薄膜沉積控制儀包括反應(yīng)腔室，還包括至少兩套成膜機(jī)構(gòu)，所述至少兩套成膜機(jī)構(gòu)分別對(duì)應(yīng)待成膜基板的至少兩個(gè)成膜區(qū)域；每套所述成膜機(jī)構(gòu)配置為在所述反應(yīng)腔室內(nèi)形成一種成膜環(huán)境，且各套所述成膜機(jī)構(gòu)所形成的成膜環(huán)境中至少一項(xiàng)工藝參數(shù)不同，以分別在對(duì)應(yīng)的成膜區(qū)域形成薄膜性能或薄膜參數(shù)不同的薄膜。 薄膜設(shè)備為與高速加工以及大量的節(jié)省加工時(shí)間、成本相結(jié)合，零件的改進(jìn)已經(jīng)成為其中的重要因素。在薄膜的加工中，為得到的效益，因此必須要選擇合適的表面處理工藝。對(duì)于中重負(fù)荷的機(jī)械，要選擇CVD高溫鍍鈦，并與精密真空熱處理相輔助，從而才可以達(dá)到可以接受變形量。 薄膜沉積室本底真空： 1Pa； 薄膜沉積室：由不銹鋼底與玻璃鐘罩組成；有效尺寸： 220 H230mm； 射頻耦合方式：電容耦合/電感耦合；射頻源功率：帶500W13.56MHz； 氣路系統(tǒng)：由三路轉(zhuǎn)子流量計(jì)控制（可選配質(zhì)量流量計(jì)）； 襯底加熱溫度：室溫至300℃可控； 平行板電極： 70mm； 工作反應(yīng)氣體：由電極板上微孔均勻?qū)耄?真空抽氣系統(tǒng)：2XZ-4型旋片機(jī)械泵，4L/S，單相220V交流電源供電； 管道、閥門：材質(zhì)使用不銹鋼和金屬波紋管； 對(duì)過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警，并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施； 供電電源：AC220V，50Hz，整機(jī)功率2KW。 運(yùn)行處理成本是薄膜沉積控制儀工藝設(shè)計(jì)需要考慮的一個(gè)重要問題，一般運(yùn)用好薄膜的生產(chǎn)技術(shù)為核心技術(shù)。 管理人員對(duì)設(shè)備了解不足，所以設(shè)計(jì)的處理系統(tǒng)盡量操作、維護(hù)便捷。 必須確保采用的工藝產(chǎn)出的水質(zhì)符合薄膜設(shè)備回用標(biāo)準(zhǔn)。