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光學(xué)儀器游戲平臺的理論、分類法及限量

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2021-01-25  來源:儀器網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):90
核心提示:光學(xué)平臺是一種隔除振動的工作平面,它利用自身的隔振效果和固有頻率等特點(diǎn),能有效避開環(huán)境振動所產(chǎn)生的共振現(xiàn)象,控制振幅放大,減少振動傳遞率,消除環(huán)境振動對加工精度的影響。光學(xué)平臺廣泛應(yīng)用于光學(xué)測試、激光掃描、激光干涉和光學(xué)制造等科研和教學(xué)領(lǐng)

光學(xué)平臺是一種隔除振動的工作平面,它利用自身的隔振效果和固有頻率等特點(diǎn),能有效避開環(huán)境振動所產(chǎn)生的共振現(xiàn)象,控制振幅放大,減少振動傳遞率,消除環(huán)境振動對加工精度的影響。光學(xué)平臺廣泛應(yīng)用于光學(xué)測試、激光掃描、激光干涉和光學(xué)制造等科研和教學(xué)領(lǐng)域中,適用于全息技術(shù)、光譜實驗技術(shù)、精密檢測技術(shù)、現(xiàn)代光學(xué)、激光技術(shù)、集成電子學(xué)、醫(yī)療生物及光纖等工程領(lǐng)域。 光學(xué)平臺的選購指南

光學(xué)平臺,又稱光學(xué)面包板、光學(xué)桌面、科學(xué)桌面、實驗平臺,供水平、穩(wěn)定的臺面,一般平臺都需要進(jìn)行隔振等措施,保證其不受外界因素干擾,使科學(xué)實驗正常進(jìn)行。光學(xué)平...[查看全部] 光學(xué)平臺的原理|結(jié)構(gòu)

光學(xué)平臺Z主要的一個目標(biāo)是消除平臺上任意兩個以上部件之間的相對位移。大多數(shù)光學(xué)實驗都對系統(tǒng)穩(wěn)定性有較高的要求。各種因素造成的振動會導(dǎo)致儀器測量結(jié)果的不穩(wěn)定性和不準(zhǔn)確性,所以光學(xué)平臺顯得十分重要。光學(xué)平臺隔振原理

振動的來源

振動來源主要分為來自系統(tǒng)之外的振動和系統(tǒng)內(nèi)部的振動。地面固有振動,工作人員踩踏地板以及開、關(guān)門或墻壁碰撞等通過地面?zhèn)鱽淼恼駝泳鶎傧到y(tǒng)之外的振動,這一類振動需通過光學(xué)平臺的隔振腿衰減;而來自系統(tǒng)內(nèi)部的振動包括儀器振動、氣流、冷卻水流等,則需依靠光學(xué)平臺的桌面阻尼來隔絕。

振動基本原理

固有頻率:

固有頻率,顧名思義,為系統(tǒng)本身發(fā)生的振動的頻率。數(shù)值上來看,固有頻率等于共振頻率??紤]物塊與彈性懸臂梁組成的系統(tǒng),固有頻率取決于兩個因素——物塊質(zhì)量,以及充當(dāng)彈簧的彈性懸臂梁的彈性系數(shù)。質(zhì)量減小或彈性系數(shù)減小可增大固有頻率;質(zhì)量增大或懸臂梁彈性系數(shù)增大可降低固有頻率。

實驗室或廠房內(nèi)可能存在的振動源,包括地表的振動(固有頻率10-20Hz),大型建筑的振動(1Hz左右),聲音(20Hz以上),儀器設(shè)備(10Hz以上)。用戶應(yīng)當(dāng)根據(jù)自身情況,選擇合適的光學(xué)平臺以對振動有效隔絕。

阻尼:

如果沒有阻尼,系統(tǒng)將在靜止前振動很長一段時間——至少幾秒鐘。阻尼可消耗系統(tǒng)的機(jī)械能,使衰減更迅速。例如,當(dāng)音叉頂端浸入水中時,振動幾乎立即減弱。同樣,當(dāng)手指輕觸共振物塊——懸臂梁系統(tǒng)時,該阻尼裝置也會迅速的消耗振動能量。

