳鍍膜效果； 3. 特殊設(shè)計(jì)的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長(zhǎng)期使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象； 4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經(jīng)久耐用； 5. 根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-2000C 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司

儀器簡(jiǎn)介：ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，最簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。滿(mǎn)足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。技術(shù)參數(shù)：配置參數(shù)如下：- 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H） - 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H） - 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H） - 樣品臺(tái)： 50mm (D) - 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar - 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào) - 濺射電流： 0-50mA - 濺射定時(shí)： 1-9999S - 蒸碳電流 0-10A(AC) - 真空泵： 2升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）主要特點(diǎn)：在 ETD-2000離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。

品牌： 北京裕隆 型號(hào)： LJ-16 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京裕隆時(shí)代科技有限公司

產(chǎn)品描述LJ-16小型離子濺射儀由裕隆時(shí)代公司精心設(shè)計(jì)制造，是專(zhuān)用于掃描電鏡（SEM）的樣品噴金鍍膜系統(tǒng)，能夠極為有效的提高電鏡觀測(cè)效果。產(chǎn)品特點(diǎn)： 操作簡(jiǎn)便，性能優(yōu)越，質(zhì)量穩(wěn)定，功能豐富相比上一代產(chǎn)品，LJ-16小型離子濺射儀有大幅度的性能提升：◆換裝新一代真空泵，大幅降低儀器噪音?！魳?biāo)配樣品室真空表和濺射電流表，實(shí)時(shí)顯示和監(jiān)控儀器狀態(tài)。◆特殊設(shè)計(jì)的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長(zhǎng)期使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象?！襞渲脼R射電流控制器和微型真空氣閥。結(jié)合自動(dòng)控制電路，輕松控制真空室壓強(qiáng)、電離電流，并可任意選擇所需電離氣體，以獲得最佳鍍膜效果?！魳?biāo)配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸純金靶，濺射范圍更大，可同時(shí)濺射6個(gè)樣品，靶材使用時(shí)間更長(zhǎng)。◆預(yù)設(shè)參數(shù)，一鍵操作即可完成濺射功能。工作狀態(tài)噴鍍效果應(yīng)用案例：噴金前后圖像對(duì)比樣品為水泥，由于導(dǎo)電性不好，可以看到，（上圖）噴金前5000倍的圖像已經(jīng)略顯模糊。在相同的實(shí)驗(yàn)條件下，樣品用LJ-16小型離子濺射儀噴金后，圖像輕松放大45000倍（下圖），并可見(jiàn)非常清晰的水泥晶體結(jié)構(gòu)?？梢?jiàn)LJ-16離子濺射儀能夠極為有效的提高掃描電鏡圖像質(zhì)量，為您的科研工作提供極大幫助。技術(shù)參數(shù)名稱(chēng)規(guī)格名稱(chēng)規(guī)格玻璃處理室內(nèi)徑Ф 115mm x 高度130mm真空保護(hù)20PA配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空試樣臺(tái)尺寸內(nèi)徑Ф 40mm, 可同時(shí)放六個(gè)樣品杯工作媒介氣體空氣或氬氣，配有氬氣專(zhuān)用進(jìn)氣和微量充氣調(diào)節(jié)金靶尺寸Ф58mm X 0.12mm 定時(shí)開(kāi)關(guān)控制濺射時(shí)間，范圍為10～110S真空系統(tǒng)直聯(lián)旋片真空泵 2L/秒可用靶材金靶，鉑靶，鎳靶真空檢測(cè)皮氏計(jì)產(chǎn)品尺寸400mm X 500mm X 400mm（帶玻璃罩）工作電源220 VAC 50Hz客戶(hù)服務(wù)裕隆時(shí)代擁有一支涉及眾多領(lǐng)域高素質(zhì)的應(yīng)用支持團(tuán)隊(duì)，向客戶(hù)提供完整的實(shí)驗(yàn)室解決方案和良好的售后服務(wù)。我們承諾24小時(shí)內(nèi)對(duì)客戶(hù)需求做出反應(yīng)。專(zhuān)業(yè)勤奮的銷(xiāo)售隊(duì)伍，隨時(shí)為您提供咨詢(xún)服務(wù)。經(jīng)驗(yàn)豐富的專(zhuān)家隊(duì)伍，為您答疑解惑，拓展您的應(yīng)用領(lǐng)域，提升客戶(hù)應(yīng)用水平。勤勉敬業(yè)的售后團(tuán)隊(duì)，向您提供專(zhuān)業(yè)及時(shí)的售后服務(wù)，解決您的后顧之憂。裕隆時(shí)代，您最好的選擇！

品牌： 北京中科科儀 型號(hào)： SBC-12 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京中科科儀股份有限公司

儀器簡(jiǎn)介：本儀器主要適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡(jiǎn)單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣必備的儀器。技術(shù)指標(biāo)： 玻璃處理室：∮100毫米，高度130毫米 試樣臺(tái)尺寸：∮40毫米可同時(shí)放6個(gè)樣品杯 金靶尺寸：∮58毫米 真空系統(tǒng)：直聯(lián)旋片真空泵2升/秒 真空檢測(cè)：皮氏計(jì) 真空保護(hù)：20Pa配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空 工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，配有氬氣專(zhuān)用進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié) 可以濺射鐵、鈷、鉺

品牌： 英國(guó)Cressington 型號(hào)： Cressington 108 產(chǎn)地：英國(guó) 供應(yīng)商：溢鑫科創(chuàng)科技集團(tuán)

