電子顯微鏡研究表面形狀方面微觀灰塵粒子和表面缺陷

  基片表面
  在用透射電子顯微鏡研究表面形狀方面，薄膜復(fù)制基片技術(shù)已經(jīng)
運用了多年，基片上的每一道或痕，灰塵粒子和表面缺陷都將在薄
膜中反映出來，塵埃粒子不罕在薄膜中產(chǎn)生針孔，這對某些應(yīng)用而
言，可能是有害的，因此必須極力注意使所用基片盡量光滑與清潔
，不僅基片的宏觀特性很重要，而且對許多應(yīng)用而言，其微觀情況
也很重要，例如，在外延薄膜研究方面，基板上暴露的晶面有一個
已知的原子問題，它是可變化的參數(shù)之一，另外，在單晶薄膜的研
究中，表面缺陷的數(shù)量和密度也很重要，因為它們能作為晶核形成
點，因而控制薄膜的生長。

  周圍氣體環(huán)境
  地沉積過程中，真空系統(tǒng)內(nèi)氣氛氣體的全壓強(qiáng)及分壓強(qiáng)的影響薄
膜的純度和結(jié)構(gòu)，如果氧氣、水蒸氣、一氧化碳或碳?xì)浠衔锏姆?br>壓強(qiáng)很高，那么，蒸發(fā)的原子與氣氛氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的可能性很
大，于是，沉積的薄膜很可能是純元素與化合物聽混合物，即使沒
有形成氧化物薄膜，那么，在氧分壓強(qiáng)較高的情況下的沉積是的利
的，當(dāng)真空蒸發(fā)器很多時，控制氣氛氣體是不可能的，從而使薄膜
參數(shù)的控制很困難，然而，即使在這些情況下，如果真空程序正確
，系統(tǒng)和泵清潔，就能生成有用的薄膜。

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