薄膜測(cè)厚儀 薄膜測(cè)厚儀又稱為測(cè)厚儀、薄膜厚度檢測(cè)儀、薄膜厚度儀等，薄膜測(cè)厚儀專業(yè)適用于量程范圍內(nèi)的塑料薄膜、薄片、隔膜、紙張、箔片、硅片等各種材料的厚度精確測(cè)量。薄膜測(cè)厚儀根據(jù)其測(cè)量方式的不同，可分為：接觸式薄膜測(cè)厚儀，非接觸式薄膜測(cè)厚儀。非接觸式薄膜測(cè)厚儀的出現(xiàn)，大大提高了紙張等片材厚度測(cè)量的精度，尤其是在自動(dòng)化生產(chǎn)線上，得到廣泛應(yīng)用。 精品推薦
品牌： 美國(guó)Filmetrics 型號(hào)： F20 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：優(yōu)尼康科技有限公司

測(cè)量厚度從1nm到10mm的先進(jìn)膜厚測(cè)量系統(tǒng)如果您正在尋找一款儀器，需要測(cè)量厚度、測(cè)量光學(xué)常數(shù)或者僅需要測(cè)量材料的反射率和穿透率，F(xiàn)20您值得擁有。僅僅幾分鐘內(nèi)就可以安裝好，通過USB與電腦連接，測(cè)量數(shù)據(jù)結(jié)果不到一分鐘就能得到。

品牌： 濟(jì)南思克 型號(hào)： THI-1801 產(chǎn)地：濟(jì)南 供應(yīng)商：濟(jì)南思克測(cè)試技術(shù)有限公司

包裝檢測(cè)儀器，請(qǐng)選思克測(cè)試！思克將回報(bào)您更多意想不到的操作體驗(yàn)和服務(wù)。思克測(cè)試，誠(chéng)信企業(yè)！更多信息，請(qǐng)致電垂詢！SYSTESTER思克，專業(yè)+創(chuàng)新+技術(shù)+產(chǎn)品+服務(wù)；SYSTESTER思克，More than your think！

品牌： 上海致東 型號(hào)： SR 產(chǎn)地：上海 供應(yīng)商：致東光電科技（上海）有限公司

由橢圓儀校正 量測(cè)色度坐標(biāo) 量測(cè)時(shí)間1-3s ，精確度高 國(guó)內(nèi)自行研發(fā)，價(jià)格合理 量測(cè)膜厚（N.K)值 .量測(cè)穿透率（T%）.反射率（R%） FFT for very thick layer (up to 50 um)

品牌： 美國(guó)Filmetrics 型號(hào)： F54 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：優(yōu)尼康科技有限公司

動(dòng)化薄膜厚度分布圖案系統(tǒng)依靠F54先進(jìn)的光譜測(cè)量系統(tǒng)，可以很簡(jiǎn)單快速地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以非?？焖俚亩ㄎ凰铚y(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度，測(cè)試非?？焖伲蠹s每秒能測(cè)試兩點(diǎn)。系統(tǒng)中預(yù)設(shè)了許多極坐標(biāo)形、方形和線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測(cè)試點(diǎn)。只需掌握基本電腦技術(shù)便可在幾分鐘內(nèi)建立自己需要的圖形模式。

品牌： 美國(guó)Filmetrics 型號(hào)： F50 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：優(yōu)尼康科技有限公司

自動(dòng)化薄膜厚度繪圖系統(tǒng)Filmetrics F50 系列的產(chǎn)品能以每秒測(cè)繪兩個(gè)點(diǎn)的速度快速的測(cè)繪薄膜厚度。一個(gè)電動(dòng)R-Theta 平臺(tái)可接受標(biāo)準(zhǔn)和客制化夾盤，樣品直徑可達(dá)450毫米。(耐用的平臺(tái)在我們的量產(chǎn)系統(tǒng)能夠執(zhí)行數(shù)百萬次的量測(cè)!)測(cè)繪圖案可以是極座標(biāo)、矩形或線性的，您也可以創(chuàng)造自己的測(cè)繪方法，并且不受測(cè)量點(diǎn)數(shù)量的限制。內(nèi)建數(shù)十種預(yù)定義的測(cè)繪圖案。

品牌： 美國(guó)Filmetrics 型號(hào)： F10-AR 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：優(yōu)尼康科技有限公司

F10-AR 是為簡(jiǎn)便而經(jīng)濟(jì)有效地測(cè)試眼科減反涂層設(shè)計(jì)的第一臺(tái)儀器。 雖然價(jià)格大大低于當(dāng)今絕大多數(shù)同類儀器，應(yīng)用幾項(xiàng)獨(dú)家先進(jìn)技術(shù)， F10-AR 使線上操作人員經(jīng)過幾分鐘的培訓(xùn)，就可以進(jìn)行厚度測(cè)量。

品牌： 美國(guó)Filmetrics 型號(hào)： F60-t 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：優(yōu)尼康科技有限公司

依靠 F60光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x 先進(jìn)的光譜測(cè)量系統(tǒng)，可以很簡(jiǎn)單快速地獲得薄膜的厚度分布圖。采用 r-θ 極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以非常快速的定位所需測(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度，測(cè)試非?？焖?，大約每秒能測(cè)試兩點(diǎn)。用戶可以自己繪制需要的點(diǎn)位地圖。在約 45 秒的時(shí)間就可以掃描完標(biāo)準(zhǔn) 49 點(diǎn)分布圖。

品牌： 美國(guó)Filmetrics 型號(hào)： F32 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：優(yōu)尼康科技有限公司

F32先進(jìn)的光譜分析系統(tǒng)采用半寬的3U rack-mount底盤，加上附加的分光計(jì)，可達(dá)到四個(gè)不同的位置（EXR和UVX版本最多兩個(gè)位置）。F32軟件可以通過數(shù)字I/O或主機(jī)軟件來控制啟動(dòng)/停止/復(fù)位測(cè)量。測(cè)量數(shù)據(jù)可以自動(dòng)導(dǎo)出到主機(jī)軟件中進(jìn)行統(tǒng)計(jì)過程控制。Filmetrics還提供可選的透鏡組件，以便于集成到現(xiàn)有的生產(chǎn)裝置上。

