共軛焦激光掃瞄顯微鏡量測(cè)

共軛焦激光掃瞄顯微鏡是利用激光光源，在光學(xué)基礎(chǔ)上采用光源焦平面與觀察者焦平面共軛成相的原理，
再利用電腦對(duì)所掃描分析的對(duì)象進(jìn)行數(shù)位圖像處理的觀察和分析，具有較高的水平解析度，

并可利用電腦分析重建三維影像，但價(jià)格相當(dāng)昂貴。鎳模仁一方面表面反射特性佳，且為凸特征，
以共軛焦激光掃瞄顯微鏡掃瞄鎳量測(cè)效果還不錯(cuò)。

但在量測(cè)下凹V溝如矽基蝕刻時(shí)，在V溝底部的掃瞄則出現(xiàn)明顯雜訊與失真的現(xiàn)象。
而于透光物件如PMMA導(dǎo)光板量測(cè)時(shí)，掃瞄軌跡的雜訊非常大，且LGP為下凹特征，
在V形下凹的部分幾乎無(wú)法辨識(shí)，以致V溝深度與角度無(wú)法準(zhǔn)確量測(cè)