X射線光電子能譜儀 X射線光電子能譜儀是一種表面分析技術(shù)，主要用來表征材料表面元素及其化學(xué)狀態(tài)。X射線光電子能譜儀基本原理是使用X-射線與樣品表面相互作用，利用光電效應(yīng)，激發(fā)樣品表面發(fā)射光電子，利用能量分析器，測量光電子動能(K.E)，根據(jù)B.E=hv-K.E-W.F，進(jìn)而得到激發(fā)電子的結(jié)合能(B.E)。 精品推薦
品牌： 日本Ulvac-Phi 型號： PHI 5000 VersaProbe II 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：高德英特（北京）科技有限公司

PHI 5000 VersaProbe II最為一款多功能、多技術(shù)融合及高性能的XPS表面分析平臺。秉承PHI-XPS獨(dú)有的掃描聚焦X-ray光源，可通過石英晶體將X-ray單色化并聚焦至最小10μm，并可通過調(diào)節(jié)聚焦透鏡，使X-ray束斑直徑由10μm至400μm連續(xù)可調(diào)，結(jié)合掃描功能可完成Φ10μm~1400μm*1400μm范圍的光電子采譜。使其即可滿足XPS微區(qū)分析，同時(shí)又能夠快速完成大面積光譜采集。PHI 5000 VersaProbe II摒棄在收集透鏡端采用傳統(tǒng)的光闌設(shè)計(jì)進(jìn)行選區(qū)，最大可能的提升了光電子的收集效率，使其遠(yuǎn)遠(yuǎn)高出同類產(chǎn)品在200μm以下空間尺度的靈敏度。同時(shí)，勿需采用磁透鏡，保證了磁性樣品分析時(shí)的靈敏度及避免了由磁透鏡所帶來的荷電中和困難，即使是磁性樣品，也可輕松應(yīng)對。1. 囊括XPS的全部功能，同時(shí)可融合多種分析技術(shù)n 全圖譜（survey）對各種樣品進(jìn)行定性分析n 通過窄譜掃描（narrow spectra）偵測元素的化學(xué)態(tài)信息n 半定量給出各個(gè)成分及其化學(xué)態(tài)的百分比n 點(diǎn)、線、面分析（Line Scan Mapping）n 化學(xué)態(tài)成像n 深度剖析（Depth Profiling）n 原位加熱/冷卻（選）n 反應(yīng)腔室模擬準(zhǔn)原位分析（選）n 紫外光電子能譜（選）n 俄歇能譜（選）n 反光電子能譜（IPES）（選）n 真空輸運(yùn)裝置（選）n 可增加電子槍、離子槍等離子源進(jìn)行前處理及光電子倍增管檢測器（選）n 高能雙陽極X-ray（選）2. 掃描聚焦式X-ray光源，使微米分析更加有效掃描聚焦的X-ray光源及高靈敏度能量分析器集合128通道探測器，可提供最高性能的小區(qū)域XPS分析能力。PHI 5000 VersaProbe II采用專利技術(shù)的新型X-ray光源，X-ray束斑直徑由10μm至400μm連續(xù)可調(diào)，結(jié)合掃描功能，可快速完成Φ10μm~1400μm*1400μm區(qū)域的分析。通過掃描X-ray，能夠真正意義上完成點(diǎn)、線、面分析。3. 掃描X-ray生成二次電子影像（SXI），使分析區(qū)域定位更方便傳統(tǒng)的XPS在微區(qū)分析定位時(shí)，存在不能清晰觀察樣品的困難。PHI 5000 VersaProbe II可通過X-ray激發(fā)樣品產(chǎn)生二次電子影像（SXI），可通過二次電子影像提供分析所用的全部細(xì)微特征。二次電子影像（SXI）與采譜過程采用相同的激發(fā)源、光電子經(jīng)過相同的光學(xué)路徑、使用同一探測器進(jìn)行成像及獲譜。避免了因?yàn)楣鈱W(xué)圖像上選點(diǎn)與分析位置的偏差，保證了所見即所得的精確分析。4. 自動雙束中和設(shè)計(jì)，使導(dǎo)體及非導(dǎo)體雙束中和采用低能電子束及低能離子束，在樣品近表面形成類等離子體氣氛，用來中和絕緣樣品表面的荷電。這一專利的中和方式，使在分析不同類型樣品時(shí)，無需重新設(shè)置中和參數(shù)，既能自動匹配提供穩(wěn)健的電荷補(bǔ)償功能。浮動柱狀離子槍及冷陰極發(fā)射器可以在超低電壓的條件下，提供最大的離子及電子密度流。5. 逐點(diǎn)掃描的快速化學(xué)成像能力通過掃描X-ray，可通過條件每點(diǎn)的掃描時(shí)間快速完成化學(xué)態(tài)成像。同時(shí)能夠得到每個(gè)像素點(diǎn)的化學(xué)態(tài)信息。傳統(tǒng)的XPS通常采用拍攝大量的化學(xué)態(tài)快照，通過數(shù)學(xué)計(jì)算得到微區(qū)譜信息。而PHI 5000 VersaProbe II真正意義上實(shí)現(xiàn)了在化學(xué)態(tài)成像圖上獲取數(shù)據(jù)譜信息，同時(shí)數(shù)據(jù)譜的空間分辨率、靈敏度及能量分辨率與儀器主指標(biāo)一致。6. 精確而快速的深度剖析能力采用獨(dú)特的聚焦X-ray設(shè)計(jì)，可使用較小的束斑得到優(yōu)秀的界面信息。同時(shí)采用較小的濺射面積實(shí)現(xiàn)快速的深度剖析功能。

