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輝光放電光譜儀

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2019-08-31  來源:儀器信息網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):358
核心提示:輝光放電光譜儀 輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。輝光放電光譜儀主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極、光學(xué)玻璃、核材料等。非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,操作簡單、便于維護,是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。 精品推薦 品牌: 法國HORIBA JY 型號: Profiler 2 產(chǎn)地:法國 供應(yīng)商:北京國嘉恒業(yè)科學(xué)儀器有限公司 GD-
輝光放電光譜儀 輝光放電光譜儀 輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。輝光放電光譜儀主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極、光學(xué)玻璃、核材料等。非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,操作簡單、便于維護,是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。 精品推薦
品牌: 法國HORIBA JY 型號: Profiler 2 產(chǎn)地:法國 供應(yīng)商:北京國嘉恒業(yè)科學(xué)儀器有限公司

GD-Profiler 2是一款可進行超快鍍層分析的理想工具,非常適合于導(dǎo)體(和/或)非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析??煞治?0多種元素,其中包括C、H、O、N和Cl。一次測試可輕松獲取鍍層元素深度分布、鍍層厚度、鍍層均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析幾納米到200微米的深度,深度分辨率小于1納米。GD-Profiler 2采用了脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。此外,還采用了多項專利技術(shù),如高動態(tài)檢測器(HDD)可測試ppm-100%的濃度范圍,專利Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。主要應(yīng)用領(lǐng)域包括鍍鋅鋼板、彩涂板、新型半導(dǎo)體材料、LED晶片、硬盤、有機鍍層、鋰電池、玻璃、陶瓷等等。技術(shù)參數(shù):1、射頻發(fā)生器-標準配置、復(fù)合D級標準、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短,表面信息無任何失真。2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量,因而擁有卓越的光效率和靈敏度。5、高動態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。7、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。8、HORIBA獨有的單色儀(選配)可極大地提高儀器靈活性,可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。9、適用于ISO14707和16962標準。更多指標參數(shù)請訪問HORIBA官網(wǎng)


品牌: 法國HORIBA JY 型號: Profiler HR 產(chǎn)地:法國 供應(yīng)商:北京國嘉恒業(yè)科學(xué)儀器有限公司

GD-Profiler HR擁有獨一無二的超高光譜分辨率,為解決復(fù)雜基體中的疑難問題提供了適宜、便利的方法。技術(shù)參數(shù):1、射頻發(fā)生器-標準配置、復(fù)合D級標準、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短、表面信息無任何失真。2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量,因而擁有卓越的光效率GD敏度。5、高動態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏地檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。7、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。8、HORIBA獨有的單色儀(選配)可極大的提高儀器的靈活性,可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。9、適用于ISO14707和16962標準。10、GD-Profiler HR多色儀焦距為1米,光譜分辨率可達14pm,最多可同時分析60種元素。11、GD-Profiler HR可選配焦距為1米的單色儀,最高光譜分辨率達9pm。更多指標參數(shù)請訪問HORIBA官網(wǎng)


品牌: 日本堀場 型號: GD-Profiler HR 產(chǎn)地:法國 供應(yīng)商:天津東方科捷科技有限公司

儀器簡介: GD-Profiler HR擁有獨一無二的超高光譜分辨率,為解決復(fù)雜基體中的疑難問題提供了適宜、便利的方法。 詳細指標參數(shù)可訪問http://www.horiba.com/cn/scientific/products技術(shù)參數(shù): 1、射頻發(fā)生器-標準配置、復(fù)合D級標準、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短、表面信息無任何失真。 2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。 3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm~800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。 4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量,因而擁有卓越的光效率GD敏度。 5、高動態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏地檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5 x 1010。 6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。 7、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。 8、HORIBA獨有的單色儀(選配)可極大的提高儀器的靈活性,可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。 9、適用于ISO14707和16962標準。 10、GD-Profiler HR多色儀焦距為1米,光譜分辨率可達14pm,最多可同時分析60種元素。 11、GD-Profiler HR可選配焦距為1米的單色儀,最高光譜分辨率達9pm。


品牌: 法國HORIBA JY 型號: GD-Profiler 2 產(chǎn)地:法國 供應(yīng)商:天津東方科捷科技有限公司

儀器簡介: GD-Profiler 2是一款可進行超快鍍層分析的理想工具,非常適合于導(dǎo)體(和/或)非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析??煞治?0多種元素,其中包括C、H、O、N和Cl。一次測試可輕松獲取鍍層元素深度分布、鍍層厚度、鍍層均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析幾納米到150微米的深度,深度分辨率小于1納米。GD-Profiler 2采用了脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。此外,還采用了多項專利技術(shù),如高動態(tài)檢測器(HDD)可測試ppm-100%的濃度范圍,專利Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。主要應(yīng)用領(lǐng)域包括鍍鋅鋼板、彩涂板、新型半導(dǎo)體材料、LED晶片、硬盤、有機鍍層、鋰電池、玻璃、陶瓷等等。 詳細指標參數(shù)可訪問:http://www.horiba.com/cn/scientific/products技術(shù)參數(shù): 1、射頻發(fā)生器-標準配置、復(fù)合D級標準、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短,表面信息無任何失真。 2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。 3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm~800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。 4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量,因而擁有卓越的光效率和靈敏度。 5、高動態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5 x 1010。 6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。 7、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。 8、HORIBA獨有的單色儀(選配)可極大地提高儀器靈活性,可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。 9、適用于ISO14707和16962標準。


