1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 30 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源 (離子槍) 中國(guó)總代理.

霍爾離子源 Gridless 提供高電流低能量 end-Hall 系列產(chǎn)品,包含寬束霍爾離子源和電源控制器,整體設(shè)計(jì),易于系統(tǒng)集成, 霍爾離子源典型應(yīng)用：輔助鍍膜 IABD,鍍膜預(yù)清潔 ISSP,離子蝕刻等