品牌： 日本Ulvac-Phi 型號： PHI Quantera II 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：高德英特（北京）科技有限公司

?PHI Quantera II掃描XPS微探針是建基于業(yè)界榮獲最多殊榮的Quantum 2000和Quantera SXM之上最新研發(fā)的XPS分析儀器，其革命性的技術(shù)包括：獨(dú)創(chuàng)微聚焦X-ray源，可以得到世界最小至7.5μm的聚焦X-ray；專利的雙束電荷中和技術(shù)，即使到各位數(shù)微米區(qū)域，依然能夠有效中和樣品荷電；五軸精密樣品臺及全自動樣品傳遞手臂，可同時(shí)進(jìn)樣數(shù)百個(gè)樣品；全自動支持互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程控制。這些革命性的技術(shù)，使XPS的應(yīng)用范圍從數(shù)百微米擴(kuò)展至個(gè)位數(shù)微米，同時(shí)能夠高效快速的處理各種樣品，包括導(dǎo)體、絕緣體、磁性樣品等。?1. 掃描式聚焦X-ray設(shè)計(jì)，使7.5μm至1.4mm的分析區(qū)域內(nèi)都可維持高性能的快速分析。PHI Quantera II使用了PHI獨(dú)創(chuàng)的掃描聚焦式X-ray源，配合升級版的單色聚焦石英晶體，對比上一代的最小X-ray束斑進(jìn)一步減少20%至7.5μm。X-ray束斑從7.5μm至400μm范圍內(nèi)連續(xù)，配合掃描功能，使分析面積范圍擴(kuò)充至7.5μm~1400μm*1400μm。PHI Quantera II同時(shí)配備高收集效能的靜電式半球能量分析器，擁有大收集角度的同時(shí)，創(chuàng)新性的采用橢圓式的羅蘭圓設(shè)計(jì)，極大的提高了能量分辨率。在空間分辨率、靈敏度、能量分辨率等指標(biāo)上，堪稱世界最強(qiáng)性能XPS系統(tǒng)。配合掃描X-ray高速同步掃描，真正意義上實(shí)現(xiàn)了單點(diǎn)、多點(diǎn)、線、面分析的最強(qiáng)功能。2. 高靈敏度的分析能力PHI Quantera II采用聚焦X-ray系統(tǒng)，在能量分析器的收集透鏡端摒棄傳統(tǒng)的光闌設(shè)計(jì)進(jìn)行選區(qū)，最大可能的提升了光電子的收集效率，使其遠(yuǎn)遠(yuǎn)高出同類產(chǎn)品在200μm以下空間尺度的靈敏度，在30μm以下分區(qū)區(qū)域時(shí)，靈敏度高出非聚集XPS達(dá)100倍以上。同時(shí)，勿需采用磁透鏡，保證了磁性樣品分析時(shí)的靈敏度及避免了由磁透鏡所帶來的荷電中和困難，即使是磁性樣品，也可輕松應(yīng)對。在靈敏度提高的同時(shí)，極大的提高了分析效率，縮短分析時(shí)間。3. 占絕對優(yōu)勢的微區(qū)分析能力傳統(tǒng)的XPS在微區(qū)分析定位時(shí)，存在不能清晰觀察樣品的困難。PHI Quantera II通過X-ray激發(fā)樣品產(chǎn)生二次電子影像（SXI），可由二次電子影像提供分析所用的全部細(xì)微特征。二次電子影像（SXI）與采譜過程采用相同的激發(fā)源、光電子經(jīng)過相同的光學(xué)路徑、使用同一探測器進(jìn)行成像及獲譜。避免了因?yàn)楣鈱W(xué)圖像上選點(diǎn)與分析位置的偏差，保證了所見即所得的精確分析。微小區(qū)域的高靈敏度分析不只在于表面分析，PHI Quantera II在微區(qū)深度剖析時(shí)，在相距只有幾十微米的不同結(jié)構(gòu)區(qū)域，都可有效提供超高靈敏度的分析結(jié)果。???4. 自動雙束中和設(shè)計(jì)，使導(dǎo)體及非導(dǎo)體雙束中和采用低能電子束及低能離子束，在樣品近表面形成類等離子體氣氛，用來中和絕緣樣品表面的荷電。這一專利的中和方式，使在分析不同類型樣品時(shí)，無需重新設(shè)置中和參數(shù)，既能自動匹配提供穩(wěn)健的電荷補(bǔ)償功能。浮動柱狀離子槍及冷陰極發(fā)射器可以在超低電壓的條件下，提供最大的離子及電子密度流。5. 逐點(diǎn)掃描的快速化學(xué)成像能力通過掃描X-ray，可通過條件每點(diǎn)的掃描時(shí)間快速完成化學(xué)態(tài)成像。同時(shí)能夠得到每個(gè)像素點(diǎn)的化學(xué)態(tài)信息。傳統(tǒng)的XPS通常采用拍攝大量的化學(xué)態(tài)快照，通過數(shù)學(xué)計(jì)算得到微區(qū)譜信息。而PHI Quantera II真正意義上實(shí)現(xiàn)了在化學(xué)態(tài)成像圖上獲取數(shù)據(jù)譜信息，同時(shí)數(shù)據(jù)譜的空間分辨率、靈敏度及能量分辨率與儀器主指標(biāo)一致。??????6. 精確而快速的深度剖析能力采用獨(dú)特的聚焦X-ray設(shè)計(jì)，可使用較小的束斑得到優(yōu)秀的界面信息。同時(shí)采用較小的濺射面積實(shí)現(xiàn)快速的深度剖析功能。