品牌： 美國(guó)Filmetrics 型號(hào)： F3-sX 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：優(yōu)尼康科技有限公司

F3-sX家族利用光譜反射原理，可以測(cè)試眾多半導(dǎo)體及電解層的厚度，可測(cè)最大厚度達(dá)3毫米。此類厚膜，相較于較薄膜層表面較粗糙且不均勻，F(xiàn)3-sX系列配置10微米的測(cè)試光斑直徑因而可以快速容易的測(cè)量其他膜厚測(cè)試儀器不能測(cè)量的材料膜層。而且僅在幾分之一秒內(nèi)完成。

品牌： 美國(guó)Filmetrics 型號(hào)： F10-HC 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：優(yōu)尼康科技有限公司

F10-HC現(xiàn)在能夠執(zhí)行自動(dòng)化基準(zhǔn)矯正以及設(shè)置自己的積分時(shí)間這個(gè)創(chuàng)新的方法不需要頻繁的執(zhí)行基準(zhǔn)矯正就可以讓使用者立即的執(zhí)行樣本的測(cè)量 。

品牌： 美國(guó)Filmetrics 型號(hào)： F10-RT 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：優(yōu)尼康科技有限公司

F10-RT薄膜厚度測(cè)量?jī)x同時(shí)測(cè)量反射和透射以真空鍍膜為設(shè)計(jì)目標(biāo)，F(xiàn)10-RT 只要單擊鼠標(biāo)即可獲得反射和透射光譜。 只需傳統(tǒng)價(jià)格的一小部分，用戶就能進(jìn)行最低/最高分析、確定 FWHM 并進(jìn)行顏色分析。可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。測(cè)量結(jié)果能被快速地導(dǎo)出和打印。選擇Filmetrics的優(yōu)勢(shì)? 桌面式薄膜厚度測(cè)量的全球領(lǐng)導(dǎo)者? 24小時(shí)電話，E-mail和在線支持? 所有系統(tǒng)皆使用直觀的標(biāo)準(zhǔn)分析軟件附 加 特 性? 嵌入式在線診斷方式? 免費(fèi)離線分析軟件? 精細(xì)的歷史數(shù)據(jù)功能，幫助用戶有效地存儲(chǔ)，重現(xiàn)與繪制測(cè)試結(jié)果?

品牌： 美國(guó)Filmetrics 型號(hào)： F40 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：優(yōu)尼康科技有限公司

Filmetrics的精密光譜測(cè)量系統(tǒng)讓用戶簡(jiǎn)單快速地測(cè)量薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)，通過對(duì)待測(cè)膜層的上下界面間反射光譜的分析，幾秒鐘內(nèi)就可測(cè)量結(jié)果。當(dāng)測(cè)量需要在待測(cè)樣品表面的某些微小限定區(qū)域進(jìn)行，或者其他應(yīng)用要求光斑小至1微米時(shí)，F(xiàn)40是最好的選擇。

品牌： 希臘ThetaMetrisis 型號(hào)： FR- Pro UV/NIR-HR 產(chǎn)地：希臘 供應(yīng)商：武漢邁可諾科技有限公司

干涉儀是利用干涉原理測(cè)量光程之差從而測(cè)定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會(huì)非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動(dòng)，而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起，所以通過干涉條紋的移動(dòng)變化可測(cè)量幾何長(zhǎng)度或折射率的微小改變量，從而測(cè)得與此有關(guān)的其他物理量。測(cè)量精度決定于測(cè)量光程差的精度，干涉條紋每移動(dòng)一個(gè)條紋間距，光程差就改變一個(gè)波長(zhǎng)(～10-7米)，所以干涉儀是以光波波長(zhǎng)為單位測(cè)量光程差的，其測(cè)量精度之高是任何其他測(cè)量方法所無法比擬的。   1 、非接觸式測(cè)量：避免物件受損。   2 、三維表面測(cè)量：表面高度測(cè)量范圍為12nm - 120μm。    3 、多重視野鏡片：方便物鏡的快速切換。   4 、納米級(jí)分辨率：垂直分辨率可以達(dá)0.1nm。   5、高速數(shù)字信號(hào)處理器：實(shí)現(xiàn)測(cè)量?jī)H需幾秒鐘。   6 、掃描儀：閉環(huán)控制系統(tǒng)。   7、工作臺(tái)：氣動(dòng)裝置、抗震、抗壓。   8 、測(cè)量軟件：基于windows 操作系統(tǒng)的用戶界面，強(qiáng)大而快速的運(yùn)算型號(hào)光譜范圍測(cè)厚范圍FR-Pro UV/VIS 200nm - 850nm 1nm - 80μm FR-Pro VIS/NIR 350nm – 1000nm 12nm - 120μm FR-Pro UV/NIR-HR  200nm - 1100nm1nm - 120μm FR-Pro RED/NIR700nm - 950nm 200nm - 250μm FR-Pro UV/NIR-EXT200nm - 1000nm 3nm - 80μm FR-Pro NIR900nm - 1700nm 100nm - 200μm FR-Pro D VIS/NIR 350nm - 1700nm 12nm - 300μm FR-Pro D UV/NIR200nm – 1700nm 1nm – 300μm