英國(guó)Cressington高性能離子濺射儀系統(tǒng)是現(xiàn)階段配套掃描電鏡SEM，透射電鏡TEM，電子探針最佳的配套前級(jí)樣品處理系統(tǒng)以及均勻高導(dǎo)電率的電極薄膜制備，溢鑫科創(chuàng)Yi Xin Technology是Cressington在中國(guó)唯一官方授權(quán)代表，全權(quán)負(fù)責(zé)此產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)產(chǎn)品銷(xiāo)售，售后服務(wù)，市場(chǎng)推廣和授權(quán)等工作。 Cressington 108 SPUTTER COATERCressington 108/108Auto離子濺射儀是用于電鏡樣品前處理，制作電極的最先進(jìn)高質(zhì)量的鍍膜儀系統(tǒng)主要優(yōu)勢(shì)功能：自動(dòng)的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和最佳的導(dǎo)電噴鍍效果。通過(guò)高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過(guò)程，避免樣品表面受損。操作容易快捷，可全自動(dòng)或手動(dòng)進(jìn)行噴鍍操作，控制的參數(shù)包括自動(dòng)放氣以及氬氣換氣控制。在自動(dòng)模式下，可通過(guò)兩種方式進(jìn)行控制鍍膜過(guò)程?？赏ㄟ^(guò)數(shù)字顯示器控制得到可重現(xiàn)的噴鍍效果?？膳鋫銶TM-10高分辨膜厚監(jiān)控儀（選件）(分辨率優(yōu)于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氬氣壓力影響，可得到一致的鍍膜速率和最佳的鍍膜效果。可使用多種金屬靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd，靶材更換快速方便。技術(shù)規(guī)格：樣品倉(cāng)尺寸： 120 x 120mm（高） (4.75 x 4.75")，高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu)樣品臺(tái)：可放置12個(gè)標(biāo)準(zhǔn)SEM樣品座，高度可在 60mm內(nèi)調(diào)節(jié)濺鍍優(yōu)點(diǎn)：基于微處理器反饋控制，遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng)；提供真空安全聯(lián)鎖裝置，最大180A，配有過(guò)流保護(hù)濺射控制：微處理器控制，安全互鎖，可調(diào)，最大電流40mA，程序化數(shù)字控制濺射頭：低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩模擬計(jì)量：真空 Atm - 0.01mb 電流: 0 - 200A厚度監(jiān)測(cè)器： MTM-10高精度厚度監(jiān)測(cè)器(選配)控制方式：自動(dòng)氣體換氣和泄氣功能，自動(dòng)處理排序，帶有“暫停”控制的數(shù)字定時(shí)器（0－300s），自動(dòng)放氣電源：200-240 VAC, 50/60Hz功率：1000VA (包括鍍碳機(jī)和真空系統(tǒng))氬氣： 純度優(yōu)于99.9%，壓力調(diào)節(jié)0.5-0.6 bar, 6mm連接軟管備注：為保證銷(xiāo)售渠道正規(guī)，配套方案先進(jìn)及統(tǒng)一的市場(chǎng)管理和售后服務(wù)，英國(guó)cressington在各個(gè)國(guó)家都只設(shè)唯一授權(quán)代理，中國(guó)官方授權(quán)總代為：溢鑫科創(chuàng)Yi Xin Technology，詳細(xì)信息請(qǐng)參考英國(guó)原廠官方網(wǎng)站。

品牌： 英國(guó)Cressington 型號(hào)： Cressington 208HR 產(chǎn)地：英國(guó) 供應(yīng)商：溢鑫科創(chuàng)科技集團(tuán)

