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課后 | 數(shù)碼單反 RR TIC3X應(yīng)用領(lǐng)域示例:較高快速反應(yīng)赴援功用下高導(dǎo)無氧銅器(OFHC)的薄膜為基礎(chǔ)數(shù)據(jù)分析

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2021-06-26  來源:儀器網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):68
核心提示:通過leica em tic3x?對樣品進(jìn)行離子束切割,樣品ebsd mapping解析率得到明顯提升,可達(dá)80%-90%以上,并且結(jié)果穩(wěn)定可重復(fù),更好地表征了晶粒的變形,以及大小角晶界的轉(zhuǎn)變。實(shí)驗(yàn)樣品高應(yīng)變率作用下高導(dǎo)無氧銅(ofhc)實(shí)

過leica em tic3x?對樣品進(jìn)行離子束切割,樣品ebsd mapping解析率得到明顯提升,可達(dá)80%-90%以上,并且結(jié)果穩(wěn)定可重復(fù),更好地表征了晶粒的變形,以及大小角晶界的轉(zhuǎn)變。

實(shí)驗(yàn)樣品

高應(yīng)變率作用下高導(dǎo)無氧銅(ofhc)

實(shí)驗(yàn)?zāi)康?p>通過電子背散射衍射技術(shù)(ebsd)對在高應(yīng)變率、高溫和大變形條件下獲得的材料進(jìn)行晶粒變形細(xì)化以及再結(jié)晶行為的表征,以期達(dá)到表征材料力學(xué)屬性的目的。

實(shí)驗(yàn)過程

?1?

原始樣品的制備

高速切削是一種集合高應(yīng)變率、高溫和大變形的一種材料變形的復(fù)雜材料変形條件,通過改變切削速度來改變上述的變形邊界條件,高速切削的過程示意圖如下:

(圖1 高速切削過程示意圖)

獲得的切屑經(jīng)過金相鑲嵌和腐蝕之后的試樣如圖所示:

(圖2 經(jīng)過鑲嵌和腐蝕之后的切屑)

從圖2中可知晶粒已經(jīng)嚴(yán)重變形,光鏡已經(jīng)無法分辨,而且對于晶粒到底發(fā)生了什么變化,光鏡也無法做到表征的目的,因此對于材料ebsd表征十分必要。

?2?

實(shí)驗(yàn)樣品的制備

ebsd制樣是本次實(shí)驗(yàn)的重中之重,本次實(shí)驗(yàn)較難主要體現(xiàn)在3個方面:一是因?yàn)榻?jīng)歷了嚴(yán)重塑形變形的材料自身的晶粒內(nèi)部就會存在一定的殘余應(yīng)力,在表征的時候有一定的難度;二是高導(dǎo)無氧銅是一種特別軟的材料,在制樣的時候非常容易帶入應(yīng)力,或者劃傷測試面;三是經(jīng)過高速切削得到的樣品寬度非常細(xì)長,不是傳統(tǒng)的塊體,制樣過程比較困難。


目前解決方案主要有四種:機(jī)械拋光,電解拋光,振動拋光,離子拋光,這幾種方法目前都有所嘗試,解析率都不太高,究其原因,主要還是因?yàn)槲业臉悠芳?xì)長彎曲的原因,經(jīng)過鑲嵌之后,電解拋光無法滿足,機(jī)械拋光很容易帶入劃痕,離子拋光鑲嵌之后的樣品效果不是十分理想,很多方法都不太適用。

通過與徠卡電鏡制樣技術(shù)人員溝通,認(rèn)為離子切割的方法能比較好的解決目前存在的問題,經(jīng)過leica em tic 3x離子切割出來的樣品解析率超過了80%,部分區(qū)域甚至能夠達(dá)到90%以上,最重要的是這種制樣方法非常穩(wěn)定,實(shí)驗(yàn)的結(jié)果能夠比較方便的被復(fù)現(xiàn)出來,可較好地滿足我的研究需要。

?3?

實(shí)驗(yàn)觀測

通過ebsd測試,獲得的mapping圖的解析率有了較為明顯的提升,更高的解析率意味著晶粒的變形,以及大小角晶界的轉(zhuǎn)變也能更好的表征出來。

圖3 經(jīng)過振動拋光之后獲得的ebsd角度取向分布圖

圖4 經(jīng)過離子切割之后獲得的ebsd角度取向分布圖

總結(jié)

通過上述實(shí)驗(yàn)的結(jié)果可以得出結(jié)論,相比于目前主流的振動拋光、電解拋光和離子拋光,在進(jìn)行一些形狀比較特殊的樣品的ebsd試樣的制備時,離子切割方法所具備的不受樣品自身形狀限制,效率高,穩(wěn)定性好,可重復(fù)性高等都是目前比較常用的制樣方法所不具備的,因此離子切割為ebsd的制樣方法做了一個十分重要的擴(kuò)充!

致謝:西安交通大學(xué) 機(jī)械學(xué)院? 許祥




關(guān)于徠卡顯微系統(tǒng)leica microsystems

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徠卡顯微系統(tǒng)是全球顯微科技與分析科學(xué)儀器之領(lǐng)導(dǎo)廠商,總部位于德國維茲拉(wetzlar, germany)。主要提供顯微結(jié)構(gòu)與納米結(jié)構(gòu)分析領(lǐng)域的研究級顯微鏡等專業(yè)科學(xué)儀器。自公司十九世紀(jì)成立以來,徠卡以其對光學(xué)成像的極致追求和不斷進(jìn)取的創(chuàng)新精神始終得到業(yè)界廣泛認(rèn)可。徠卡在復(fù)合顯微鏡、體視顯微鏡、數(shù)碼顯微系統(tǒng)、激光共聚焦掃描顯微系統(tǒng)、電子顯微鏡樣品制備和醫(yī)療手術(shù)顯微技術(shù)等多個顯微光學(xué)領(lǐng)域處于全球領(lǐng)先地位。

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徠卡顯微系統(tǒng)在全球有七大產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)基地,在二十多個國家擁有服務(wù)支持中心。徠卡在全球一百多個國家設(shè)有區(qū)域分公司或銷售分支機(jī)構(gòu),并建有遍及全球的完善經(jīng)銷商服務(wù)網(wǎng)絡(luò)體系。


 
關(guān)鍵詞: 顯微 樣品 拋光 離子 ebsd
 
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