品牌: 日本堀場 型號: Profiler 2 產(chǎn)地:法國 供應(yīng)商:廈門通創(chuàng)檢測技術(shù)有限公司

解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)Profiler 2輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極、光學(xué)玻璃、核材料等。GD-Profiler 2作為超快鍍層分析的理想工具,非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,操作簡單、便于維護,是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。 采用多項專利技術(shù),如高動態(tài)檢測器(HDD),可測試ppm-100%的濃度范圍,專利Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。 分析速度快(2-10nm/s)技術(shù)參數(shù):1、射頻發(fā)生器-標準配置、復(fù)合D級標準、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短,表面信息無任何失真。2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量,因而擁有卓越的光效率和靈敏度。5、高動態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。7、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。8、HORIBA獨有的單色儀(選配)可極大地提高儀器靈活性,可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。9、適用于ISO14707和16962標準。儀器原理:輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,當施加在放電兩極的電壓達到一定值,超過激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰極)樣品表面,產(chǎn)生陰極濺射。在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。更多指標參數(shù)請訪問HORIBA官網(wǎng):www.horiba.com/cn/scientific


品牌: 日本堀場 型號: Profiler HR 產(chǎn)地:法國 供應(yīng)商:廈門通創(chuàng)檢測技術(shù)有限公司

GD-Profiler HR擁有獨一無二的超高光譜分辨率,為解決復(fù)雜基體中的疑難問題提供了適宜、便利的方法。技術(shù)參數(shù):1、射頻發(fā)生器-標準配置、復(fù)合D級標準、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短、表面信息無任何失真。2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量,因而擁有卓越的光效率GD敏度。5、高動態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏地檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。7、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。8、HORIBA獨有的單色儀(選配)可極大的提高儀器的靈活性,可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。9、適用于ISO14707和16962標準。10、GD-Profiler HR多色儀焦距為1米,光譜分辨率可達14pm,最多可同時分析58種元素。11、GD-Profiler HR可選配焦距為1米的單色儀,最高光譜分辨率達9pm。更多指標參數(shù)請訪問HORIBA官網(wǎng)注:具體價格、配置請咨詢當?shù)劁N售工程師


品牌: 德國斯派克 型號: SPECTRO GDA750 產(chǎn)地:德國 供應(yīng)商:德國斯派克分析儀器公司

在金屬分析領(lǐng)域中,輝光放電分析是濃度分析和表面分析最理想的手段。表面處理工藝過程,如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等,都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂(鍍)層厚度及化學(xué)成分。 對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題,輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。采用可選的射頻光源(GDA750輝光放電光譜儀)可以分析非導(dǎo)體材料和涂層,如玻璃,陶瓷,釉質(zhì)和油漆涂層。 GDA750可以配備60個以上的分析通道,并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂(鍍)層的深度可測量至200μm。表面分析和獲得的分辨率達1個原子層。分析軟件具有強大功能并且靈活易用;化學(xué)成分可以與其他特性,如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時測定。 通過比較涂(鍍)層工藝過程(CVD,PVD)前后的表面特性,確保生產(chǎn)工藝過程最佳化和最大程度地避免廢品浪費。GDA750也可用于塊狀樣品的分析(如金屬合金的化學(xué)成分),為復(fù)雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線。 采用可選的射頻輝光放電光源,GDA750可用于分析非導(dǎo)電性材料,如陶瓷,玻璃和油漆涂層。主要特點:1.涂(鍍)層材料和均相材料化學(xué)成分的分析,痕量和微量合金元素的檢測和測量2.濃度分布測定和表層測量數(shù)據(jù)的定性/定量評價3.測定被分析表面層內(nèi)部的相/相比4.軟件基于Windows 2000環(huán)境,日常分析功能采用易用的軟件界面,使用戶能很快地熟悉儀器的使用5.具有許多適于用戶的軟件功能選項,如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式


輝光放電光譜儀 儀器網(wǎng)輝光放電光譜儀產(chǎn)品導(dǎo)購專場為您提供輝光放電光譜儀功能原理、規(guī)格型號、性能參數(shù)、產(chǎn)品價格、詳細產(chǎn)品圖片以及廠商聯(lián)系方式等實用信息,您可以通過設(shè)置不同查詢條件,選擇滿足您實際需求的輝光放電光譜儀產(chǎn)品,同時輝光放電光譜儀產(chǎn)品導(dǎo)購專場還為您提供精品優(yōu)選輝光放電光譜儀產(chǎn)品和輝光放電光譜儀相關(guān)技術(shù)資料、解決方案、招標采購等綜合信息。
 
關(guān)鍵詞: 鍍層 輝光 放電 元素 分析
 
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輝光放電光譜儀二維碼

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