品牌： 日本Ulvac-Phi 型號： PHI X-tool 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：高德英特（北京）科技有限公司

PHI X-tool是一款操作簡單，同時(shí)具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS獨(dú)有的掃描聚焦X-ray系統(tǒng)，可通過單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm。和傳統(tǒng)的XPS相比，不采用光闌進(jìn)行選區(qū)，極大的提高了XPS在200μm以下空間尺度的靈敏度。同時(shí)，不需要增加磁透鏡，即可得到卓越的靈敏度及優(yōu)秀的信噪比，即使磁性樣品，也可輕松應(yīng)對。1. 卓越的操作性PHI X-tool軟件支持直觀的觸摸屏操作，所有XPS測定過程都可在觸摸屏上完成。用戶可以自由選擇手動操作模式和自動操作模式（自動定性、定量、分析及完成報(bào)告），操作者無論是否具有豐富的XPS操作經(jīng)驗(yàn)，均能輕松應(yīng)對。2. 自動參數(shù)設(shè)定、自動完成報(bào)告PHI X-tool具備自動對焦功能（Auto-Z），使分析位置處于X射線的焦平面上，得到最優(yōu)的分析條件。其可實(shí)現(xiàn)中和參數(shù)的自動匹配，無論樣品的導(dǎo)電性如何，均可輕松應(yīng)對。l自動定性：實(shí)現(xiàn)譜峰自動識別l自動定量：自動選定譜峰定量范圍l自動曲線擬合：可自動實(shí)現(xiàn)預(yù)定條件的曲線擬合l自動生成實(shí)驗(yàn)報(bào)告3. 多方式樣品觀察在XPS分析中，樣品觀察，特別是微區(qū)定位至關(guān)重要。PHI X-tool可通過以下三種方式進(jìn)行樣品觀察：a. 進(jìn)樣室高空間分辨率圖像；b. 實(shí)時(shí)CCD成像；c. 二次電子像（SXI）。利用這幾種方法觀察樣品，不論樣品大小，表面形貌如何均可輕松確定測試位置。4. 詳細(xì)的條件設(shè)定和直觀的操作結(jié)合材料和目的，可詳細(xì)設(shè)定分析的條件。通過內(nèi)置元素周期表，可設(shè)定各光電子峰和俄歇峰。通過更改通過能、步長、積分時(shí)間設(shè)定窄譜掃描參數(shù)。對每個(gè)樣品可設(shè)置習(xí)慣的文件名和樣品名稱。5. 快速化學(xué)成像采用掃描X射線和高靈敏度檢測器及非掃描模式，可實(shí)現(xiàn)快速成像分析。每個(gè)點(diǎn)都可以直接調(diào)取全部的譜數(shù)據(jù)?；瘜W(xué)態(tài)成像的空間分辨率、靈敏度、能量分辨率與儀器主指標(biāo)一致。6. 采用PHI獨(dú)有的最先進(jìn)硬件設(shè)計(jì)l 微聚焦掃描X-ray源；l 雙束中和系統(tǒng)，低能離子束及低能電子束自動配合；l 浮動離子槍，離子加速電壓條件范圍可達(dá)0~5kV

品牌： 日本電子 型號： JED-2300T 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：捷歐路（北京）科貿(mào)有限公司

JED-2300T AnalysisStation是以“圖像觀察和分析”為基本理念的TEM/EDS集成系統(tǒng)。在分析數(shù)據(jù)過程中，自動采集電鏡主機(jī)的倍率、加速電壓等參數(shù)，進(jìn)行數(shù)據(jù)管理。