Cressington 208HR SPUTTER COATER 超高分辨濺射鍍膜儀分子泵超高分辨鍍膜，電鏡放大倍率可到30-60萬(wàn)倍也不會(huì)看到鍍膜顆粒，非常適合于現(xiàn)階段超高分辨場(chǎng)發(fā)射電鏡或雙束電鏡，電子探針等，如 FEI Nova, Megglen, Verios, Helios等， 日立電鏡的SU80000， SU8200, S4800， 9000系列等， 日本電子 7600F, 7800F等， 蔡司的Merlin, Ultra, Gemini, Auriga系列等。分子泵超高分辨鍍膜，放大倍率可到30-60萬(wàn)倍也不會(huì)看到鍍膜顆粒，適用于現(xiàn)階段超高分辨場(chǎng)發(fā)射或雙束電鏡使用如FEI Nova,Megglen,Verios,Helios等; Hitachi SU8000,SU8200,S4800,9000等; JEOL 7600F 7800F等; ZEISS Merlin,Ultra,Auriga; 為了答謝廣大中國(guó)電鏡工作者對(duì)于英國(guó)Cressington產(chǎn)品信賴(lài)和支持，以及對(duì)于溢鑫科創(chuàng)工作的配合和支持，我司和英國(guó)原廠特舉辦回饋優(yōu)惠活動(dòng)：凡在2015年12月30日前購(gòu)置超高分辨208HR鍍膜系統(tǒng)，將贈(zèng)送超高分辨膜厚監(jiān)控儀MTM-20以及高性能旋轉(zhuǎn)傾斜行星樣品臺(tái)。專(zhuān)利磁控冷態(tài)噴鍍專(zhuān)利冷態(tài)鍍膜設(shè)計(jì)使用真正的“平衡磁控管”沒(méi)有等離子體電流在樣品，在得到高分辨非晶鍍膜層同時(shí)避免樣品受到熱損傷，對(duì)熱損傷或輻照損傷敏感樣品尤為適合廣泛的鍍層靶材選擇特殊雙極磁控管頭設(shè)計(jì)和有效的氣體離子處理使得208HR擁有廣泛多種鍍層靶材選擇全自動(dòng)化設(shè)計(jì)自動(dòng)的換氣與泄氣功能，濺射電流和電壓通過(guò)磁控頭的傳感線監(jiān)控，蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制保證了均勻一致的膜厚，和最佳的導(dǎo)電噴鍍效果。超高精度膜厚監(jiān)控設(shè)計(jì)使用可選MTM-20全自動(dòng)高分辨膜厚監(jiān)控儀可優(yōu)化設(shè)計(jì)鍍膜條件達(dá)到0.1nm膜厚可控效果多用途樣品托設(shè)計(jì)獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)，水平和傾斜 3軸移動(dòng)設(shè)計(jì)優(yōu)化了多樣品以及不規(guī)則樣品的均勻一直鍍膜可變的樣品室?guī)缀卧O(shè)計(jì)為了優(yōu)化鍍層結(jié)構(gòu)樣品室?guī)缀卧O(shè)計(jì)可用于調(diào)整噴鍍速度從1.0納米每秒到0.002納米每秒廣泛的操作氣體壓力獨(dú)立的電壓，電流以及壓力回路控制系統(tǒng)允許可操作氬氣壓力從0.2-0.005mbar真空度緊湊型時(shí)尚桌面式設(shè)計(jì)節(jié)能，緊湊設(shè)計(jì)消除了對(duì)于樓層空間要求，水要求和專(zhuān)業(yè)電氣連接要求鍍膜不同多樣樣品超高分辨208HR鍍膜系統(tǒng)現(xiàn)在針對(duì)噴鍍不同電鏡樣品提供了最理想的解決方案。為了減小噴鍍晶粒尺寸影響，208HR提供一套全系列的鍍膜靶材材料和前所未有的膜厚鍍層控制條件。為了更小優(yōu)化充電效果，208HR的特殊樣品臺(tái)設(shè)計(jì)和大范圍的操作壓力提供了高精度的鍍膜一致性和統(tǒng)一性。 高低樣品室的配置也提供了更為方便的工作距離調(diào)整?？烧{(diào)式旋轉(zhuǎn)傾斜水平樣品臺(tái) 超高分辨全自動(dòng)膜厚監(jiān)控儀 MTM-20208HR超高分辨鍍膜儀技術(shù)規(guī)格：樣品倉(cāng)尺寸： 150mm 直徑， 可調(diào)高度： 165mm - 250mm，高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu)濺射管頭：低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩噴鍍靶材：鉻，鉑/鈀 標(biāo)配， 金，鎢，銅，鋁，銥，銀等選配，其他材料按客戶(hù)需求提供濺鍍優(yōu)點(diǎn)：基于微處理器反饋控制，遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng)；提供真空安全聯(lián)鎖裝置，最大180A，配有過(guò)流保護(hù)，數(shù)字化可選電流（20，40，60 或80毫安）樣品臺(tái)：可放置12個(gè)標(biāo)準(zhǔn)EM樣品座，0到90度傾斜可調(diào)的旋轉(zhuǎn)水平樣品座，石英晶體探頭模擬計(jì)量：真空 Atm - 0.001mb 電流: 0 100mA控制方式： 全自動(dòng)噴鍍控制，自動(dòng)卸真空自動(dòng)進(jìn)氣功能，使用可編程電壓控制和計(jì)時(shí)數(shù)字計(jì)時(shí) (0 300秒)以及暫停設(shè)計(jì)；全自動(dòng)真空監(jiān)測(cè)系統(tǒng)真空系統(tǒng)： 標(biāo)配無(wú)油分子泵真空以及機(jī)械泵真空系統(tǒng)，泵抽速達(dá)到每秒80L，1.5分鐘內(nèi)抽到真空度到1 x 10-4 mbar, 極限真空優(yōu)于5 x 10-6 mbar，附帶減震臺(tái)的桌面式真空泵設(shè)計(jì)，全金屬耦合系統(tǒng)全自動(dòng)超高分辨膜厚監(jiān)控儀技術(shù)規(guī)格：MTM-20 基于微處理控制，4位顯示系統(tǒng)，6MHZ晶體監(jiān)探器，每秒5次實(shí)時(shí)監(jiān)控 MTM-20膜厚監(jiān)控范圍： 0到999.9納米分辨率： 優(yōu)于0.1納米密度范圍：0.50到30.00gm/cm3安裝環(huán)境要求：電源：200-240 VAC, 50/60Hz 功率：550VA氬氣要求：99.99% 純氬氣，壓力設(shè)定0.5/0.6 bar, 6.0mm管路接口設(shè)備尺寸：寬600mm， 深600mm，高450mm, 重量40kG 備注：為保證銷(xiāo)售渠道正規(guī)，配套方案先進(jìn)及統(tǒng)一的市場(chǎng)管理和售后服務(wù)，英國(guó)cressington在各個(gè)國(guó)家都只設(shè)唯一授權(quán)代理，中國(guó)官方授權(quán)總代為：溢鑫科創(chuàng)Yi Xin Technology，詳細(xì)信息請(qǐng)參考英國(guó)原廠官方網(wǎng)址。

品牌： 英國(guó)Cressington 型號(hào)： Cressington 208C 產(chǎn)地：英國(guó) 供應(yīng)商：溢鑫科創(chuàng)科技集團(tuán)

