科技前沿近期，中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所薄膜光學(xué)實(shí)驗(yàn)室在提升電子束蒸發(fā)沉積激光薄膜的長(zhǎng)期性能穩(wěn)定研究中取得新進(jìn)展，實(shí)現(xiàn)了低應(yīng)力、光譜和機(jī)械性能長(zhǎng)期穩(wěn)定的電子束激光薄膜制備。相關(guān)研究成果發(fā)表在《光學(xué)材料快報(bào)》(Optical Materials Express)。
 　　電子束蒸發(fā)沉積薄膜因其激光損傷閾值高，光譜均勻性好且易實(shí)現(xiàn)大口徑制備而廣泛應(yīng)用于世界上各大型高功率激光系統(tǒng)中。然而，電子束蒸發(fā)沉積薄膜的多孔結(jié)構(gòu)特性易與水分子相互作用，使得薄膜的各項(xiàng)性能極易受環(huán)境條件(尤其是濕度)的影響。即便是在可控的環(huán)境下，電子束蒸發(fā)沉積薄膜的性能也會(huì)隨時(shí)間而變化。
 　　該項(xiàng)成果提出了等離子體輔助沉積的致密全口徑包覆水汽阻隔技術(shù)，覆蓋多孔電子束蒸發(fā)沉積薄膜的上表面和側(cè)面，有效地將其與水汽隔離，制備出了低應(yīng)力、光譜和機(jī)械性能長(zhǎng)期穩(wěn)定的電子束蒸發(fā)沉積薄膜。同時(shí)，該水汽阻隔技術(shù)顯著提升了電子束蒸發(fā)沉積薄膜的耐劃性能，且提供了一種離線獲得無水吸附時(shí)薄膜應(yīng)力的方法。該項(xiàng)成果為提升電子束沉積薄膜的光譜和面形穩(wěn)定性提供了途徑，有助于解決高功率激光應(yīng)用中電子束沉積薄膜隨時(shí)間和環(huán)境變化性能不穩(wěn)定問題。
 　　相關(guān)工作得到了國家自然科學(xué)基金、中科院青促會(huì)基金、中科院先導(dǎo)專項(xiàng)(B類)等支持。(薄膜光學(xué)實(shí)驗(yàn)室供稿)