主營(yíng)產(chǎn)品： 等離子鍍膜設(shè)備,高真空蒸發(fā)鍍膜儀,雙靶磁控濺射儀,3靶等離子濺射儀,射頻/直流等離子磁控濺射鍍膜儀

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HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材。可與直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可提高鍍膜質(zhì)量。

  HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材。可與直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可提高鍍膜質(zhì)量。

 

技術(shù)參數(shù)

特點(diǎn)

?

采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作采用電磁場(chǎng)的有元計(jì)算法來設(shè)計(jì)永磁體，以得到較高的磁場(chǎng)強(qiáng)度和均強(qiáng)場(chǎng)分布磁體表面涂有一層保護(hù)層，以防止冷卻水的腐蝕，延長(zhǎng)其使用壽命標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配安裝是采用標(biāo)準(zhǔn)真空接頭，便于操作更換靶材較為簡(jiǎn)單，無需調(diào)整濺射頭的高度配有一塊銅靶

濺射頭

 

（點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）

濺射頭的直徑:46.3mm所用靶的直徑:1.0   0.02"(25.4mm)靶材的zui大厚度: 1/8" (3mm) 磁環(huán):NdFeB稀土永磁鐵 桿的直徑: 3/4" O.D.

 

所需功率

DC (zui大) 250 W

RF （zui大）100 W

zui大陰極濺射電流

3A

陰極濺射電流

200 - 1,000 V

可選壓力范圍

~1 mTorr 至1 Torr

濺射厚度均勻性圖

 

注意：此圖是采用磁控濺射得的到一個(gè)200nm的薄膜，所用靶材為1英寸的銅靶。薄膜是沉積在氧化的硅片上，實(shí)驗(yàn)參數(shù)為：功率：直流150W真空環(huán)境：10mTorr(Ar)靶材與基片的距離：75mm

水冷卻

所需水流量： 1/2 GPM進(jìn)水溫度： 20 C水管接頭：0.25" O.D快插頭

接頭

電路連接接頭：標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配本公司會(huì)贈(zèng)送一高真空快速接頭此快速接頭的內(nèi)徑為0.75"，可將濺射頭安裝在真空腔體上，真空腔體上的安裝孔直徑為1英寸，真空腔體的壁厚不得大于1英寸
 

 

產(chǎn)品長(zhǎng)度

14英寸（355.6mm)

產(chǎn)品重量

1.36kg

傾斜裝置

濺射頭相對(duì)于桿zui大可傾斜+/- 45度傾斜裝置上有刻度線，可觀察到靶頭傾斜的角度

可選配件

循環(huán)水冷機(jī)，流量為16L / min ，水箱容積為6L本公司可提供各種配件可與HVMSS-SPC-1-LD配套，讓客戶自己搭建磁控濺射儀

質(zhì)保期

一年質(zhì)保期終生維護(hù)

應(yīng)用

在真空腔體中HVMSS-SPC-1-LD磁控濺射頭可制作各種薄膜，下面是一些應(yīng)用：薄膜涂覆半導(dǎo)體器件磁記錄介質(zhì)超導(dǎo)薄膜量子計(jì)算器件MEMS生物傳感器納米技術(shù)超晶格顆粒膜記憶合金組合薄膜沉積光學(xué)薄膜
*驗(yàn)證碼:  = 請(qǐng)輸入計(jì)算結(jié)果（填寫阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7