光學(xué)元件和拋光模的形狀輪廓計(jì)量圖像顯微鏡

目前人們對拋光的機(jī)理尚未完全掌握。持續(xù)的研究和調(diào)查表明，研
磨劑、流量冷卻、靜電引力、化學(xué)反應(yīng)都會對拋光產(chǎn)生一定影響。在本
書中，拋光可以理解為分子量級上的材料去除，和研磨不同的是它不會
引起裂紋。

傳統(tǒng)拋光是添加拋光液到拋光模上對光學(xué)元件表面進(jìn)行研磨。拋光
液中的固體顆粒附著在拋光模上．并在被加_[元件的表面滑動(而非滾
動)。

拋光模由柔性瀝青層(木松香、焦油或合成樹脂)、聚氨基甲酸乙酯
以及剛性基底上的微孔纖維組成。典型的拋光液通常是二氧化鈰懸浮液
(用于玻璃)或氧化鋁懸浮液(用于金屬和石英晶體)。其他種類的拋光模
和拋光液通常用于特殊情況，如錫模上加油性金剛石。

拋光中，光學(xué)元件和拋光模的形狀都會根據(jù)作用力的分布和被加工
元件與拋光模之間的總路程而緩慢變化，這取決于光學(xué)技師所做的調(diào)整
和收斂性操作，以盡量使光學(xué)元件達(dá)到期望的形狀。

新型子孔徑拋光法包括磁流變拋光(MRF)、射流拋光、利用緞帶的
柔性拋光(UFF)、旋進(jìn)或氣囊拋光射法。這些拋光法都需要專業(yè)且昂貴
的機(jī)械裝備。

拋光劑
拋光劑由研磨顆粒、流體載體以及可選擇的添加劑組成。這些添加
劑包括懸浮劑、潤滑劑、洗滌劑、殺菌劑和pH值調(diào)節(jié)劑。

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