英國(guó)Cressington是業(yè)內(nèi)最知名的電鏡和電子探針配套的高性能真空鍍膜儀供應(yīng)商，也是此類(lèi)儀器配套方案的先驅(qū)者。自從上世紀(jì)六十年代開(kāi)始，伴隨著商業(yè)掃描電鏡的普及，Cressington的配套鍍膜設(shè)備也一并研發(fā)和配套使用，并獲得科研工作者的一致好評(píng)。208C High Vacuum Turbo CARBON COATER for TEM,FESEM透射專(zhuān)用分子泵超高真空鍍碳儀 主要優(yōu)勢(shì):超高真空條件下使用超純的碳棒獲得超高質(zhì)量鍍膜處理, 特別適合TEM(Cs), STEM 和高端場(chǎng)發(fā)射電鏡系統(tǒng);反饋控制可以得到均勻一致鍍厚,電壓控制的碳棒具有多次蒸發(fā)能力;可選擇操作方法優(yōu)化鍍膜過(guò)程,繁忙條件下可進(jìn)行自動(dòng)蒸發(fā)控制; 超高分辨膜厚監(jiān)測(cè)儀保證超高質(zhì)量可重復(fù)的鍍膜效果; 無(wú)油分子渦輪真空系統(tǒng)快速地使150mm樣品室達(dá)到要求的真空度; 無(wú)須水冷卻系統(tǒng), 無(wú)須加熱或冷卻, 制樣周期短, 操作方便。208C樣品室: 樣品室的組件設(shè)計(jì)方式可適應(yīng)多種附件使用; 獨(dú)特的標(biāo)準(zhǔn)化高/低真空壓力調(diào)節(jié)通過(guò)精密針閥完成; 高真空用于最高質(zhì)量地鍍膜，如用于TEM制樣; 低真空用于TEM柵網(wǎng)輝光放電清潔及掃描電鏡觀察中形貌復(fù)雜樣品的鍍膜; 旋轉(zhuǎn)－傾斜臺(tái)特別為T(mén)EM樣品處理設(shè)計(jì), 可放置25 x75mm的玻片或同時(shí)對(duì)多個(gè)樣品進(jìn)行移植鍍膜處理。 備注：為保證銷(xiāo)售渠道正規(guī)，配套方案先進(jìn)及統(tǒng)一的市場(chǎng)管理和售后服務(wù)，英國(guó)cressington在各個(gè)國(guó)家都只設(shè)唯一授權(quán)代理，中國(guó)官方授權(quán)總代為：溢鑫科創(chuàng)Yi Xin Technology，詳細(xì)信息請(qǐng)參考英國(guó)原廠官方網(wǎng)址:

品牌： 英國(guó)Cressington 型號(hào)： Cresstington 108C 產(chǎn)地：英國(guó) 供應(yīng)商：溢鑫科創(chuàng)科技集團(tuán)

108C Carbon/A Auto CARBON COATER 電鏡專(zhuān)用高真空鍍碳儀 英國(guó)Cressington是業(yè)內(nèi)最知名的電鏡和電子探針配套的高性能真空鍍膜儀供應(yīng)商，也是此類(lèi)儀器配套方案的先驅(qū)者。自從上世紀(jì)六十年代開(kāi)始，伴隨著商業(yè)掃描電鏡的普及，Cressington的配套鍍膜設(shè)備也一并研發(fā)和配套使用，并獲得科研工作者的一致好評(píng)。Features優(yōu)勢(shì)說(shuō)明：源自1973年英國(guó)先進(jìn)的電鏡配套鍍膜工藝，60多年專(zhuān)業(yè)技術(shù)及全球5000名科研工作者的信賴(lài)； 獨(dú)特的受反饋控制的碳棒蒸發(fā)系統(tǒng)可以在膜厚為20nm左右進(jìn)行多次蒸發(fā)，無(wú)須切削或調(diào)整碳棒形狀；108C中使用的高純碳棒可以在高倍下得到高質(zhì)量的鍍膜效果，以便進(jìn)行電鏡成像和能譜儀X射線EDS或EBSD分析； 使用新型的蒸發(fā)裝置：電流和電壓通過(guò)磁控頭傳感監(jiān)控，蒸發(fā)源作為反饋回路一部分被控制，該蒸發(fā)裝置使常規(guī)碳棒具有優(yōu)良的鍍膜穩(wěn)定性和重現(xiàn)性； 自動(dòng)模式下，蒸發(fā)源按程序設(shè)定進(jìn)行鍍膜，手動(dòng)模式下，獨(dú)特的設(shè)計(jì)允許以脈沖或連續(xù)方式操作，并通過(guò)旋鈕控制輸出電壓 Specification技術(shù)規(guī)格： 樣品倉(cāng)尺寸 120 mm x 120mm, 高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu) 樣品臺(tái) 可放置12個(gè)標(biāo)準(zhǔn)SEM樣品座，高度可在 60mm內(nèi)調(diào)節(jié) 濺鍍材料 Bradley 型高純度碳棒, 無(wú)需削減或調(diào)整濺鍍優(yōu)點(diǎn) 基于微處理器反饋控制，遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng)；提供真空安全聯(lián)鎖裝置，最大180A，配有過(guò)流保護(hù) 模擬計(jì)量 真空Atm - 0.001mb,電流: 0 - 200A 控制方式 自動(dòng)蒸鍍控制，使用可編程電壓控制和計(jì)時(shí)；可選擇手動(dòng)操作或自動(dòng)控制數(shù)字計(jì)時(shí) (0 30秒)，數(shù)字電壓設(shè)定 (0.1 to 6.0V) 膜厚監(jiān)控儀MTM-10高精度膜厚監(jiān)控儀(選配) 工作電壓220V, 50/60HZ 適用配套FEI, Phenom, Zeiss, JEOL, Hitachi, Tescan等掃描電鏡系統(tǒng) 備注：為保證銷(xiāo)售渠道正規(guī)，配套方案先進(jìn)及統(tǒng)一的市場(chǎng)管理和售后服務(wù)，英國(guó)cressington在各個(gè)國(guó)家都只設(shè)唯一授權(quán)代理，中國(guó)官方授權(quán)總代為：溢鑫科創(chuàng)Yi Xin Technology