品牌： 希臘ThetaMetrisis 型號(hào)： FR-Portable 產(chǎn)地：希臘 供應(yīng)商：武漢邁可諾科技有限公司

FR-portable 便攜式膜厚儀主要由以下系統(tǒng)組成：Α白熾-LED混合集成式光源系統(tǒng)，通過內(nèi)嵌式微處理器控制，使用壽命超過20000小時(shí)。小型光譜儀，光譜范圍370nm –1050nm,分辨精度可達(dá)3648像素， 16位級(jí) A/D 分辨精度；配有USB通訊接口；Β)   FR-Monitor膜厚測(cè)試軟件系統(tǒng)，可精確計(jì)算如下參數(shù)：1）單一或堆積膜層的厚度； 2）靜態(tài)或動(dòng)態(tài)模式下，單一膜層的折射率；本軟件包含了類型豐富的材料折射率數(shù)據(jù)庫(kù)，可以有效地協(xié)助用戶進(jìn)行線下或者在線測(cè)試分析。本系統(tǒng)可支持吸收率，透射率和反射率的測(cè)量，還提供任何堆積膜層的理論性反射光譜，一次使用授權(quán)，即可安裝在任何其他電腦上作膜厚測(cè)試后的結(jié)果分析使用。C)   參考樣片：a)   經(jīng)校準(zhǔn)過的反射標(biāo)準(zhǔn)硅片；b)   經(jīng)校準(zhǔn)過的帶有SiO2/Si 特征區(qū)域的樣片；c)   經(jīng)校準(zhǔn)過的帶有Si3N4/SiO2/Si特征區(qū)域的樣片；D)   反射探針臺(tái)和樣片夾具可處理最大的樣品尺寸達(dá)200mm, 包含不規(guī)則的尺寸等；手動(dòng)調(diào)節(jié)可測(cè)量高度可達(dá)50mm；可針對(duì)更大尺寸訂制樣片夾具；Ε)   反射率測(cè)量的光學(xué)探針內(nèi)嵌系統(tǒng)6組透射光探針200μm, 1組反射光探針200μm；F) 附件FR-portable透射率測(cè)量套件；Thickness     measurement range12nm     – 90μmRefractive Index calculationPThickness     measurement Accuracy0.2%     or 1nmThickness measurement Precision0.04nm or 1‰ (0.01nm)Thickness     measurement stability0.02nmSample size1mm to 200mm and upSpectral     Range400nm     – 1100nmWorking distance3mm-20mmSpot size0.35mm (diameter of the reflectance     area)Light Source Lifetime20000hWavelength resolution0.8nmNumber of Layers MeasuredMax. 5 layersMeasurement time (max acquisition     speed)10ms/pointA/D converter16 bitPowerUSB – suppliedDimensions300mm x 110mm x 40mm

品牌： 希臘ThetaMetrisis 型號(hào)： FR-Scanner 產(chǎn)地：希臘 供應(yīng)商：武漢邁可諾科技有限公司

FR-Scanner   掃描型光學(xué)膜厚儀主要由以下系統(tǒng)組成：A)  光學(xué)光源裝置小型低功率混合式光源本系統(tǒng)混合了白熾燈和LED燈，最終形成光譜范圍360nm-   1100nm；該光源系統(tǒng)通過微處理控制，光源平均壽命逾10000小時(shí)；集成小型光譜儀，光譜范圍360-1020nm,分辨精度 3648像素CCD 和 16位 A/D 分辨精度.集成式反射探針，6組透射光探針（200um），1組反射光探針，探針嵌入光源頭，可修整位置，確保探針無彎曲操作；光源功率:3W;B)  超快掃描系統(tǒng)，平面坐標(biāo)內(nèi)，可進(jìn)行625次測(cè)量/分鐘 (8’’ wafer) 或500次測(cè)量/分鐘(300mm   wafer). 全速掃描時(shí)，掃描儀的功率消耗不超過200W；樣品處理臺(tái)：最大樣品處理尺寸可達(dá)300mm. 可滿足所有半導(dǎo)體工藝要求的晶圓尺寸。手動(dòng)調(diào)節(jié)測(cè)量高度可達(dá)25mm；配有USB通訊接口，功率：100 - 230V 115W.C)   FR-Monitor膜厚測(cè)試軟件系統(tǒng)，可精確計(jì)算如下參數(shù)：1）單一或堆積膜層的厚度； 2）靜態(tài)或動(dòng)態(tài)模式下，單一膜層的折射率；本軟件包含了類型豐富的材料折射率數(shù)據(jù)庫(kù)，可以有效地協(xié)助用戶進(jìn)行線下或者在線測(cè)試分析。本系統(tǒng)可支持吸收率，透射率和反射率的測(cè)量，還提供任何堆積膜層的理論性反射光譜，一次使用授權(quán)，即可安裝在任何其他電腦上作膜厚測(cè)試后的結(jié)果分析使用。D) 參考樣片: a) 經(jīng)校準(zhǔn)過的反射標(biāo)準(zhǔn)硅片；b) 經(jīng)校準(zhǔn)過的帶有SiO2/Si 特征區(qū)域的樣片；E) 附件可定制適用于半導(dǎo)體工藝的任何尺寸的晶圓片(2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 200mm, 300mm)

品牌： 美國(guó)Frontier Semiconductor 型號(hào)： FSM 900 系列/FSM 128 系列 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：香港電子器材有限公司

