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光刻工藝技術基礎-涂膠涂膠1.靜態(tài)滴膠2.旋轉(zhuǎn)鋪開3.甩掉多余的膠4.溶劑揮發(fā)涂膠過程勻膠后在襯底邊緣處會形成較厚的邊（邊珠效 應，這會影響到光刻的圖形精度）?？稍谕磕z 過程中加入去邊及背噴工藝（ PGMEA、 EGMEA 為常用去邊液）。去邊過程涂膠成膜過程中各種案例分析
1.表面出現(xiàn)氣泡
滴膠時，膠液中混有氣泡
噴嘴有問題或者噴嘴不規(guī)整
2.放射狀條紋
膠液噴射速度過高，設備排氣速度過高
滴膠過后靜止時間過長
勻膠轉(zhuǎn)速或者加速度設置過高
基片前處理不到位有顆粒殘留或者膠液中有顆粒
3.中心漩渦圖案
設備排氣速度過高
滴膠時偏離襯底中心
勻膠旋涂時間過長
4.中心元暈
不適合的托盤
滴膠噴嘴偏離基片中心
5.膠液未涂滿襯底
膠液量不足
勻膠旋涂速度過低或過高
6.針孔
膠液中存在顆?；蛘邭馀?/p>
基片襯底前處理不徹底表面存在顆粒
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