品牌： 英國(guó)Cressington 型號(hào)： Cressington 108Auto 產(chǎn)地：英國(guó) 供應(yīng)商：溢鑫科創(chuàng)科技集團(tuán)

英國(guó)Cressington高性能離子濺射儀系統(tǒng)是現(xiàn)階段配套掃描電鏡SEM，透射電鏡TEM和電子探針最佳的配套前級(jí)樣品處理系統(tǒng)以及均勻高質(zhì)量的電極薄膜制備，溢鑫科創(chuàng)Yi Xin Technology是Cressington在中國(guó)唯一官方授權(quán)代表，全權(quán)負(fù)責(zé)此產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)產(chǎn)品銷(xiāo)售，售后服務(wù)，市場(chǎng)推廣和授權(quán)等工作。               Cressington 108 Auto/ Manual SPUTTER COATER Cressington 108/108Auto離子濺射儀是用于電鏡樣品前處理，制作電極的最先進(jìn)高質(zhì)量的鍍膜儀系統(tǒng)主要優(yōu)勢(shì)功能：自動(dòng)的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和最佳的導(dǎo)電噴鍍效果。通過(guò)高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過(guò)程，避免樣品表面受損。操作容易快捷，可全自動(dòng)或手動(dòng)進(jìn)行噴鍍操作，控制的參數(shù)包括自動(dòng)放氣以及氬氣換氣控制。在自動(dòng)模式下，可通過(guò)兩種方式進(jìn)行控制鍍膜過(guò)程?？赏ㄟ^(guò)數(shù)字顯示器控制得到可重現(xiàn)的噴鍍效果。可配備MTM-10高分辨膜厚監(jiān)控儀（選件）(分辨率優(yōu)于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氬氣壓力影響，可得到一致的鍍膜速率和最佳的鍍膜效果。可使用多種金屬靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd，靶材更換快速方便。技術(shù)規(guī)格：樣品倉(cāng)尺寸： 120 x 120mm（高） (4.75 x 4.75 )，高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu)樣品臺(tái)：可放置12個(gè)標(biāo)準(zhǔn)SEM樣品座，高度可在 60mm內(nèi)調(diào)節(jié)濺鍍優(yōu)點(diǎn)：基于微處理器反饋控制，遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng)；提供真空安全聯(lián)鎖裝置，最大180A，配有過(guò)流保護(hù) 濺射控制：微處理器控制，安全互鎖，可調(diào)，最大電流40mA，程序化數(shù)字控制濺射頭：低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩模擬計(jì)量：真空 Atm - 0.01mb 電流: 0 - 200A厚度監(jiān)測(cè)器： MTM-10高精度厚度監(jiān)測(cè)器(選配)控制方式：自動(dòng)氣體換氣和泄氣功能，自動(dòng)處理排序，帶有“暫停”控制的數(shù)字定時(shí)器（0－300s），自動(dòng)放氣電源：200-240 VAC, 50/60Hz 功率：1000VA (包括鍍碳機(jī)和真空系統(tǒng))氬氣： 純度優(yōu)于99.9%，壓力調(diào)節(jié)0.5-0.6 bar, 6mm連接軟管 備注：為保證銷(xiāo)售渠道正規(guī)，配套方案先進(jìn)及統(tǒng)一的市場(chǎng)管理和售后服務(wù)，英國(guó)cressington在各個(gè)國(guó)家都只設(shè)唯一授權(quán)代理，中國(guó)官方授權(quán)總代為：溢鑫科創(chuàng)Yi Xin Technology，詳細(xì)信息請(qǐng)參考英國(guó)原廠官方網(wǎng)站信息。

品牌： 北京和同創(chuàng)業(yè) 型號(hào)： JS-1600M 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京和同創(chuàng)業(yè)科技有限責(zé)任公司

一、產(chǎn)品應(yīng)用：JS-1600M型磁控濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，最簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。二、配置及技術(shù)指標(biāo)：1.本系統(tǒng)裝配了水冷卻磁控靶，靶面直徑為50mm2.主機(jī)規(guī)格：L360mm*W300mm*H380mm3.靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm4.真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm5.濺射面積： Ф50mm 6.真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar7.離子電流表： 最大電流：100mA8.定時(shí)器： 最長(zhǎng)時(shí)間：3600S9.微型真空氣閥： 可連接φ3mm軟管10.可通入氣體： 多種11.最高電壓： -1600 DCV12.機(jī)械泵： 2L/S三、產(chǎn)品特點(diǎn)1.輕便、濺射面積大2.可以濺射鉑、金及銀等金屬3.濺射效率高，可水冷降溫

品牌： 北京和同創(chuàng)業(yè) 型號(hào)： JS-1600 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京和同創(chuàng)業(yè)科技有限責(zé)任公司