產(chǎn)品簡(jiǎn)介FSM 900 系列新型材料在高溫下很容易氧化。他們還容易產(chǎn)生氣體及發(fā)生物質(zhì)變化，F(xiàn)SM 900TC-Vac 型號(hào)給工藝提供了一個(gè)封閉的加熱腔。它可以應(yīng)用於完全的充氣環(huán)境或高真空的模式。集成化的 FSM 900TC-Vac 系統(tǒng)可以快速協(xié)助新材料處理熱穩(wěn)定和熱負(fù)載。? 溫度範(fàn)圍: 可達(dá)9000C (200mm 及 300mm晶圓)? Thermal Desorption Spectroscopy (TDS -系統(tǒng)可以起獨(dú)立的TDS作用- 分析整個(gè)或破損的晶圓，監(jiān)測(cè)在溫度循壞內(nèi)的各種各樣的氣體排放。? 低K，銅和其他薄膜材料的表徵? 溫度高達(dá)9000C? 在真空或惰性氣體中操作 FSM 128 系列所有FSM 128 系列都可以配備自動(dòng)平均基板厚度測(cè)量功能，以評(píng)估用於應(yīng)力評(píng)估的輸入晶圓。? 128NT : 可以測(cè)試200mm以下的晶圓? 128L ：可以測(cè)試300mm以下的晶圓? 128G ：可以測(cè)試450mm以下的晶圓? 128 C2C: 彈夾到彈夾的全自動(dòng)設(shè)備，可以測(cè)量300mm以下的晶圓? 半導(dǎo)體和平板應(yīng)用的弓型和球型薄膜應(yīng)力繪圖? 非接觸全晶片應(yīng)力繪圖? 雙波長(zhǎng)雷射器交換技術(shù) 尺寸精度量測(cè) (DIMENSIonAL METROLOGY)無損的光學(xué)探頭檢測(cè)晶圓厚度，TSV，bumps 和其他需要測(cè)量的需求。FSM 8108 VITE 系列 ? 晶圓的厚度，薄膜的厚度及TTV? 絕對(duì)厚度，形狀，翹曲? Si, GaAs 等? 磁帶，玻璃，藍(lán)寶石 等? 多種材料的Stacks? Through Silicon Via (TSV) - 顯微鏡下可選 TSV的測(cè)量及Trench 深度測(cè)量? Bumps 的高度測(cè)量? 可選粗糙度的刻蝕或拋光的晶圓的測(cè)量? 可選薄膜厚度的測(cè)量FSM 413 系列? 使用非接觸式的測(cè)量方式來量測(cè)基板的厚度? XY方向精度達(dá)到0.5微米? 自動(dòng)化的系統(tǒng)? 可編程的系統(tǒng)? 可測(cè)量TSV和Bump? 用微波形式測(cè)量矽的深度? 極佳的穩(wěn)定性及重複性FSM 拉曼優(yōu)勢(shì)創(chuàng)新技術(shù)及工具自動(dòng)化? 帶領(lǐng)技術(shù)創(chuàng)新的緊湊型量測(cè)系統(tǒng)? 用於設(shè)備分析方面，性能優(yōu)越的光譜解析度 (0.1cm-1)? 由1988年開始，在晶圓工廠自動(dòng)化中成功地控制測(cè)量技術(shù) 

品牌： 深圳禾苗 型號(hào)： E8-SDD 產(chǎn)地：深圳 供應(yīng)商：深圳市禾苗分析儀器有限公司

HeLeeX E8是一款專門RoHS檢測(cè)儀器，其核心光路系統(tǒng)集合國(guó)內(nèi)外幾十年EDXRF尖端技術(shù)，核心部件采用美國(guó)進(jìn)口，軟件算法采用美國(guó)EDXRF前沿技術(shù)，儀器所用標(biāo)準(zhǔn)樣品均有權(quán)威第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)報(bào)告；HeLeeXE8精密度高、準(zhǔn)確度、檢出限等技術(shù)參數(shù)全面超過國(guó)內(nèi)外同類儀器。

品牌： 北京濱松光子 型號(hào)： C11295 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：濱松光子學(xué)商貿(mào)（中國(guó)）有限公司

C11295 多點(diǎn)納米膜厚測(cè)量?jī)xC11295型多點(diǎn)納米膜厚測(cè)量系統(tǒng)使用光譜相干測(cè)量學(xué)，用以測(cè)量半導(dǎo)體制造過程中的薄膜厚度，以及安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備上的APC和薄膜的質(zhì)量控制。C11295可進(jìn)行實(shí)時(shí)多點(diǎn)測(cè)量，也可以在膜厚測(cè)量中同時(shí)測(cè)量反射率（透射率）、目標(biāo)顏色以及暫時(shí)變化。歡迎您登陸濱松中國(guó)全新中文網(wǎng)站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產(chǎn)品更多詳細(xì)信息！特性多達(dá)15點(diǎn)同時(shí)測(cè)量無參照物工作通過光強(qiáng)波動(dòng)校正功能實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定測(cè)量提醒及警報(bào)功能(通過或失敗)反射(透射)和光譜測(cè)量高速、高準(zhǔn)確度實(shí)時(shí)測(cè)量不整平薄膜精確測(cè)量分析光學(xué)常數(shù)（n,k）可外部控制參數(shù)型號(hào)C11295-XX*1可測(cè)膜厚范圍（玻璃）20 nm to 100 μm*2測(cè)量可重復(fù)性（玻璃）0.02 nm*3 *4測(cè)量準(zhǔn)確度（玻璃）±0.4 %*4 *5光源氙燈測(cè)量波長(zhǎng)320 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距離10 mm*4可測(cè)層數(shù)最多10層分析FFT 分析，擬合分析測(cè)量時(shí)間19 ms/點(diǎn)*7光纖接口形狀SMA測(cè)量點(diǎn)數(shù)2~15外部控制功能Ethernet接口USB 2.0（主單元與電腦接口）RS-232C（光源與電腦接口）電源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗約330W（2通道）~450W（15通道）*1：-XX，表示測(cè)點(diǎn)數(shù)*2：以 SiO2折射率1.5來轉(zhuǎn)換*3：測(cè)量400 nm 厚SiO2 薄膜的標(biāo)準(zhǔn)偏差*4：取決于所使用的光學(xué)系統(tǒng)或物鏡的放大率*5：可保證的測(cè)量范圍列在VLSI標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量保證書中*6：鹵素?zé)粜蜑镃11295-XXH*7：連續(xù)數(shù)據(jù)采集時(shí)間不包括分析時(shí)間

品牌： 北京濱松光子 型號(hào)： C11665-01 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：濱松光子學(xué)商貿(mào)（中國(guó)）有限公司

