什么是表面電場(chǎng)分布的掃描靜電力顯微鏡技術(shù)？

原子力顯微鏡技術(shù)已儼然成為掃描探針顯微鏡的入門技術(shù)。
原子力顯微鏡在納米級(jí)表面形貌分析的成功經(jīng)驗(yàn)，

使得研究人員得以更廣泛利用原子力顯微鏡的架構(gòu)從事各種物理量的二維掃描偵測(cè)、分析與研究，
也因此衍生出應(yīng)用于表面磁性分析的掃描磁力顯微鏡技術(shù)(magnetic force microscopy，MFM)；

應(yīng)用于表面電場(chǎng)分布的掃描靜電力顯微鏡技術(shù)(electrostatic force microscopy，EFM)

；應(yīng)用于表面光學(xué)特性分析的掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡技術(shù)(scanning near-field optical microscopy，SNOM)；

應(yīng)用于表面電性分析的掃描電流顯微鏡技術(shù)(conductive atomic force microscopy，C-AFM)、掃描展阻顯微鏡技術(shù)(scanning spreading resistance microscopy，SSRM)
與掃描電容顯微鏡技術(shù)(scanning capacitance microscopy，SCM)；
以及應(yīng)用于表面硬度分布的原子力超音波顯微鏡技術(shù)(atomic force acoustic microscopy，AFAM)等。

電性掃描探針顯微鏡技術(shù)包括掃描電容顯微鏡、掃描電流顯微鏡、掃描展阻顯微鏡以及靜電力顯微鏡四個(gè)主要技術(shù)領(lǐng)域，