上海昭沅儀器設(shè)備有限公司，代理多項世界*公司的表面形貌測試產(chǎn)品，擁有一支由經(jīng)驗豐富的銷售人員和技術(shù)人員組成的團隊，著重為各高校，研究所等單位提供完整的實驗室科研儀器設(shè)備。 

 公司倡導(dǎo)以客戶為中心的專家式營銷模式，關(guān)注產(chǎn)品和服務(wù)的每一個細節(jié)，吸引了一批中青年專業(yè)人才，組成了充滿活力的技術(shù)開發(fā)和經(jīng)營管理隊伍，通過與大量用戶的良好互動，穩(wěn)步建立起完善的市場網(wǎng)絡(luò)和銷售服務(wù)平臺。為進一步提升產(chǎn)品品質(zhì)，公司組織專門人員建立企業(yè)標準，由上海市技術(shù)監(jiān)督局備案，保證產(chǎn)品更具卓越的品質(zhì)和優(yōu)異的穩(wěn)定性。 
 公司秉承 合作、服務(wù)、創(chuàng)新 的經(jīng)營宗旨和服務(wù)理念，決心為客戶提供無微不致的關(guān)懷，為中國科技教學(xué)實踐、材料測試、生物醫(yī)學(xué)研究、微納機電系統(tǒng)研發(fā)等領(lǐng)域提供先進的解決方案與咨詢服務(wù)。

各種光學(xué)顯微鏡,顯微鏡、勻膠機、等離子清洗機、干燥箱、探針式臺階儀輪廓儀,防震平臺,全光纖測試系統(tǒng),凝固點測試儀,金屬相圖儀,電鏡耗材

 X射線透射顯微成像/能譜（同步輻射）用氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品概述：X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線（如真空紫外線）的zui大透射率。主要用于同步輻射X射線透射顯微成像時承載樣品。 X-射線越軟（能量越低），穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在 離軸 狀態(tài)工作（即薄膜與光束成一定角度）時，也需要較薄的薄膜窗口，便于X射線更好地穿透。氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成，由于此種氮化硅窗口選用低應(yīng)力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比計量式和ST氮化硅薄膜更堅固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域，例如，X-射線（上海光源透射成像/能譜線站）、TEM、SEM、IR、UV等。現(xiàn)在提供X-射線顯微成像/能譜（同步輻射）用氮化硅薄膜窗系列產(chǎn)品，規(guī)格如下：
外框尺寸 （4種標準規(guī)格）: 5 mm x 5 mm （窗口尺寸：1.0 mm或和 1.5 mm 方形） 7.5 mm x 7.5 mm （窗口尺寸：2.0 mm或 2.5 mm） 10 mm x 10 mm （窗口尺寸：3.0 mm或 5 mm 方形）邊框厚度： 200 m、381 m、525 m。 
Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm我們也可以為用戶定制產(chǎn)品（30-500nm），但要100片起訂。本產(chǎn)品為一次性產(chǎn)品，不建議用戶重復(fù)使用，本產(chǎn)品不能進行超聲清洗，適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。 技術(shù)指標：透光度：
對于X射線用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，對于軟X射線（例如碳邊吸收譜），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶*。真空適用性：真空適用性數(shù)據(jù)如下：

薄膜厚度 窗口面積 壓力差 50 nm 1.0 x 1.0 mm 1 atm 100 nm 1.5 x 1.5 mm 1 atm 200 nm 2.5 x 2.5 mm 1 atm
表面平整度：氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品的表面平整性很穩(wěn)定（粗糙度小于1nm），對于X射線應(yīng)用沒有任何影響。 溫度特性：氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品是耐高溫產(chǎn)品，能夠承受1000度高溫，非常適合在其表面利用CVD方法生長各種納米材料。 化學(xué)特性：氮化硅薄膜窗口是惰性襯底。 應(yīng)用簡介和優(yōu)點：1、同步輻射X射線（紫外或極紫外）透射成像或透射能譜應(yīng)用中是不可或缺的樣品承載體。2、耐高溫、惰性襯底，適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境，利于制備理想的用于X射線表征用的自組裝單層薄膜或薄膜（薄膜直接沉積在窗口上）。3、生物和濕細胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。4、耐高溫、惰性襯底，也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。5、適合做為膠體、氣凝膠、有機材料和納米顆粒等的表征實驗承載體。同步輻射X射線應(yīng)用參考文獻：PRL