產(chǎn)品簡介

NILT主要產(chǎn)品包括:

- 熱壓和紫外壓印服務

- 納米壓印模版

- 納米壓印設備

熱壓和紫外壓印服務

高分子聚合物中間層壓印技術可以實現(xiàn)納米壓印/熱壓印非平面化的壓印，同時高分子聚合物中間層的熱塑彈性材料實現(xiàn)納米結構的轉移和復制?？杀Ｗo昂貴的母板因多次轉印而損壞，同時用于母板的復制。

材料方面

應用方面

Silicon NIL 硅納米壓印模板

硅納米壓印光刻用于熱納米壓印光刻或作為母板的聚合物生產(chǎn)。 由客戶提供的一項決議規(guī)定下任何圖案分辨率達20nm納米和寬比可達1:10。

微透鏡陣列的定制模板

模板與凹形或凸形的微透鏡陣列用于通過熱壓印或注塑生產(chǎn)使用。

熔融石英NIL 壓印模板

熔融二氧化硅納米壓印光刻模板用于紫外納米壓印光刻技術。

NILT提供熔融石英模板，由客戶指定的任何模式下低于30nm和寬比可達1:5。

微流體和LOC墊片

通過熱壓印或注塑定制墊片的鎳生產(chǎn)微流體和實驗室級芯片(LOC)系統(tǒng)。

Nickel Shims鎳墊片

鎳墊片被用于熱壓印和輥到輥子設置。 NILT提供鎳與郵票大小達600mm x 600mm，厚度降低到50μm。鎳墊片可以用圖形化的微結構和納米結構。

PDMS NIL 壓印模板

PDMS模板是由硅或熔融石英大師鑄造。 NILT提供的PDMS，分辨率降低到100 nm，具有高寬比可達1：2。

聚合物NIL 壓印模板

聚合物納米壓印光刻是由硅或石英玻璃制成的母板，典型地由熱納米壓印光刻工藝。 NILT任何聚合物并與客戶指定的任何模式提供聚合物模板。最小i 分辨率I50nm，縱橫比可以高達1:3。

65-壓印模板

由熔融二氧化硅和用于紫外線步進 - 重復過程。 分辨率下降到50 nm，可定任何模式，縱橫比高達1：5。

納米壓印模版Microlens Array 微透鏡陣列標準印記含有緊密堆積排列為蜂窩形狀與各個透鏡之間三維交叉點的微透鏡的結構

直線和圓弧工程風口

專為一組多功能設計擴散器的研發(fā)工作，以及對產(chǎn)品和工藝的開發(fā)。

線柵型偏振Wire Grid Polarizer理想的生產(chǎn)線柵偏振器的通過納米壓印光刻，用于測試目的。郵票的特點為 12 mm x 12 mm，50 nm的線條和空間的大型活動區(qū)域。光柵光柵標準壓印成本低， 可印鏈路和支柱光柵圖案，客戶可根據(jù)不同規(guī)格來選擇。防反光Anti-Reflective是大面積和高性價比的功能標準郵票鎳具有漸變折射率分布，并與不斷變化的有效折射率。多點模式Multi-Pattern多模式標準壓印是最佳的納米壓印工藝試驗NIL設備和測試。本標準郵票帶有線寬下降到50nm。亞微米Sub-Micro標準壓印是最佳的內部納米壓印光刻技術和熱壓測試和工藝開發(fā)。壓印包含4種不同尺寸和4種不同的模式。大面積支柱型壓印大面積的支柱標準郵票是在硅谷高品質標準的印章與光子晶體和防反射結構的大面積圖案。它有4個區(qū)域，每次1cm x 1cm，方形陣列的支柱。Micro Test方形結構陣列500nm非常適合納米壓印光刻技術和熱壓領域內工藝試驗。壓印的特點是具有3，5，10和20微米大小的方形石柱/孔陣列微型標準壓印是最佳的內部納米壓印光刻技術和熱壓測試和工藝開發(fā)。印模含有3種不同尺寸3個不同的圖案。

65-Stamps線寬至100nm.微型注射針頭結構The micro-needle standard stamp 微針標準戳記包含的微針的逆結構 - 即微針形孔。微針標準戳記可用于生產(chǎn)微針或者通過熱壓印或鑄造。Diffraction Grating衍射光柵光柵的間距在這兩種情況下為500nm和光柵的平均深度為250nm。

納米壓印設備

 

CNI - Thermal NIL Tool

EZI - UV NIL Tool

NIL Simprint Core v2.1 - 仿真軟件

NILT CNI 實驗用納米熱壓印機是專為實驗室和研發(fā)機構設計和開發(fā)的簡單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設備，用戶可以通過CNI設備高效、低成本地實現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝，許多知名的研發(fā)機構均購買了CNI的設備。NILT CNI熱壓設備，占地小、操作簡便，可實現(xiàn)高質量的圖形復制，可實現(xiàn)納米熱壓設備的一切功能，而無需昂貴的工藝設備。

典型應用：

在硅片上制作納米級光柵

壓印易碎的材料(例如III-V族材料)

微結構加工

制作壓印印章

保護母版的適用壽命

熱壓高深寬比結構圖形

主要性能：

可加工4英寸以下任意尺寸襯底

擁有專利技術的卡盤設計，可保證快速升溫、降溫并保持良好的溫度均勻性。

EZImprinting（EZI）納米壓印技術平臺（NTP）是一個獨立的納米壓印站包括自動釋放?功能的納米壓印模塊和自動印記控制器。

PLC屏幕程序控制

客戶可自由設置工藝參數(shù)

晶圓與模板由真空卡盤固定

兼容傳統(tǒng)的UV固化壓印膠工藝

4“晶圓，壓印區(qū)域為2”

壓印范圍：0 - 25PSI (可升級到100PSI)

壓印模板尺寸： 5 x 0.090"

產(chǎn)量預計： 5分鐘/片

為了支援納米壓印用戶，節(jié)省了寶貴的時間在實驗室上的印記參數(shù)的優(yōu)化，NILT提供Simprint仿真軟件。 

該軟件提供了殘積層厚度 (RLT)的變化模擬，并協(xié)助確定最佳工藝參數(shù)。

 

主要性能：

- 殘留層厚度模擬

- Fast full-chip 模擬

- 支援UV-NIL及熱壓NIL

- 模擬粗糙的基材的影響

Simprint Core v2.1 - 仿真軟件

產(chǎn)品優(yōu)勢