拋光實(shí)驗(yàn)表面粗糙度-分析表面粗糙度和表面形貌

磁頭的超精密拋光是存儲介質(zhì)行業(yè)一項(xiàng)十分重要的工作，用于
產(chǎn)生一個(gè)平面度好、表面粗糙度值很小的表面，且只允許在磁頭與
存儲介質(zhì)間(如磁盤等)有很小的間隙，這項(xiàng)工作可以通過對幾個(gè)加
工參數(shù)優(yōu)化得到，主要包括拋光劑的種類、拋光盤材料、拋光盤和
工件的速度、拋光時(shí)間、拋光時(shí)施加給工件的壓力等。

  供了磁頭拋光加工時(shí)材料去除率和表面粗糙度的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)
，這兩個(gè)參數(shù)由于反映了消費(fèi)者需求，因此被磁頭制造商們認(rèn)為是
最重要的兩個(gè)因素。在磁頭的超精密拋光這個(gè)過程中，主要為了得
到拋光劑類型與材料去除率間的關(guān)系，拋光劑的特征參數(shù)包括顆粒
尺寸、濃度、數(shù)量等。

  采用單晶和多晶磨粒的拋光劑對工件加工效果的影響規(guī)律。
在超精密拋光時(shí)，改變拋光劑類型將改變加工特征，從而改變材料
去除率和表面粗糙度。

  對磁頭超精密拋光進(jìn)行研究時(shí)，首先要對磁頭的表面粗糙
度和材料去除率進(jìn)行定性和定量分析。保持其他參數(shù)恒定，僅改變
拋光劑類型，可根據(jù)消費(fèi)者在批量、經(jīng)濟(jì)性、表面質(zhì)量等方面的不
同要求，制定出最優(yōu)的選擇。

拋光實(shí)驗(yàn)時(shí)，保持其他幾個(gè)參數(shù)(拋光盤材料、拋光盤表面粗
糙度、時(shí)間、負(fù)載、速度、拋光劑的量)恒定，對四種不同拋光劑
進(jìn)行研究。實(shí)驗(yàn)時(shí)首先利用拋光盤進(jìn)行加工，直至工件的粗糙度達(dá)
到20～30微米，最大凹度達(dá)到25微米。下一階段實(shí)驗(yàn)是對拋光盤使
用拋光劑時(shí)對工件的表面紋理進(jìn)行研究，將12kg的負(fù)載施加到陶瓷
環(huán)上，加工時(shí)間大約為99min。

  將5．5kg的負(fù)載加到工件上，研磨加工時(shí)間大約為99min
，然后將清洗和測量后的工件裝入工件固定器，每批次加工6件，
工件與工件間呈60度擺放，每批拋光大約12min，接著在清洗槽里
用1％酒精試劑清洗，然后重新測量。完成這些后再利用原子力顯
微鏡觀察工件，分析表面粗糙度和表面形貌。

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