金屬樣品剖面分析用專業(yè)光學(xué)圖像顯微鏡

  若被制備的樣品是很硬或十分易脆的材料(例如，陶瓷電容器、半導(dǎo)體)，則可以將
欽酸鋇珠或玻璃珠加如環(huán)氧樹脂，以提高安裝媒介的硬度。不過，這些材料可能妨礙
觀察支座中的樣品，為尋找所關(guān)注的區(qū)域增添困難。

  剖截斷面通常從利用平直砂輪上的240-x320粒度的砂紙的切割或研磨過程開
始.在接近所關(guān)注的區(qū)域時，用320-400粒度的碳化硅進行深磨。最后的研磨利用
600粒度的碳化硅進行。隨后是利用人造織物上的6微米金剛石的拋光過程.最后拋
光是在細(xì)毛織物上用0.5微米氧化鋁膏劑進行的。拋光時間必須維持極短，否則樣品
上會出現(xiàn)微觀磨圓。

  同有經(jīng)驗的冶金學(xué)家掌握一系列腐蝕劑的情況一樣，如今的分析人員必須對腐蝕劑
進行選擇，既能除去涂抹上的材料。又能優(yōu)先增強被剖截斷元件的某些特點，使之更容易
用光學(xué)顯微鏡或掃描電子顯微鏡觀看.在同半導(dǎo)體打交道時，分析人員必須描繪出老冶
金學(xué)家的經(jīng)驗中沒有物理或化學(xué)差別的一些區(qū)域。在pn結(jié)任一側(cè)上的區(qū)域仍然是硅.
  用于硅的大多數(shù)腐蝕劑包含有氫氛酸和硝酸。這兩種酸的比例連同各種緩沖劑
(如醋酸)決定了最后的溶液.

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