C11665-01 微米膜厚測(cè)量?jī)xC11665-01型光學(xué)微米測(cè)厚儀是一款非接觸薄膜測(cè)厚儀器，它將光源、探測(cè)器和數(shù)據(jù)分析模塊集成到一個(gè)箱體里，實(shí)現(xiàn)了緊湊型設(shè)計(jì)。在半導(dǎo)體行業(yè)，TSV技術(shù)的廣泛應(yīng)用使得基底測(cè)厚成為至關(guān)重要的方面，與此同時(shí)半導(dǎo)體薄膜工業(yè)正將連接層制作的越來越薄。這些領(lǐng)域的進(jìn)步需要1 μm到300 μm范圍內(nèi)高準(zhǔn)確度的膜厚測(cè)量。C11665-01可對(duì)多種類型的材料（硅基底，薄膜等等）進(jìn)行測(cè)厚，測(cè)量范圍為0.5 μm 到 700 μm，這也是半導(dǎo)體和薄膜制造領(lǐng)域經(jīng)常使用應(yīng)用的厚度。歡迎您登陸濱松中國(guó)全新中文網(wǎng)站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產(chǎn)品更多詳細(xì)信息！特性無參照物工作尺寸緊湊，節(jié)省空間高速、高準(zhǔn)確度不整平薄膜精確測(cè)量分析光學(xué)常數(shù)（n,k）可外部控制參數(shù)型號(hào)C11665-01可測(cè)膜厚范圍（玻璃）0.5 μm to 700 μm*1可測(cè)膜厚范圍（硅）0.5 μm to 300 μm*2測(cè)量可重復(fù)性（硅）0.1 nm*3 *4測(cè)量準(zhǔn)確度（硅）±1 %*4 *5光源LED測(cè)量波長(zhǎng)940 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距離5 mm*4可測(cè)層數(shù)最大10層分析FFT 分析，擬合分析，光學(xué)常數(shù)分析測(cè)量時(shí)間19 ms/點(diǎn)*6光纖接口形狀FC外部控制功能RS-232C / Ethernet電源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗85W*1：SiO2薄膜測(cè)量特性*2：Si薄膜測(cè)量特性*3：測(cè)量6 μm厚硅薄膜時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)偏差*4：取決于所使用的光學(xué)系統(tǒng)或物鏡的放大率*5：在標(biāo)準(zhǔn)量具的測(cè)量保證范圍內(nèi)*6：連續(xù)數(shù)據(jù)采集時(shí)間不包括分析時(shí)間

品牌： 北京濱松光子 型號(hào)： C11011-01W 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：濱松光子學(xué)商貿(mào)（中國(guó)）有限公司

C11011-01W 微米膜厚測(cè)量?jī)xC11011-01W型光學(xué)微米膜厚測(cè)量?jī)x利用激光相干度量學(xué)原理，測(cè)量速度達(dá)60Hz，適用于產(chǎn)品線上在線測(cè)量。此外，選配的映射系統(tǒng)可以測(cè)量指定樣品的厚度分布。C11011-01W應(yīng)用廣泛，比如用于產(chǎn)品制造過程監(jiān)控或質(zhì)量控制。歡迎您登陸濱松中國(guó)全新中文網(wǎng)站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產(chǎn)品更多詳細(xì)信息！特性利用紅外光度測(cè)定進(jìn)行非透明樣品測(cè)量測(cè)量速度高達(dá)60 Hz測(cè)量帶圖紋晶圓和帶保護(hù)膜的晶圓長(zhǎng)工作距離映射功能可外部控制參數(shù)型號(hào)C11011-01W可測(cè)膜厚范圍（玻璃）25 μm to 2900 μm*1可測(cè)膜厚范圍（硅）10 μm to 1200 μm*2測(cè)量可重復(fù)性（硅）100 nm*3測(cè)量準(zhǔn)確度（硅） 500 μm: ±0.5 μm； 500 μm: ±0.1 %*3光源紅外LED（1300 nm）光斑尺寸φ60 μm*4工作距離155 mm*4可測(cè)層數(shù)一層（也可多層測(cè)量）分析峰值探測(cè)測(cè)量時(shí)間22.2 ms/點(diǎn)*5外部控制功能RS-232C / PIPE接口USB2.0電源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗50W*1：SiO2薄膜測(cè)量特性*2：Si薄膜測(cè)量特性*3：測(cè)量6 μm厚硅薄膜時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)偏差*4：可選配1000mm工作距離的模型C11011-01WL*5：連續(xù)數(shù)據(jù)采集時(shí)間不包括分析時(shí)間

品牌： 北京濱松光子 型號(hào)： C11627-01 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：濱松光子學(xué)商貿(mào)（中國(guó)）有限公司

C11627-01 納米膜厚測(cè)量?jī)x系列C11627-01型光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x是一款利用光譜相干度量學(xué)工作的非接觸型膜厚測(cè)量系統(tǒng)。因其將光源、分光光度計(jì)和數(shù)據(jù)分析單元集成為一個(gè)單元，所以其配置緊湊，僅由一個(gè)主單元和光纖組成。此儀器設(shè)計(jì)緊湊，節(jié)省空間，適合安裝進(jìn)用戶的系統(tǒng)中，可進(jìn)行多種目標(biāo)的測(cè)量。此外，該儀器為無參照物測(cè)量，因此省略了煩人的參照物測(cè)量，可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定地進(jìn)行高速、高準(zhǔn)確度測(cè)量。歡迎您登陸濱松中國(guó)全新中文網(wǎng)站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產(chǎn)品更多詳細(xì)信息！特性無參照物工作尺寸緊湊，節(jié)省空間高速、高準(zhǔn)確度不整平薄膜精確測(cè)量分析光學(xué)常數(shù)（n,k）可外部控制參數(shù)型號(hào)C11627-01可測(cè)膜厚范圍（玻璃）20 nm to 50 μm*1測(cè)量可重復(fù)性（玻璃）0.02 nm*2 *3測(cè)量準(zhǔn)確度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源LED測(cè)量波長(zhǎng)420 nm to 720 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距離10 mm*3可測(cè)層數(shù)最多10層分析FFT 分析，擬合分析，光學(xué)常數(shù)分析測(cè)量時(shí)間19 ms/點(diǎn)*5光纖接口形狀FC外部控制功能RS-232C,Ethernet電源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗70W*1：以 SiO2折射率1.5來轉(zhuǎn)換*2：測(cè)量400 nm 厚SiO2 薄膜的標(biāo)準(zhǔn)偏差*3：取決于所使用的光學(xué)系統(tǒng)或物鏡的放大率*4：可保證的測(cè)量范圍列在VLSI標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量保證書中*5：連續(xù)數(shù)據(jù)采集時(shí)間不包括分析時(shí)間

