納米微米壓痕劃痕測(cè)試儀；近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡；接觸角測(cè)量?jī)x；表面張力儀；LB膜分析儀；開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量)；表面等離子共振譜儀(SPR)；輪廓儀；摩擦計(jì)；(顯微)硬度計(jì)；磁控濺射儀；熱蒸發(fā)電子束蒸發(fā)沉積；等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)；原子層沉積系統(tǒng)(ALD)；快速退火爐；霍爾效應(yīng)儀；探針臺(tái)；光致發(fā)光掃描儀(PL)；橢偏儀；膜厚儀；氣溶膠發(fā)生器，粒徑譜儀，稀釋器；濾料測(cè)試系統(tǒng)；煙霧發(fā)生器；空氣示蹤器；zeta電位分析儀；內(nèi)表面粗糙度測(cè)量?jī)x；(氙燈)光反應(yīng)器；太陽(yáng)模擬器；高壓反應(yīng)釜；

 科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國(guó)外高科技儀器廠家在中國(guó)地區(qū)的代理?？祁９疽回灡小赫\(chéng)信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化，為廣大中國(guó)用戶提供儀器、設(shè)備，最周到的技術(shù)、服務(wù)和完美的整體解決方案。在科技日新月異、國(guó)力飛速發(fā)展的中國(guó)，納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長(zhǎng)和表征、表面材料物性分析、生物藥物開(kāi)發(fā)、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域，都需要與歐美發(fā)達(dá)國(guó)家完全接軌的儀器設(shè)備平臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)。科睿設(shè)備有限公司有幸成長(zhǎng)在這個(gè)火熱的年代，我們?cè)敢饣癁橐蛔鶚蛄海?jiàn)證中國(guó)科技水平的提升，與中國(guó)科技共同飛速成長(zhǎng)。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國(guó)香港，在中國(guó)上海設(shè)立了分公司，在國(guó)內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站，旨在為客戶提供全方位的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年，科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉(cāng)庫(kù)及維修中心，同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù)，我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員，并且都曾到國(guó)外廠家進(jìn)行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件，能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng)，72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場(chǎng)維修。以利于更好、更快的為中國(guó)大陸服務(wù)！ 
      因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國(guó)內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng)，主要用戶包括：中科院物理所，中科院半導(dǎo)體所，中科院大連化學(xué)物理研究所，國(guó)家納米中心，上海納米中心，北京大學(xué)，清華大學(xué)，中國(guó)科技大學(xué)，南京大學(xué)，復(fù)旦大學(xué)，上海交通大學(xué)，華東理工大學(xué)，浙江大學(xué)，中山大學(xué)，西安交通大學(xué)，四川大學(xué)，中國(guó)工程物理研究院，香港大學(xué)，香港城市大學(xué)，香港中文大學(xué)，香港科技大學(xué)等。

電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
（E-Beam Evaporator System）
儀器介紹:
美國(guó)專業(yè)的制造商，擁有20多年豐富的經(jīng)驗(yàn)在：電子束蒸發(fā)設(shè)備、磁控濺射設(shè)備、熱蒸發(fā)設(shè)備等。有以下功能模式：
electron beam evaporation， 電子束蒸發(fā)；
resistive evaporation，熱阻蒸發(fā)；
ion beam assisted deposition (IBAD)， 離子束輔助蒸發(fā)鍍膜；
effusion cell，瀉流源。


技術(shù)參數(shù)：
Vacuum Chamber: 304不銹鋼圓柱形腔體，標(biāo)準(zhǔn)直徑有18英寸和24英寸   scaled to match the specific application；
Pumping: 分子泵或冷凝泵；
Load Lock: 手動(dòng)傳片或自動(dòng)傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片，高真空背景傳遞；
Process Control: PC / PLC自動(dòng)控制界面，菜單控制，數(shù)據(jù)獲取和遠(yuǎn)程控制 ；
In-Situ Monitoring Control: QCM膜厚監(jiān)控，光學(xué)膜厚監(jiān)控；
RGA殘余氣體分析；
Substrate Fixture: 單片，多片，行星式襯底夾具；
Substrate Holders: 可加熱，冷卻，偏壓，旋轉(zhuǎn)；
Ion Source: 襯底預(yù)清洗，納米表面改性。

Deposition Techniques:
Magnetron Sputtering  RF, DC, or Pulsed-DC，具有射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射；
Electron Beam Evaporation，電子束蒸發(fā)；
Thermal Evaporation，熱蒸發(fā)；
Organic Evaporation for OLED/ PLED and Organic Electronics，有機(jī)蒸發(fā)（用于OLED/ PLED和有機(jī)電子）；
Glancing Angle Depostion (GLAD),傾斜角沉積
Cathodic Arc Plasma Deposition,陰極等離子體輔助沉積。