儀器簡(jiǎn)介： 本儀器主要適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍膜導(dǎo)電膜(金膜),儀器操作簡(jiǎn)單方便, 是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣必備的儀器。技術(shù)參數(shù)：1.靶（上部電極）：材料：金，直徑：50mm，厚度：0.1mm 純度：99.999%2、真空室：直徑：160mm，高：110mm3.樣品臺(tái)（下部電極）：濺射面積：直徑：50mm4．工作真空： 2×10-110-1 mbar5.離子電流表：最大電流：50mA6.計(jì)時(shí)器：根據(jù)濺射習(xí)慣設(shè)定單次濺射時(shí)間。7.最高電壓：-1600DVC8.機(jī)械泵:2升/每秒9.工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，10．真空氣閥： 配有氬氣專(zhuān)用進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)，可連接φ4*2.5mm軟管。主要特點(diǎn)： 輕便、濺射面積大 靶材可按用戶(hù)要求加工制作

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-800C 產(chǎn)地：北京 供應(yīng)商：北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司

ETD-800C型熱蒸發(fā)鍍膜儀把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過(guò)對(duì)鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過(guò)程。

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-900C 產(chǎn)地：北京 供應(yīng)商：北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司

ETD-900C 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致，是北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司針對(duì)SEM用戶(hù)研制生產(chǎn)的一款既能濺射金、銀、銅、鉑又能蒸發(fā)碳膜的一機(jī)多用設(shè)備。此款機(jī)器具有小巧方便操作簡(jiǎn)單成膜效果好之優(yōu)點(diǎn)，可以滿(mǎn)足廣大SEM用戶(hù)隨時(shí)樣品制備的需要。 工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得最佳鍍膜效果。 配有高位定性的飛躍真空泵

品牌： 英國(guó)Quorum 型號(hào)： Q150T ES PLUS 產(chǎn)地：英國(guó) 供應(yīng)商：天美（中國(guó)）科學(xué)儀器有限公司

Q150T ES PLUS集成了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空鍍膜方式。濺射插入頭裝有磁控系統(tǒng)，可使濺射處理期間產(chǎn)生的高能電子偏轉(zhuǎn)，從而遠(yuǎn)離樣品，這有助于創(chuàng)建必要的冷濺射環(huán)境以消除熱影響，且確保濺射成膜中的精細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)；碳棒蒸發(fā)插入頭采用穩(wěn)定的無(wú)紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā)方式，確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳。

品牌： 日立 型號(hào)： MC1000 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：天美（中國(guó)）科學(xué)儀器有限公司

產(chǎn)品簡(jiǎn)介日立離子濺射儀 MC1000日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造，針對(duì)掃描電鏡的精細(xì)高端需求而設(shè)計(jì)，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品，尤其適合于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測(cè)應(yīng)用。主要特點(diǎn)：1. 操作方便且有記憶功能，首創(chuàng)LCD觸摸屏控制技術(shù)，可存儲(chǔ)五種處理方案；2. 通過(guò)磁場(chǎng)控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；3. 通過(guò)選配測(cè)量單元可實(shí)現(xiàn)1nm至30nm的鍍層厚度控制。 應(yīng)用領(lǐng)域：離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀測(cè)效率，另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

品牌： 美國(guó)MVSystems 型號(hào)： MVS－sputter 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

濺射設(shè)備 MVSMVS提供單靶材或多靶濺射設(shè)備。可根據(jù)用戶(hù)需求定制。制備透明導(dǎo)電薄膜 (如ITO，AZO)。 MVSystems, Inc. 由曼登博士（Dr. Arun Madan）創(chuàng)建于1989年。曼登博士曾在英國(guó)丹迪大學(xué)從師于斯皮爾（Walter Spear)教授，是1970年代最早從事非晶硅材料和器件研究的人員之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶體管（TFT)方面進(jìn)行了開(kāi)創(chuàng)性的研究，這是他的博士論文的主要內(nèi)容之一。非晶硅薄膜晶體管現(xiàn)已成為平板顯示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半導(dǎo)體技術(shù)和先進(jìn)的高真空半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備方面擁有14項(xiàng)專(zhuān)利，包括：多腔室PECVD沉積系統(tǒng) 主要產(chǎn)品 用于柔性襯底的Reel-to-reel多室系統(tǒng) - 主要產(chǎn)品碳熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備 摻氟納米硅（微晶硅）材料P型寬帶隙非晶硅材料 摻氟二氧化錫絨面透明導(dǎo)電膜（與日本Asahi公司合作）公司生產(chǎn)制造的80多臺(tái)設(shè)備已銷(xiāo)往全世界23個(gè)國(guó)家和地區(qū)。公司生產(chǎn)的主要薄膜材料和器件產(chǎn)品包括：材料器件非晶硅（a-Si:H)薄膜硅太陽(yáng)電池納米(微晶)硅 (nc-Si)薄膜晶體管氮化硅(SiNx)，氧化硅(SiOx)，氮氧化硅(SiON)成像器件氧化鋅(AZO)，銦錫氧化物(ITO), 二氧化錫(SnO2)X光探測(cè)器MVSystems公司設(shè)計(jì)，制造和提供各類(lèi)單腔室和多腔室薄膜沉積設(shè)備。另外，根據(jù)用戶(hù)的需求，各種PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以單個(gè)制造，也可配備到現(xiàn)有的團(tuán)簇型（星型）或是直線型沉積系。我們公司的工程設(shè)計(jì)部門(mén)盡可能為用戶(hù)著想，以使用戶(hù)們獲取他們最需要的且價(jià)格合適的設(shè)備。