品牌： 北京濱松光子 型號(hào)： C10178-01 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：濱松光子學(xué)商貿(mào)（中國(guó)）有限公司

C10178-01 納米膜厚測(cè)量?jī)x系列C10178-01型光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x是一款利用光譜相干度量學(xué)工作的非接觸型膜厚測(cè)量系統(tǒng)。通過光譜相干，可快速、高靈敏度、高準(zhǔn)確度地測(cè)量膜厚。由于使用我公司的光子多通道分析儀（PMA）為探測(cè)器，在測(cè)量多種濾光片、鍍膜等的膜厚的同時(shí)，還可以測(cè)量量子收益、反射率、透射率以及吸收系數(shù)等多種項(xiàng)目。歡迎您登陸濱松中國(guó)全新中文網(wǎng)站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產(chǎn)品更多詳細(xì)信息！特性高速、高準(zhǔn)確度實(shí)時(shí)測(cè)量映射功能不整平薄膜精確測(cè)量分析光學(xué)常數(shù)（n,k）可外部控制與特定附件配合，可測(cè)量量子收益、反射率、透射率以及吸收系數(shù)等。參數(shù)型號(hào)C10178-01測(cè)量模型標(biāo)準(zhǔn)型（通用測(cè)量）可測(cè)膜厚范圍（玻璃）20 nm to 50 μm*1測(cè)量可重復(fù)性（玻璃）0.01 nm*2 *3測(cè)量準(zhǔn)確度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源鹵素?zé)魷y(cè)量波長(zhǎng)400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距離10 mm*3可測(cè)層數(shù)最多10層分析FFT 分析，擬合分析，光學(xué)常數(shù)分析測(cè)量時(shí)間19 ms/點(diǎn)*5光纖接口形狀φ12套筒型外部控制功能RS-232C, 通過PIPE或Ethernet進(jìn)行內(nèi)部軟件數(shù)據(jù)傳輸接口USB2.0電源AC100 V to 120 V/ AC200 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗250W*1：以 SiO2折射率1.5來轉(zhuǎn)換*2：測(cè)量400 nm 厚SiO2 薄膜的標(biāo)準(zhǔn)偏差*3：取決于所使用的光學(xué)系統(tǒng)或物鏡的放大率*4：可保證的測(cè)量范圍列在VLSI標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量保證書中*5：連續(xù)數(shù)據(jù)采集時(shí)間不包括分析時(shí)間

品牌： 北京濱松光子 型號(hào)： C12562 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：濱松光子學(xué)商貿(mào)（中國(guó)）有限公司

C12562 納米膜厚測(cè)量?jī)x系列C12562型光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x是一款利用光譜相干度量學(xué)工作的非接觸型膜厚測(cè)量系統(tǒng)。光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x系列可以測(cè)量薄至10nm的薄膜，而可測(cè)范圍達(dá)到10nm到1100μm，因此可用來測(cè)量多種目標(biāo)。此外，該測(cè)量?jī)x可達(dá)到100Hz的高速測(cè)量，因此可進(jìn)行快速移動(dòng)的產(chǎn)品線進(jìn)行測(cè)量。歡迎您登陸濱松中國(guó)全新中文網(wǎng)站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產(chǎn)品更多詳細(xì)信息！特性可測(cè)量10nm薄膜縮短測(cè)量周期（頻率高達(dá)100Hz）增強(qiáng)型外部觸發(fā)（適合高速測(cè)量）涵蓋寬波長(zhǎng)范圍（400 nm到1100 nm）軟件增加了簡(jiǎn)化測(cè)量功能可進(jìn)行雙面分析不整平薄膜精確測(cè)量分析光學(xué)常數(shù)（n,k）可外部控制參數(shù)型號(hào)C12562-02可測(cè)膜厚范圍（玻璃）10 nm to 100 μm*1測(cè)量可重復(fù)性（玻璃）0.02 nm*2 *3測(cè)量準(zhǔn)確度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源鹵素?zé)魷y(cè)量波長(zhǎng)400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距離10 mm*3可測(cè)層數(shù)最多10層分析FFT 分析，擬合分析，光學(xué)常數(shù)分析測(cè)量時(shí)間3 ms/點(diǎn)*5光纖接口形狀FC外部控制功能RS-232C, Ethernet電源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗80W*1：以 SiO2折射率1.5來轉(zhuǎn)換*2：測(cè)量400 nm 厚SiO2 薄膜的標(biāo)準(zhǔn)偏差*3：取決于所使用的光學(xué)系統(tǒng)或物鏡的放大率*4：可保證的測(cè)量范圍列在VLSI標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量保證書中*5：連續(xù)數(shù)據(jù)采集時(shí)間不包括分析時(shí)間

品牌： 廣州蘭泰 型號(hào)： 微涂層測(cè)厚儀 CM-1210-200N （鋁基，微涂層） 產(chǎn)地：廣州 供應(yīng)商：廣州蘭泰儀器有限公司

專用于微小工件上的涂層測(cè)量。 * 非鐵基涂層測(cè)厚儀。 * 具有單次和連續(xù)兩種測(cè)量方式可選。 * 公/英制單位轉(zhuǎn)換。 * 具有手動(dòng)關(guān)機(jī)、自動(dòng)關(guān)機(jī)和欠壓提示等功能。 * 自動(dòng)記憶校準(zhǔn)值和自動(dòng)識(shí)別被測(cè)基體的材質(zhì)。