品牌： 日本島津-GL 型號： AXIS Supra 產(chǎn)地：英國 供應(yīng)商：島津企業(yè)管理（中國）有限公司

  2014年5月，Kratos公司隆重推出最新型的高度智能化的超高性能XPS譜儀——Axis Supra，并在短短的兩個(gè)月的時(shí)間內(nèi)，成功地在全球范圍內(nèi)銷售了10臺Axis Supra型XPS譜儀。技術(shù)特點(diǎn)：  Axis Supra繼續(xù)采用大功率X光源和浸入式磁透鏡設(shè)計(jì)以獲取最高的檢測靈敏度，同時(shí)采用165mm大平均半徑的雙聚焦半球扇形能量分析器，可以獲得最高的XPS譜線能量分辨。在檢測器端，Axis Supra采用位于能量分析器出口中心位置上的第二代專利的二維陣列延遲線檢測器，可以同時(shí)記錄光電子的信號強(qiáng)度及其發(fā)射位置，亦可以在數(shù)秒的時(shí)間里獲取完整的XPS譜圖。  Axis Supra采用與靜電傳輸透鏡同軸的超低能單電子源荷電中和器，完全滿足各類絕緣樣品的XPS分析任務(wù)，尤其是對于表面凸凹不平的樣品（典型的是粉末樣品和斷口樣品），可以獲得完美的分析結(jié)果。  Axis Supra采用專利的球鏡半球能量分析器，獲得超高空間分辨的二維光電子圖像，亦即元素的不同化學(xué)狀態(tài)的二維分布。  Axis Supra使用專利的靜電傳輸透鏡內(nèi)置的靜電偏轉(zhuǎn)裝置，可以利用光電子圖像在不移動樣品的情況下，獲得不同位置上的小束斑微區(qū)XPS譜。  Axis Supra標(biāo)配單色化Al陽極，亦可選購單色化的Al/Ag雙陽極，并且單色化陽極靶可以更換多個(gè)新鮮靶點(diǎn)，極大地延長了陽極靶的使用壽命。  Axis Supra標(biāo)配進(jìn)樣室定位光學(xué)顯微鏡，可以在進(jìn)樣預(yù)抽真空時(shí)定位多樣品的分析位置，然后轉(zhuǎn)入分析室實(shí)施自動分析。

品牌： 日本島津-GL 型號： AXIS NOVA 產(chǎn)地：英國 供應(yīng)商：島津企業(yè)管理（中國）有限公司

標(biāo)準(zhǔn)主機(jī)包含單色化Al Kα X射線源，可實(shí)現(xiàn)大面積XPS分析、小面積XPS分析和ISS分析以及XPS快速平行成像等功能業(yè)界最大功率的600W單色化Al Kα X射線源，確保最高的分析靈敏度平均半徑165mm的雙層能量分析器，確保高能量分辨XPS分析和高空間分辨的XPS成像專利的浸入式磁透鏡技術(shù)，大幅度提高分析靈敏度專利的快速平行X光電子實(shí)時(shí)成像，空間分辨率優(yōu)于3μm，最高像素65,536（256×256），可進(jìn)行微區(qū)元素和化學(xué)態(tài)空間分布分析專利的同軸超低能無陰影單電子源荷電中和器，完美解決絕緣體XPS分析專利的二維陣列延遲線檢測器（Delay-Line Detector），同時(shí)記錄光電子的強(qiáng)度和發(fā)射位置，可實(shí)現(xiàn)在數(shù)秒鐘之內(nèi)獲得高能量分辨XPS譜全自動超大樣品臺，可實(shí)現(xiàn)100mm×100mm的大樣品分析最佳能量分辨率優(yōu)于 0.45eV（Ag 3d5/2）常規(guī)分析能量分辨和靈敏度高達(dá)0.55eV@1.1Mcps（Ag 3d5/2）絕緣體分析的分析能量分辨和靈敏度高達(dá)0.68eV@16kcps（PET的C 1s）選配單色化Al/Ag雙陽極X射線源，實(shí)現(xiàn)高能XPS分析結(jié)合了數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理的Vision軟件，可運(yùn)行于Windows XP/Vista/7等多種平臺下，實(shí)現(xiàn)各真空室真空度實(shí)時(shí)顯示，操控真空閥門開關(guān)，實(shí)驗(yàn)條件設(shè)定和全自動無人值守分析等強(qiáng)大功能?

品牌： 日本島津-GL 型號： AMICUS型 產(chǎn)地：英國 供應(yīng)商：島津企業(yè)管理（中國）有限公司

?標(biāo)準(zhǔn)主機(jī)包含Mg/Al Kα雙陽極非單色化X射線源，可實(shí)現(xiàn)高靈敏度大面積XPS分析，可增加高溫催化反應(yīng)池等?！褡畲?00W的大功率上照射X射線源，無陰影的XPS分析●專利的錐形塊體式陽極靶，抗污染能力極強(qiáng)●最佳能量分辨率優(yōu)于 0.8eV（Mo 3d5/2）●常規(guī)分析能量分辨和靈敏度高達(dá)1.15eV@700kcps（Ag 3d5/2）●結(jié)合了數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理的Vision軟件，可運(yùn)行于Windows XP/Vista/7等多種平臺下，實(shí)現(xiàn)各真空室真空度實(shí)時(shí)顯示，操控真空閥門開關(guān)，實(shí)驗(yàn)條件設(shè)定和全自動無人值守分析等強(qiáng)大功能

品牌： 賽默飛世爾 型號： ESCALAB250 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：賽默飛世爾科技元素分析(Elemental)

主要特點(diǎn)：專利的快速平行X光電子實(shí)時(shí)成像，可進(jìn)行微區(qū)元素和化學(xué)態(tài)空間分布分析X光電子成像保證空間分辨率優(yōu)于3μm，最好達(dá)到1μm標(biāo)準(zhǔn)主機(jī)包含大面積XPS分析,、小面積XPS分析和ISS分析, XPS Imaging and XPS Mapping 等項(xiàng)功能多種其它表面分析功能選件，如 AES/SAM、UPS和靈活多樣的樣品制備裝置可保證最佳能量分辨率優(yōu)于 0.45eV,。足以進(jìn)行精細(xì)化學(xué)結(jié)構(gòu)和化學(xué)價(jià)態(tài)分析極好的譜分析靈敏度可進(jìn)行快速數(shù)據(jù)采集和分析, 取譜只需幾秒鐘同軸中和電子槍使得絕緣樣品分析簡單方便和有效高性能深度剖析－可進(jìn)行表面與界面、三維成分深度分布分析THERMO VG先進(jìn)的專業(yè)表面分析軟件AVANTAGE，WINDOWS NT操作平臺。工業(yè)化標(biāo)準(zhǔn)，分析功能強(qiáng)大，操作使用直觀方便，與其它商業(yè)應(yīng)用軟件兼容性好。