品牌： 北京馳奔 型號(hào)： GC系列 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京馳奔儀器有限公司

【簡(jiǎn)介】 馳奔-E系列掃描電鏡，高真空模式或高分辨模式，要求樣品必須導(dǎo)電良好，否則樣品表面荷電造成圖像缺陷和分辨率惡化。對(duì)于非導(dǎo)電樣品，表面導(dǎo)電膜層制備，最常使用濺射金屬導(dǎo)電膜層。常用貴金屬如Au、Pt、Au/Pd合金，獲的細(xì)小晶粒的精細(xì)膜層。 馳奔GC系列離子濺射儀，可滿(mǎn)足各種材料的濺射鍍膜、各種掃描電鏡額濺射鍍膜。為客戶(hù)提供正確解決方案?！咎攸c(diǎn)】 ● 多種靶材可供可選 ● 兩種普通直流和磁控濺射模式可選 ● 大型玻璃工作室，濺射過(guò)程中真空穩(wěn)定，濺射電流穩(wěn)定，濺射膜層均勻。 ● 可以實(shí)現(xiàn)冷濺射，無(wú)樣品熱損傷。 ● 可選擇旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、可傾斜旋轉(zhuǎn)臺(tái)。確保極度粗糙表面，球形顆粒獲得良好鍍膜?！炯夹g(shù)指標(biāo)】真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm樣品臺(tái)及工作距離：高配旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，簡(jiǎn)配固定樣品臺(tái)，高度手動(dòng)調(diào)節(jié)濺射面積： Ф50mm，最大放置真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar離子電流表： 最大電流：50mA/100mA高壓：-1200V/ -3000V定時(shí)器： 最長(zhǎng)時(shí)間：1~3600S真空度手動(dòng)控制：微型真空氣閥，可連接φ3mm軟管可通入氣體： 多種、機(jī)械泵： 2L/S （120L/min）

品牌： 北京馳奔 型號(hào)： DESK-V 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：北京馳奔儀器有限公司

DESK-V TSC型小型離子濺射儀，采用磁控濺射方式，廣泛用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡或透射電鏡樣品制備或高質(zhì)量鍍膜試驗(yàn)。采用專(zhuān)利的陽(yáng)極保護(hù)柵網(wǎng)，實(shí)現(xiàn)鍍膜過(guò)程中樣品表面保持常溫狀態(tài)，沒(méi)有熱損傷。該濺射儀具有樣品等離子清洗刻蝕功能，可選配蒸碳附件。主要功能：1、離子濺射鍍膜2、樣品等離子刻蝕清洗3、蒸碳鍍膜主要特點(diǎn)：主要特點(diǎn)：1、大的濺射樣品室，獲得更穩(wěn)定的真空環(huán)境，鍍膜質(zhì)量更高。2、對(duì)樣品無(wú)熱損傷的冷濺射。3、樣品等離子刻蝕功能，一個(gè)手動(dòng)控制擋板降低樣片在刻蝕過(guò)程中受到的污染。4、基于PLC的強(qiáng)大控制系統(tǒng)，全部觸摸屏操作，可手動(dòng)、半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制。5、具有高壓真空互鎖安全機(jī)制6、標(biāo)準(zhǔn)的操作軟件，實(shí)時(shí)監(jiān)控各部件狀態(tài)，方便技術(shù)支持，節(jié)約用戶(hù)費(fèi)用。性能指標(biāo)：標(biāo)準(zhǔn)配置樣品室: φ150mm X 150mm(H) 耐熱玻璃真空室靶: 金GOLD或金鈀合金GOLD/PALLADIUM（隨機(jī)）φ50mmX0.1mm樣品臺(tái): φ50mm 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)濺射電流: 0-100mA真空規(guī): 皮拉尼濺射氣體: 空氣或氬氣真空泵: 85L/Min 機(jī)械泵選配膜厚監(jiān)控: 石英晶體膜厚監(jiān)控器樣品臺(tái): φ75mm 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái) φ100mm旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)（選此臺(tái)，膜厚監(jiān)控器無(wú)法安裝） 旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái) （選擇此臺(tái)，無(wú)法實(shí)現(xiàn)樣品刻蝕功能）蒸碳附件: 碳棒或碳絲繩

品牌： 北京馳奔 型號(hào)： Desk-V TSC 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：北京馳奔儀器有限公司