品牌： 廣州蘭泰 型號(hào)： 粗糙度儀 SRT-6210S （Ra/Rz/Rq/Rt） 產(chǎn)地：廣州 供應(yīng)商：廣州蘭泰儀器有限公司

儀器采用計(jì)算機(jī)技術(shù)，符合國(guó)標(biāo)GB/T 6062及ISO，DIN，ANSI和JIS四項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)。測(cè)量工件表面粗糙度時(shí)，將傳感器放在工件被測(cè)面上，由儀器內(nèi)部的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)傳感器沿被測(cè)表面做等速滑行，傳感器通過內(nèi)置的銳利觸針感受被測(cè)表面粗糙度，此時(shí)工件被測(cè)表面的粗糙度引起觸針產(chǎn)生位移，該位移使傳感器電感線圈的電感量發(fā)生變化，從而在相敏整流器的輸出端產(chǎn)生與被測(cè)表面粗糙度成比列的模擬信號(hào)，該信號(hào)經(jīng)過放大及電平轉(zhuǎn)換之后進(jìn)入數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)，DSP芯片將采集的數(shù)據(jù)進(jìn)行數(shù)字濾波和參數(shù)計(jì)算，測(cè)量結(jié)果在液晶顯示器顯示出來，同時(shí)可以與PC機(jī)通訊，實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)分析和打印。

品牌： 深圳禾苗 型號(hào)： E8-SDD 產(chǎn)地：深圳 供應(yīng)商：深圳市禾苗分析儀器有限公司

HeLeeX E8是一款專門RoHS檢測(cè)儀器，其核心光路系統(tǒng)集合國(guó)內(nèi)外幾十年EDXRF尖端技術(shù)，核心部件采用美國(guó)進(jìn)口，軟件算法采用美國(guó)EDXRF前沿技術(shù)，儀器所用標(biāo)準(zhǔn)樣品均有權(quán)威第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)報(bào)告；HeLeeXE8精密度高、準(zhǔn)確度、檢出限等技術(shù)參數(shù)全面超過國(guó)內(nèi)外同類儀器。

品牌： 深圳禾苗 型號(hào)： E8 產(chǎn)地：深圳 供應(yīng)商：深圳市禾苗分析儀器有限公司

HeLeeX E8是一款專門RoHS檢測(cè)儀器，其核心光路系統(tǒng)集合國(guó)內(nèi)外幾十年EDXRF尖端技術(shù)，核心部件采用美國(guó)進(jìn)口，軟件算法采用美國(guó)EDXRF前沿技術(shù)，儀器所用標(biāo)準(zhǔn)樣品均有權(quán)威第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)報(bào)告；HeLeeXE8精密度高、準(zhǔn)確度、檢出限等技術(shù)參數(shù)全面超過國(guó)內(nèi)外同類儀器。

品牌： 深圳禾苗 型號(hào)： E8 產(chǎn)地：深圳 供應(yīng)商：深圳市禾苗分析儀器有限公司

HeLeeX E8是一款專門RoHS檢測(cè)儀器，其核心光路系統(tǒng)集合國(guó)內(nèi)外幾十年EDXRF尖端技術(shù)，核心部件采用美國(guó)進(jìn)口，軟件算法采用美國(guó)EDXRF前沿技術(shù)，儀器所用標(biāo)準(zhǔn)樣品均有權(quán)威第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)報(bào)告；HeLeeXE8精密度高、準(zhǔn)確度、檢出限等技術(shù)參數(shù)全面超過國(guó)內(nèi)外同類儀器。

品牌： 德國(guó)布魯克 型號(hào)： DektakXT 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：北京亞科晨旭科技有限公司

納米尺度的表面輪廓測(cè)量、薄膜厚度測(cè)量、表面形貌測(cè)量、應(yīng)力測(cè)量和平整度等精密測(cè)量，應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、高亮度LED、觸摸屏、醫(yī)療、科學(xué)研究和材料科學(xué)領(lǐng)域

品牌： 濟(jì)南眾測(cè) 型號(hào)： THK-01 產(chǎn)地：濟(jì)南 供應(yīng)商：濟(jì)南眾測(cè)機(jī)電設(shè)備有限公司

★測(cè)頭采用標(biāo)準(zhǔn)M2.5螺紋連接方式，可連接各種形式百分表，千分表表頭進(jìn)行測(cè)量； ★可拆卸螺紋連接配重塊，可滿足各種標(biāo)準(zhǔn)要求及非標(biāo)壓力定制； ★嵌入式高速微電腦芯片控制，簡(jiǎn)潔高效的人機(jī)交互界面，為用戶提供舒適流暢的操作體驗(yàn) ★標(biāo)準(zhǔn)化，模塊化，系列化的設(shè)計(jì)理念，可最大限度的滿足用戶的個(gè)性化需求 ★觸控屏操作界面 ★7寸高清彩色液晶屏，實(shí)時(shí)顯示測(cè)試數(shù)據(jù)及曲線 ★進(jìn)口高速高精度采樣芯片，有效保證測(cè)試準(zhǔn)確性與實(shí)時(shí)性 ★內(nèi)置微型打印機(jī)，可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)歷史數(shù)據(jù)打印功能 ★標(biāo)準(zhǔn)的RS232接口，便于系統(tǒng)與電腦的外部連接和數(shù)據(jù)傳輸 ★嚴(yán)格按照標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)的接觸面積和測(cè)量壓力，同時(shí)支持各種非標(biāo)定制 ★高精度測(cè)厚傳感器，精度高重現(xiàn)性好 ★可采用標(biāo)準(zhǔn)厚度計(jì)量工具標(biāo)定、檢驗(yàn) ★多種測(cè)試量程可選 ★實(shí)時(shí)顯示測(cè)量結(jié)果的最大值、最小值、平均值以及標(biāo)準(zhǔn)偏差等分析數(shù)據(jù)，方便用戶進(jìn)行判斷