品牌： 賽默飛世爾 型號： THETA PROBE 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：賽默飛世爾科技元素分析(Elemental)

主要特點(diǎn)：儀器特點(diǎn)兼顧研究型儀器的靈活性，又滿足工業(yè)型儀器要求的自動分析、處理大尺寸樣品的能力和操作簡單方便等特點(diǎn)?？蓱?yīng)用科學(xué)于研究和應(yīng)用于工業(yè)領(lǐng)域的質(zhì)量控制、失效分析和材料制造等方面。高靈敏度小面積XPS能譜分析高性能深度剖析－可進(jìn)行表面與界面、三維成分深度分布分析采用VG專利的快速平行角分辨XPS技術(shù)， 無需傾斜樣品臺就可在樣品上原位同時(shí)快速獲得多個(gè)角度（最多96個(gè)角度）的角分辨XPS的信息, 利用該項(xiàng)新技術(shù)實(shí)現(xiàn)了對超薄薄膜（ 10 nm 厚）的厚度均勻性及元素和化學(xué)態(tài)的快速分析。對大尺寸半導(dǎo)體芯片和微電子器件等領(lǐng)域的研究非常方便和有效。先進(jìn)的微聚焦單色化X-射線源，X-射線束斑可在15μm至400μm范圍調(diào)節(jié)分析微區(qū)可小于15μm。標(biāo)準(zhǔn)主機(jī)包含小面積XPS分析（15μm至400μm范圍）, 深度剖析、XPS Mapping 等項(xiàng)功能。獨(dú)特的樣品定位系統(tǒng)，可直觀準(zhǔn)確地確定分析區(qū)，特別方便進(jìn)行微區(qū)XPS分析新型高效中和槍，可自動中和電子或離子，使得絕緣樣品分析簡單方便先進(jìn)的離子槍- 可快速刻蝕，具有良好的低能量性能。全自動五軸樣品臺，可計(jì)算機(jī)控制進(jìn)行多點(diǎn)、多樣品的自動樣品分析儀器操作非常簡單方便，易于使用，快速分析靈活的樣品操縱能力-可一次送入多個(gè)樣品，或大尺寸樣品（70 x 70 x 25 mm， or 100 mm wafer）具備多種表面分析功能的能力， 系統(tǒng)可裝配選件如雙陽極X-射線源（用于大面積XPS分析）、場發(fā)射AUGER電子槍（AES/SAM）和 UV源（UPS），樣品加熱/冷卻等制樣裝THERMO VG先進(jìn)的專業(yè)表面分析軟件AVANTAGE，WINDOWS NT操作平臺。工業(yè)化標(biāo)準(zhǔn)，分析功能強(qiáng)大，操作使用直觀方便，與其它商業(yè)應(yīng)用軟件兼容性好。

品牌： 賽默飛世爾 型號： K-Alpha 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：鉑悅儀器（上海）有限公司