DESK-V TSC型小型離子濺射儀，采用磁控濺射方式，廣泛用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡或透射電鏡樣品制備或高質(zhì)量鍍膜試驗(yàn)。采用專(zhuān)利的陽(yáng)極保護(hù)柵網(wǎng)，實(shí)現(xiàn)鍍膜過(guò)程中樣品表面保持常溫狀態(tài)，沒(méi)有熱損傷。該濺射儀具有樣品等離子清洗刻蝕功能，可選配蒸碳附件。主要功能：1、精細(xì)、超精細(xì)離子濺射導(dǎo)電膜制備；專(zhuān)業(yè)級(jí)金屬膜層試驗(yàn)。2、樣品等離子刻蝕清洗3、蒸碳鍍膜主要特點(diǎn)：1、磁控濺射速度快。對(duì)于掃描電鏡或透射電鏡制樣，抽真空-濺射-泄真空3分鐘完成。2、鍍膜質(zhì)量更高，可獲得精細(xì)晶粒膜層，膜層結(jié)合力強(qiáng)度高?？墒褂媒Y(jié)晶更細(xì)小的金屬靶材。3、對(duì)樣品無(wú)熱損傷的冷濺射。4、樣品等離子刻蝕功能，一個(gè)手動(dòng)控制擋板降低樣片在刻蝕過(guò)程中受到的污染。5、基于PLC的強(qiáng)大控制系統(tǒng)，全部觸摸屏操作，可手動(dòng)、半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制。6、真空高壓互鎖安全機(jī)制7、標(biāo)準(zhǔn)的操作軟件，實(shí)時(shí)監(jiān)控各部件狀態(tài)，方便技術(shù)支持，節(jié)約用戶(hù)費(fèi)用。性能指標(biāo)：標(biāo)準(zhǔn)配置樣品室： φ150mm X 150mm(H) 不銹鋼真空室，帶觀察窗靶： 金GOLD或金鈀合金GOLD/PALLADIUM（隨機(jī)）φ50mmX0.1mm樣品臺(tái)： φ50mm 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)濺射電流： 0-100mA真空規(guī)： 皮拉尼+熱電偶濺射氣體： 氬氣真空泵： 85L/Min 機(jī)械泵 Pfeiffer 70 lps渦輪分子泵 15分鐘抽到5E-6Pa 極限真空。獲得超高真空環(huán)境，提高鍍膜質(zhì)量選配膜厚監(jiān)控： 石英晶體膜厚監(jiān)控器樣品臺(tái)： φ75mm 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái) φ100mm旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)（選此臺(tái)，膜厚監(jiān)控器無(wú)法安裝） 旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái) （選擇此臺(tái)，無(wú)法實(shí)現(xiàn)樣品刻蝕功能）蒸碳附件： 碳棒或碳絲繩

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-80AF 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司

配置參數(shù)如下：2 儀器尺寸 ： 400mm×320mm×450mm（L×W×H）2 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 170mm×200mm（D×H）2 操作真空： 2×10-2mbar2 工作電壓： 0-10V /AC可調(diào)2 蒸碳電流 0-80A2 真空泵： 2升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號(hào)： ETD-650MS 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司

配置參數(shù)如下：2 儀器尺寸：600mm W x 450mm D x 750mm H2 工作腔室：硼硅酸鹽玻璃180mm Dia x 200mm H 2 真空系統(tǒng)： 渦輪分子泵，抽速為300L/s 前級(jí)機(jī)械泵：抽速為2L/s，帶防返油電磁閥及油污過(guò)濾器 2 真空測(cè)量：采用復(fù)合真空計(jì)監(jiān)測(cè)真空2 極限真空度: 優(yōu)于5×10-5Pa2 工作真空度：濺射真空度手動(dòng)調(diào)整2 工作氣體：濺射工作氣體:氬氣2 工作電壓：0-800V 2 濺射電流：0-1000mA2 靶材：ф60-80mm弱磁靶2 電源：230V/50Hz(包括泵最大電流為6安培)選配項(xiàng)：氣體質(zhì)量流量計(jì) 冷水機(jī)根據(jù)用戶(hù)要求進(jìn)行功能改裝

品牌： 北京裕隆 型號(hào)： LJ-16T 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京裕隆時(shí)代科技有限公司

LJ-16T高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀（鍍膜機(jī)）產(chǎn)品描述：LJ-16T高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀（鍍膜機(jī)），由裕隆時(shí)代公司精心設(shè)計(jì)制作，是專(zhuān)為掃描電鏡和電子探針等進(jìn)行試樣制備的設(shè)備?？梢栽诟呒儦鍤獗Ｗo(hù)下進(jìn)行多種離子處理，也可真空蒸碳和真空蒸金屬。用于樣品的外貌觀察，尤其對(duì)成份定量分析更為適宜。采用分子泵系統(tǒng)，特別適于對(duì)真空要求高，真空環(huán)境好的用戶(hù)選用。應(yīng)用領(lǐng)域：離子噴涂、離子濺射、離子清洗、真空蒸碳、真空蒸金屬等工作。技術(shù)參數(shù)? 儀器尺寸：480mmWx320mmDx240mmH? 工作腔室：硼硅酸鹽玻璃160mmDiax120mmH?真空系統(tǒng)：渦輪分子泵，抽速為70L/s 旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵：抽速為2L/s兩級(jí)旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵，帶防返油電磁閥及油污過(guò)濾器? 真空測(cè)量：采用復(fù)合真空計(jì)監(jiān)測(cè)真空? 極限真空度:10-4mbar兩級(jí)? 工作真空度：10-1mbar（濺射真空度手動(dòng)調(diào)整）? 工作氣體：濺射工作氣體:氬氣?濺射電流：0-20mA（磁控濺射靶0-100mA）? 微調(diào)真空氣閥：可連接φ3mm軟管? 電源：230伏/50Hz(包括泵最大電流為6安培)

離子濺射儀 儀器網(wǎng)離子濺射儀產(chǎn)品導(dǎo)購(gòu)專(zhuān)場(chǎng)為您提供離子濺射儀功能原理、規(guī)格型號(hào)、性能參數(shù)、產(chǎn)品價(jià)格、詳細(xì)產(chǎn)品圖片以及廠商聯(lián)系方式等實(shí)用信息，您可以通過(guò)設(shè)置不同查詢(xún)條件，選擇滿(mǎn)足您實(shí)際需求的離子濺射儀產(chǎn)品，同時(shí)離子濺射儀產(chǎn)品導(dǎo)購(gòu)專(zhuān)場(chǎng)還為您提供精品優(yōu)選離子濺射儀產(chǎn)品和離子濺射儀相關(guān)技術(shù)資料、解決方案、招標(biāo)采購(gòu)等綜合信息。