品牌： 希臘ThetaMetrisis 型號(hào)： FR-Basic UV/VIS 產(chǎn)地：希臘 供應(yīng)商：武漢邁可諾科技有限公司

品牌：西塔名詞：膜厚儀   膜厚儀、測(cè)厚儀、干涉儀、厚度測(cè)量?jī)x干涉儀是利用干涉原理測(cè)量光程之差從而測(cè)定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會(huì)非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動(dòng)，而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起，所以通過干涉條紋的移動(dòng)變化可測(cè)量幾何長(zhǎng)度或折射率的微小改變量，從而測(cè)得與此有關(guān)的其他物理量。測(cè)量精度決定于測(cè)量光程差的精度，干涉條紋每移動(dòng)一個(gè)條紋間距，光程差就改變一個(gè)波長(zhǎng)(～10-7米)，所以干涉儀是以光波波長(zhǎng)為單位測(cè)量光程差的，其測(cè)量精度之高是任何其他測(cè)量方法所無法比擬的。應(yīng)用領(lǐng)域：   1、半導(dǎo)體晶片   2、液晶產(chǎn)品（CS,LGP,BIU）    3、微機(jī)電系統(tǒng)   4、光纖產(chǎn)品   5、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)盤（HDD,DVD,CD）   6、材料研究   7、精密加工表面   8、生物醫(yī)學(xué)工程產(chǎn)品特點(diǎn)1 、非接觸式測(cè)量：避免物件受損。   2 、三維表面測(cè)量：表面高度測(cè)量范圍為 2nm ---500μm。    3 、多重視野鏡片：方便物鏡的快速切換。   4 、納米級(jí)分辨率：垂直分辨率可以達(dá)0.1nm。   5、高速數(shù)字信號(hào)處理器：實(shí)現(xiàn)測(cè)量?jī)H需幾秒鐘。   6 、掃描儀：閉環(huán)控制系統(tǒng)。   7、工作臺(tái)：氣動(dòng)裝置、抗震、抗壓。   8 、測(cè)量軟件：基于windows 操作系統(tǒng)的用戶界面，強(qiáng)大而快速的運(yùn)算型號(hào)光譜范圍測(cè)厚范圍FR-Pro UV/VIS 200nm - 850nm 1nm - 80μm FR-Pro VIS/NIR 350nm – 1000nm 12nm - 120μm FR-Pro UV/NIR-HR  200nm - 1100nm1nm - 120μm FR-Pro RED/NIR700nm - 950nm 200nm - 250μm FR-Pro UV/NIR-EXT200nm - 1000nm 3nm - 80μm FR-Pro NIR900nm - 1700nm 100nm - 200μm FR-Pro D VIS/NIR 350nm - 1700nm 12nm - 300μm FR-Pro D UV/NIR200nm – 1700nm 1nm – 300μm

品牌： 濟(jì)南思克 型號(hào)： THI-1801 產(chǎn)地：濟(jì)南 供應(yīng)商：濟(jì)南思克測(cè)試技術(shù)有限公司

更多聚酯膜觸摸屏測(cè)厚儀操作簡(jiǎn)單信息，請(qǐng)致電垂詢！SYSTESTER思克，專業(yè)+創(chuàng)新+技術(shù)+產(chǎn)品+服務(wù)；SYSTESTER思克，More than your think！

品牌： 奧地利安東帕 型號(hào)： CAW 產(chǎn)地：奧地利 供應(yīng)商：奧地利安東帕(中國(guó))有限公司

產(chǎn)品簡(jiǎn)介球磨型膜厚測(cè)試儀Calotest為您提供簡(jiǎn)單快速并且低成本的膜厚測(cè)量方法。一個(gè)半徑精確已知的磨球由自身重力作用于鍍膜試樣表面并進(jìn)行自轉(zhuǎn)。在測(cè)試過程中，磨球與試樣的相對(duì)位置以及施加于試樣的壓力保持恒定。磨球與試樣間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)以及金剛石顆粒研磨液的共同作用將試樣表面磨損出一球冠形凹坑。隨后的金相顯微鏡觀測(cè)可以獲得磨損坑內(nèi)涂層和基體部分投影面積的幾何參數(shù)。在得知了X和Y的長(zhǎng)度后，涂層的厚度D可以通過簡(jiǎn)單的幾何公式計(jì)算得出。 膜厚及磨損測(cè)試儀Calowear將這個(gè)原理更加深了一步。通過監(jiān)測(cè)球體施加在試樣上的載荷，我們可以更好的控制薄膜的磨損。研磨液以恒定速率自動(dòng)滴加在球體與試樣界面，構(gòu)成一個(gè)穩(wěn)定的三體磨損系統(tǒng)。 Calowear不是一次性的磨損試樣表面，而是將磨損過程分成幾個(gè)不同的階段來完成。磨損坑的形狀以及法向力的數(shù)值在每階段的磨損后進(jìn)行記錄。由此，薄膜以及基體的磨損率可以精確的計(jì)算出來。 技術(shù)參數(shù)：工作臺(tái)尺寸： 50 x 50 mm 轉(zhuǎn)動(dòng)速率： 60 to 1200 rpm 標(biāo)準(zhǔn)磨球直徑： 20, 25, 30mm 磨損時(shí)間范圍： 10 - 90 sec or 1 - 9 min主要特點(diǎn)：薄膜與基體的磨損率測(cè)量 膜厚測(cè)量 適用于多種材料 可以導(dǎo)出數(shù)據(jù)進(jìn)行更深入分析（例如： EXCEL 等）

品牌： 日本得樂 型號(hào)： DM-210 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：北京創(chuàng)誠(chéng)致佳科技有限公司

TECLOCK指針式厚度計(jì)DM-210測(cè)量范圍可以從5mm到230mm(繼足使用)。對(duì)應(yīng)的作業(yè)大幅度擴(kuò)張。

薄膜測(cè)厚儀 儀器網(wǎng)薄膜測(cè)厚儀產(chǎn)品導(dǎo)購(gòu)專場(chǎng)為您提供薄膜測(cè)厚儀功能原理、規(guī)格型號(hào)、性能參數(shù)、產(chǎn)品價(jià)格、詳細(xì)產(chǎn)品圖片以及廠商聯(lián)系方式等實(shí)用信息，您可以通過設(shè)置不同查詢條件，選擇滿足您實(shí)際需求的薄膜測(cè)厚儀產(chǎn)品，同時(shí)薄膜測(cè)厚儀產(chǎn)品導(dǎo)購(gòu)專場(chǎng)還為您提供精品優(yōu)選薄膜測(cè)厚儀產(chǎn)品和薄膜測(cè)厚儀相關(guān)技術(shù)資料、解決方案、招標(biāo)采購(gòu)等綜合信息。