Thermo Scientific K-Alpha，一體化結(jié)構(gòu)的X射線光電子能譜儀（XPS）。性能先進(jìn)、高性價(jià)比、操作簡便、結(jié)構(gòu)緊湊,是現(xiàn)代實(shí)驗(yàn)室和企業(yè)的首選儀器。采用全新的生產(chǎn)技術(shù),在K-Alpha的設(shè)計(jì)中集合了所有這些優(yōu)勢.K-Alpha X射線光電子能譜儀 Thermo Scientific* K-Alpha是一款完全集成的單色化小光斑X射線光電子能譜（XPS）系統(tǒng)。 性能卓越，擁有成本降低，易用性提高和尺寸緊湊使得K-Alpha成為許多現(xiàn)有以及新研發(fā)的表面分析應(yīng)用領(lǐng)域理想解決方案。K-Alpha是專為多用戶環(huán)境推出的第一款XPS工具，從樣品進(jìn)入到報(bào)告生成完全實(shí)現(xiàn)自動化工作流程。專為生產(chǎn)率而設(shè)計(jì)，從研究分析到日常測試 Thermo Scientific K-Alpha是一款完全集成的X射線光電子能譜。獲獎的最新版K-Alpha平臺特征光譜性能顯著提高，提供更高計(jì)數(shù)率和更快分析時(shí)間，改善化學(xué)探測能力。分析選配件包括一個(gè)角分辨XPS傾斜模塊和一個(gè)循環(huán)惰性氣體手套箱，用于轉(zhuǎn)移空氣敏感樣品。K-Alpha帶來一系列激動人心的新軟件特征，旨在進(jìn)一步增強(qiáng)用戶體驗(yàn)。K-Alpha是專為多用戶環(huán)境而設(shè)計(jì)，先進(jìn)的單色X射線光電子能譜性能與智能自動化及直觀控制相結(jié)合，同時(shí)滿足有經(jīng)驗(yàn)XPS分析人員及新人對此項(xiàng)技術(shù)的需求。強(qiáng)大的性能可選區(qū)域光譜深度剖析刻蝕微聚集單色器快照采集高分辯率化學(xué)態(tài)光譜絕緣樣品分析定量化學(xué)成像無與倫比的易用性主要特征分析器180°雙聚集半球分析器-128通道檢測器X射線源鋁Ka微聚集單色器-可獲取的光斑大?。?微米步長30至400微米）離子槍能量范圍100至4000 eV電荷中和又束流-超低能量電子束樣品安裝四軸樣品臺-60 x60毫米樣品區(qū)域-最大樣品厚度20毫米真空系統(tǒng)2個(gè)220 l/s渦輪分子泵用于進(jìn)樣室和分析室自動開機(jī)，3燈絲TSP數(shù)據(jù)系統(tǒng)Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)過程許可計(jì)算機(jī)選配件傾斜角分辨XPS模塊惰性氣體手套箱用于空氣敏感樣品安裝K-Alpha X射線光電子能譜儀Avantage，完整XPS軟件包具備：控制Avantage軟件控制所有硬件界面點(diǎn)擊樣品實(shí)驗(yàn)導(dǎo)航定義自動化樣品傳送采集譜圖、成像、剖析和線掃描詮釋元素和化學(xué)態(tài)識別過程定量、峰擬合和實(shí)時(shí)剖析顯示光譜成像處理，PCA，相分析，TFA、 NLLSF、PSF刪除，光學(xué)/XPS像疊加報(bào)告自動化報(bào)告生成，簡易輸出至其它軟件包Avantage索引數(shù)據(jù)檔案管理審計(jì)跟蹤記錄系統(tǒng)性能記錄校準(zhǔn)要求全譜儀源除氣和設(shè)置全遙控操作馬上聯(lián)系我們：021-37018108，info@boyuesh.com

品牌： 賽默飛世爾 型號： ESCALAB 250Xi XPS 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：鉑悅儀器（上海）有限公司

Thermo Scientific ESCALAB 250Xi X射線光電子能譜儀結(jié)合了高靈敏度與高分辨率定量成像以及多種測試技術(shù)能力。 XPS是眾多材料特性表征技術(shù)中行之有效的測試手段。目前已成為從生物材料到半導(dǎo)體材料等許多技術(shù)領(lǐng)域先進(jìn)材料開發(fā)的重要工具。ESCALAB250Xi 能夠滿足不斷增長的分析性能和靈活性的需求。此外， ESCALAB250Xi 提供的可選表面分析技術(shù)可用于補(bǔ)充應(yīng)用 XPS 所獲取的表征信息。先進(jìn)的Avantage數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)確保了從測試數(shù)據(jù)中挖掘盡可能多的信息。 ESCALAB250Xi 配備了微聚焦X射線單色器，提供優(yōu)化的XPS性能。其市場領(lǐng)先的靈敏度確保了最大樣本量。XPS并行成像是選擇最好橫向分辨率的方法，ESCALAB250Xi提供的成像空間分辨率優(yōu)于 3μm。最新開發(fā)的成像檢測器提供了“免簽名“的定量數(shù)據(jù)。多技術(shù)能力和系列預(yù)備室及各種設(shè)備的可用性，確保該儀器將提供任何表面分析問題的解決方案。主要特點(diǎn)高靈敏度能量分析器標(biāo)配X射線單色器小面積XPS成像空間分辨率 3μm定量成像深度剖析性能角分辨 XPS微聚焦單色器標(biāo)準(zhǔn)配置包含離子散射能譜（ISS）標(biāo)準(zhǔn)配置包含反射電子能量損失譜（REELS）標(biāo)準(zhǔn)配置包含預(yù)備室多技術(shù)分析功能多種樣品制備選項(xiàng)全自動無人值守式分析多樣品分析基于Windows 的Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)X射線單色器雙晶體微聚焦單色器擁有500 mm直徑羅蘭圓，使用鋁陽極用戶可選擇200微米至900微米任何大小X射線光斑照射樣品透鏡/分析器/檢測器透鏡/分析器/檢測器一體化使ESCALAB 250Xi具備同時(shí)擁有成像和小面積XPS測試能力的獨(dú)特性兩種類型的檢測器可以確保分析者為每種分析選用最佳的分析器二維檢測器用于成像，當(dāng)檢測到高計(jì)數(shù)率時(shí)能譜分析使用基于通道電子倍增器的檢測器配備兩組電腦控制虹膜機(jī)制透鏡一組用于用戶控制分析區(qū)域，小面積測試模式下可下降到小于20微米，另一組透鏡用于控制接收角，對于高質(zhì)量角分辨XPS至關(guān)重要180°半球能量分析器深度剖析數(shù)字化控制的EX06離子槍可用于提供優(yōu)異的深度剖析測試即便使用低能離子，EX06離子槍同樣是一款高性能的離子源可用于深度剖析中樣品原點(diǎn)多方位旋轉(zhuǎn)刻蝕多技術(shù)能力設(shè)計(jì)用于其它分析技術(shù)，不局限于XPS測試透鏡組和能量分析器供電是可逆的使用EX06離子槍，ISS（離子散射能譜）始終可用電子槍加壓可升至1000V，為REELS提供優(yōu)異的離子源技術(shù)選項(xiàng)帶非單色化X射線光源XPSAES（俄歇電子能譜）UPS（紫外電子能譜）真空系統(tǒng)分析室使用5毫米厚鉬合金材料制造，最大限度地提高磁屏蔽效率與使用內(nèi)部或外部屏蔽的屏蔽法相比，提供的屏蔽效能更佳樣品制備系統(tǒng)基本配置包含一體化的進(jìn)樣室和進(jìn)樣門鎖機(jī)構(gòu)額外的制備室可做為選配件Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)賽默飛世爾科技的表面分析儀器和部件由Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)控制這個(gè)業(yè)界領(lǐng)先的軟件集成了測試分析的所有方面，包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生成Avantage是基于Windows的軟件包，可以通過網(wǎng)絡(luò)遠(yuǎn)程控制，輕易實(shí)現(xiàn)與第三方軟件如微軟Word軟件兼容Avantage負(fù)責(zé)從樣品分析到報(bào)告生成整個(gè)測試分析過程馬上聯(lián)系我們：021-37018108，info@boyuesh.com

