自動(dòng)焊接是微電子學(xué)技術(shù)芯片焊接輔助顯微鏡
帶自動(dòng)焊接為是微電子學(xué)和微系統(tǒng)的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),但是其基
礎(chǔ)設(shè)施(技術(shù)和設(shè)備的提供)需進(jìn)一步發(fā)展:TAB技術(shù)為在芯片安裝
到一個(gè)系統(tǒng)前的檢驗(yàn)提供了可能性,此外,用此技術(shù)可以訪問到芯
片的前面和背后,這是用該技術(shù)將微機(jī)電系統(tǒng)的元件集成到微電子
設(shè)備中(如熱耦合)時(shí)具有的獨(dú)特優(yōu)點(diǎn)。
反轉(zhuǎn)芯片焊接技術(shù)
反轉(zhuǎn)芯片焊接連接的原理步驟。與TAB工藝不同,反轉(zhuǎn)芯片焊接
連接中不是將芯片安裝到一個(gè)中間基底(薄膜)上,而是將芯片頭朝
前地放置在基底上。借助于紅外顯微鏡的幫助,芯片可以被調(diào)整(
硅對紅外線是透明的)并被直接連接到基底的著陸焊盤上。為補(bǔ)償
因芯片和基底熱膨脹系數(shù)的不同而產(chǎn)生的機(jī)械應(yīng)力,需要使用非常
軟且易延展的焊劑。
反轉(zhuǎn)芯片焊接技術(shù)原理
焊盤在鈍化晶片上展開,并被電鍍沉積上鈦/銅、鉻/銅薄膜
或鉻/鎳薄膜以提高焊盤的粘接力,同時(shí)阻止焊盤與隨后形成的層
之間的相互擴(kuò)散。塊材料(錫/鉛)通過電鍍被沉積并通過回流加工
形成。基底上的焊盤必須裝備可焊接的金屬層(如銀鉛)。反轉(zhuǎn)芯片
焊接工藝的問題是由于連接對的不同膨脹系數(shù)和連接對與基底的低
溫連接而產(chǎn)生的。芯片過熱可能導(dǎo)致焊盤上產(chǎn)生很大的絕對應(yīng)力,
這最終可能引起連接的斷裂和電路的徹底失敗。反轉(zhuǎn)芯片焊接技術(shù)
的一個(gè)值得考慮的優(yōu)點(diǎn)是較高的焊盤密度和焊盤不受芯片外邊框的
限制。具有匹配的熱膨脹系數(shù)的基底使得這種工藝對低能量損失電
路的大規(guī)模生產(chǎn)來講非常經(jīng)濟(jì)。
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