近日，美國(guó)弗吉尼亞理工大學(xué)電力電子技術(shù)中心（CPES）和蘇州晶湛半導(dǎo)體團(tuán)隊(duì)合作攻關(guān)，通過(guò)采用蘇州晶湛新型多溝道AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)外延片，以及運(yùn)用pGaN降低表面場(chǎng)技術(shù)（p- GaN reduced surface field (RESURF)制備的肖特基勢(shì)壘二極管(SBD)，成功實(shí)現(xiàn)了超過(guò)10kV的超高擊穿電壓。這是迄今為止氮化鎵功率器件報(bào)道實(shí)現(xiàn)的最高擊穿電壓值。相關(guān)研究成果已于2021年6月發(fā)表于IEEE Electron Device Letters期刊。

圖1：多溝道AlGaN/GaN SBD器件結(jié)構(gòu)圖

（引用自IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, VOL. 42, NO. 6, JUNE 2021）

實(shí)現(xiàn)這一新型器件所采用的氮化鎵外延材料結(jié)構(gòu)包括20nm p+GaN/350nm p-GaN?帽層以及23nm Al0.25Ga0.75N/100nm GaN本征層的5個(gè)溝道。該外延結(jié)構(gòu)由蘇州晶湛團(tuán)隊(duì)通過(guò)MOCVD方法在4吋藍(lán)寶石襯底上單次連續(xù)外延實(shí)現(xiàn)，無(wú)需二次外延?；诖送庋咏Y(jié)構(gòu)開(kāi)發(fā)的氮化鎵器件結(jié)構(gòu)如圖1所示，在刻蝕工藝中，通過(guò)僅保留2微米的p-GaN場(chǎng)板結(jié)構(gòu)（或稱(chēng)為降低表面場(chǎng)（RESURF）結(jié)構(gòu)），能夠顯著降低峰值電場(chǎng)。在此基礎(chǔ)上制備的多溝道氮化鎵肖特基勢(shì)壘二極管（SBD），在實(shí)現(xiàn)10kV的超高擊穿電壓的同時(shí)，巴利加優(yōu)值（Baliga’s figure of merit, FOM）高達(dá)2.8?，而39?的低導(dǎo)通電阻率，也遠(yuǎn)低于同樣10kV耐壓的?SiC?結(jié)型肖特基勢(shì)壘二極管。多溝道氮化鎵器件由于采用廉價(jià)的藍(lán)寶石襯底以及水平器件結(jié)構(gòu)，其制備成本也遠(yuǎn)低于采用昂貴SiC襯底制備的SiC二極管。

創(chuàng)新性的多溝道設(shè)計(jì)可以突破單溝道氮化鎵器件的理論極限，進(jìn)一步降低開(kāi)態(tài)電阻和系統(tǒng)損耗，并能實(shí)現(xiàn)超高擊穿電壓，大大拓展GaN器件在高壓電力電子應(yīng)用中的前景。在“碳達(dá)峰+碳中和”的歷史性能源變革背景下，氮化鎵電力電子器件在電動(dòng)汽車(chē)、充電樁，可再生能源發(fā)電，工業(yè)電機(jī)驅(qū)動(dòng)器，電網(wǎng)和軌道交通等高壓應(yīng)用領(lǐng)域具有廣闊的潛力。蘇州晶湛半導(dǎo)體有限公司已于近日發(fā)布了面向中高壓電力電子和射頻應(yīng)用的硅基，碳化硅基以及藍(lán)寶石基的新型多溝道AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)外延片全系列產(chǎn)品，歡迎海內(nèi)外新老客戶(hù)與我們洽商合作，共同推動(dòng)氮化鎵電力電子技術(shù)和應(yīng)用的新發(fā)展！