品牌： 賽默飛世爾 型號： Theta Probe 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：上海歐波同儀器有限公司

Theta Probe平行角分辨XPS微探針品牌： 賽默飛世爾型號：Theta Probe制造商：美國賽默飛世爾經(jīng)銷商：歐波同有限公司免費(fèi)咨詢電話：800-8900-558Thermo Scientific Theta Probe是一款小光斑X射線光電子能譜儀，無需樣品傾斜即可進(jìn)行角分辨譜收集，具備非破壞性超薄膜表征功能。 新興技術(shù)依賴于固體表面次表面區(qū)域的工程改性。這些技術(shù)包括生物醫(yī)學(xué)設(shè)備，表面改性聚合物以及應(yīng)用于先進(jìn)半導(dǎo)體器件的材料。對于這種類型的材料，確切了解表面幾個(gè)納米尺度內(nèi)的組成至關(guān)重要。Theta Probe是一款通過平行角分辨XPS（PARXPS）測試的獨(dú)特XPS。Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)內(nèi)的先進(jìn)軟件處理所有ARXPS數(shù)據(jù)，并生成準(zhǔn)確的分析結(jié)果。XPS是眾多材料特性表征技術(shù)中行之有效的測試手段，目前已成為從生物材料到半導(dǎo)體材料等許多技術(shù)領(lǐng)域先進(jìn)材料開發(fā)的重要工具。Theta Probe的角分辨特征使其成為表征材料表面數(shù)納米組成的理想分析手段。這些包括自組裝單層膜，表面改性聚合物以及半導(dǎo)體器件。 主要特征高性能X射線光電子能譜儀Theta專利技術(shù)提供了平行收集超過60°角范圍角分辨X射線光電子能譜的獨(dú)特能力，無需樣品進(jìn)行傾斜，允許儀器對超薄膜樣品進(jìn)行非破壞性表征。 X射線單色器用戶可選光斑大小范圍15μm至400μm 平行角分辨X射線光電子能譜（PARXPS）分析無需傾斜樣品 具備安裝大樣品或多外樣品 基于Windows的Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)控制 CCD樣品校準(zhǔn)顯微鏡垂直于樣品表面透鏡、能量分析器和檢測器 光電子通過電磁透鏡大角度（60°）收集 如此大的接收角使靈敏度最大化，允許在PARXPS測試時(shí)大角度范圍收集光電子 透鏡軸線與一般樣品成50°角，因此光電子在超過20°至80°角范圍（相對于一般樣品）內(nèi)被收集 180°半球能量分析器輸出面配置二維檢測器 二維檢測器提供了多通道檢測手段，擁有多達(dá)112個(gè)能量通道和多達(dá)96個(gè)角通道 Theta Probe中的透鏡功能獨(dú)特，因?yàn)樗梢栽趦煞N模式操作： 普通模式，在沒有角分辨測試需求時(shí)收集光譜 角分辨模式X射線光源 所有Theta Probe儀器均配置微聚集單色器。 用戶可以通過選擇15μm至400μm范圍內(nèi)的光斑大小來定義分析區(qū)域面積。深度剖析 數(shù)字化控制的EX05離子槍是可用于提供優(yōu)異的深度剖析測試，即便使用低能離子 樣品多方位旋轉(zhuǎn)可用于最終的深度剖析測試。樣品安裝所有Theta Probe儀器均配置電機(jī)驅(qū)動五軸樣品臺。 樣品臺可安裝大樣品移動范圍X軸和Y軸70mm，Z軸（高度）25 mm。真空系統(tǒng)分析室使用5毫米厚鉬合金材料制造，最大限度地提高磁屏蔽效率，而不是使用效率較低的內(nèi)部或外部屏蔽。樣品制備 如需要，儀器可以配置系列制備室之一。Thermo Scientific表面分析儀器和部件由Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)控制：軟件集成了測試分析的所有方面，包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生成基于Windows的軟件包，可以通過網(wǎng)絡(luò)遠(yuǎn)程控制，輕易實(shí)現(xiàn)與第三方軟件如微軟Word軟件兼容負(fù)責(zé)從樣品分析到報(bào)告生成整個(gè)測試分析過程 。產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域氧化石墨烯的物理化學(xué)變化測控、半導(dǎo)體晶片上的超薄薄膜結(jié)構(gòu)分析、分層太陽能電池、觸摸屏復(fù)合涂層的檢測評估、等離子表面改性、鋼鐵表面鈍化工藝評估、BN玻璃、MEA燃料電池、耐磨鍍層石油催化劑成像、食品安全聚合物包裝材料、MAGCIS深度剖析單一頭發(fā)纖維。

