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上海光學(xué)儀器一廠為您講解：

由于光學(xué)顯微鏡的解析能力受限于光波的波長，而高能電子束具有很短的物質(zhì)波波長，
可達(dá)到優(yōu)于光學(xué)顯微鏡的解析度及影像放大倍率。穿透式電子顯微術(shù)(transmission electron microscopy,TEM)的
光學(xué)系統(tǒng)包含數(shù)組電磁鐵構(gòu)成的電磁透鏡。

電磁透鏡是以特別方式纏繞導(dǎo)線制成的電磁鐵，應(yīng)用運(yùn)動(dòng)中的電子會(huì)受到磁場
作用而轉(zhuǎn)彎的原理，可達(dá)到聚焦電子束的效果，

于是電子在電子顯微鏡電磁透鏡作用下可作到光學(xué)成像效果。穿透式電子顯微鏡的亮場(bright eld)

影像是最常見的操作模式，其成像原理是利用試片上不同位置材料或厚度的不同，
對(duì)入射的電子束造成不同程度的衰減，據(jù)此來建立影像的對(duì)比。
當(dāng)電子束穿過樣品中低電子密度區(qū)域時(shí)（厚度薄或是輕元素區(qū)域），
電子束受到吸收或散射的程度較低，會(huì)有較多的電子穿過樣品抵達(dá)底片，造成較高的曝光程度，
反之樣品較厚的區(qū)域可吸收大部分的電子， 使得底片曝光程度較低，這個(gè)技術(shù)使得儀器可獲得百萬倍的放大倍率

但是由于電子顯微鏡的制備非常昂貴以及標(biāo)本制作的麻煩所以普及率并沒有那么高

上海光學(xué)儀器一廠光學(xué)儀器顯微鏡專欄