品牌： 賽默飛世爾 型號： K-Alpha 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：上海歐波同儀器有限公司

K-Alpha X射線光電子能譜儀品牌： 賽默飛世爾型號：K-Alpha制造商：美國賽默飛世爾經(jīng)銷商：歐波同有限公司免費(fèi)咨詢電話：800-8900-558Thermo Scientific K-Alpha，一體化結(jié)構(gòu)的X射線光電子能譜儀（XPS）。性能先進(jìn)、高性價(jià)比、操作簡便、結(jié)構(gòu)緊湊，是現(xiàn)代實(shí)驗(yàn)室和企業(yè)的首選儀器。采用全新的生產(chǎn)技術(shù),在K-Alpha的設(shè)計(jì)中集合了所有這些優(yōu)勢。K-Alpha X射線光電子能譜儀 Thermo Scientific* K-Alpha是一款完全集成的單色化小光斑X射線光電子能譜（XPS）系統(tǒng)。 性能卓越，擁有成本降低，易用性提高和尺寸緊湊使得K-Alpha成為許多現(xiàn)有以及新研發(fā)的表面分析應(yīng)用領(lǐng)域理想解決方案。K-Alpha是專為多用戶環(huán)境推出的第一款XPS工具，從樣品進(jìn)入到報(bào)告生成完全實(shí)現(xiàn)自動化工作流程。 專為生產(chǎn)率而設(shè)計(jì)，從研究分析到日常測試 Thermo Scientific K-Alpha是一款完全集成的X射線光電子能譜。獲獎的最新版K-Alpha平臺特征光譜性能顯著提高，提供更高計(jì)數(shù)率和更快分析時(shí)間，改善化學(xué)探測能力。分析選配件包括一個(gè)角分辨XPS傾斜模塊和一個(gè)循環(huán)惰性氣體手套箱，用于轉(zhuǎn)移空氣敏感樣品。K-Alpha帶來一系列激動人心的新軟件特征，旨在進(jìn)一步增強(qiáng)用戶體驗(yàn)。K-Alpha是專為多用戶環(huán)境而設(shè)計(jì)，先進(jìn)的單色X射線光電子能譜性能與智能自動化及直觀控制相結(jié)合，同時(shí)滿足有經(jīng)驗(yàn)XPS分析人員及新人對此項(xiàng)技術(shù)的需求。 強(qiáng)大的性能 可選區(qū)域光譜 深度剖析刻蝕 微聚集單色器 快照采集 高分辯率化學(xué)態(tài)光譜 絕緣樣品分析 定量化學(xué)成像無與倫比的易用性 Avantage，完整XPS軟件包具備： 控制Avantage軟件控制所有硬件 界面點(diǎn)擊樣品實(shí)驗(yàn)導(dǎo)航 定義自動化樣品傳送 采集譜圖、成像、剖析和線掃描 詮釋元素和化學(xué)態(tài)識別 過程定量、峰擬合和實(shí)時(shí)剖析顯示 光譜成像處理，PCA，相分析，TFA、 NLLSF、PSF刪除，光學(xué)/XPS像疊加 報(bào)告自動化報(bào)告生成，簡易輸出至其它軟件包 Avantage索引數(shù)據(jù)檔案管理 審計(jì)跟蹤記錄 系統(tǒng)性能記錄 校準(zhǔn)要求全譜儀源除氣和設(shè)置 全遙控操作 主要特征 分析器180°雙聚集半球分析器-128通道檢測器 X射線源鋁Ka微聚集單色器-可獲取的光斑大小（5微米步長30至400微米） 離子槍能量范圍100至4000 eV 電荷中和又束流-超低能量電子束 樣品安裝四軸樣品臺-60 x60毫米樣品區(qū)域-最大樣品厚度20毫米 真空系統(tǒng)2個(gè)220 l/s渦輪分子泵用于進(jìn)樣室和分析室自動開機(jī)，3燈絲TSP 數(shù)據(jù)系統(tǒng)Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)過程許可計(jì)算機(jī) 選配件傾斜角分辨XPS模塊惰性氣體手套箱用于空氣敏感樣品安裝產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域氧化石墨烯的物理化學(xué)變化測控、半導(dǎo)體晶片上的超薄薄膜結(jié)構(gòu)分析、分層太陽能電池、觸摸屏復(fù)合涂層的檢測評估、等離子表面改性、鋼鐵表面鈍化工藝評估、BN玻璃、MEA燃料電池、耐磨鍍層石油催化劑成像、食品安全聚合物包裝材料、MAGCIS深度剖析單一頭發(fā)纖維。

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