光學(xué)平臺隔振原理

光學(xué)平臺系統(tǒng)包括光學(xué)臺面和隔振腿。光學(xué)平臺可放置儀器并對振動進(jìn)行控制。光學(xué)平臺臺面是隔振系統(tǒng)中重要的一部分,其主要作用是提供一個無相對形變的剛性平臺,當(dāng)有振動源傳遞到桌面時,桌面蜂窩結(jié)構(gòu)和阻尼可有效減弱光學(xué)平臺振動變形。

光學(xué)平臺隔振腿除了支撐,主要作用是隔離來自地面的振動,隔振性能是其Z重要指標(biāo)之一。其他性能還包括:各腿... 查看全文 與光學(xué)平臺的原理|結(jié)構(gòu)相關(guān)文章 光學(xué)平臺的原理|結(jié)構(gòu) 光學(xué)平臺的分類|測試方法

光學(xué)平臺廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、精密機(jī)械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領(lǐng)域,以及其他機(jī)械行業(yè)的精密試驗儀器、設(shè)備振動隔離的關(guān)鍵裝置中。光學(xué)平臺系統(tǒng)由光學(xué)實驗平臺(平臺工作臺)、多維調(diào)整架、光源、光學(xué)元件組成。光學(xué)平臺的分類

目前市場所研制的光學(xué)平臺產(chǎn)品如下:

①精密光學(xué)平臺;②精密隔振平臺;③光學(xué)教學(xué)平臺;④自動平衡精密隔振平臺;⑤高阻尼隔振電生理平臺;⑥大理石隔振平臺;⑦電動位移臺;⑧超低固有頻率自動平衡精密隔振平臺;⑨伺服式主動隔振精密平臺。

精密光學(xué)平臺和精密隔振平臺為普通性產(chǎn)品。生產(chǎn)設(shè)計成本較低,具有典型的原理針對性。適合各大專院校作為教學(xué)實驗設(shè)備使用。主要面對高校的教育市場。國內(nèi)各個光學(xué)生產(chǎn)上等有類似的產(chǎn)品投放高校市場。并憑借價格優(yōu)勢占據(jù)著大多數(shù)的高教市場。

高阻尼隔振電生理平臺也可很好地用于高分辨率基及高倍顯微鏡定位操作來滿足任何環(huán)境下的實驗活動。

超低同有頻率自動平衡隔振平臺是在精密檢測和加工過程中用于消除環(huán)境振動對加工精度和測試影響的Zxin產(chǎn)品。首chuang自定心準(zhǔn)無摩擦球頭擺桿技術(shù),有效降低了系統(tǒng)垂直和水平方向的固有頻率。光學(xué)平臺測試方法

優(yōu)質(zhì)的光學(xué)平臺不僅需要高精度的機(jī)器設(shè)備來加工,更需要有高科技精度的檢測手段與檢測儀器來保證,也只有優(yōu)質(zhì)的光學(xué)平臺才能保證高精度的科學(xué)實驗、科學(xué)研究的正常進(jìn)行。

光學(xué)平臺阻尼測試:

光學(xué)平臺Z重要的特性為其共振頻率。共振頻率和振幅是負(fù)相關(guān)的,因此共振頻率應(yīng)盡可能地增大,從而將振動強(qiáng)度Z小化。平臺和面包板會在一個特定的頻率范圍內(nèi)發(fā)生振動。為了改善性能,每種尺寸的平臺和面包板的阻尼效果都需要進(jìn)行優(yōu)化。

光學(xué)平臺阻尼需要進(jìn)行各種測試,對其厚度/面積的比值進(jìn)行優(yōu)化。大面積的光學(xué)平臺(邊長至少為10英尺或3米)具有厚度為12.2英寸(310毫米)的標(biāo)準(zhǔn)厚度,這樣可以提高穩(wěn)定性。對于小面積的... 查看全文 與光學(xué)平臺的分類|測試方法相關(guān)文章 光學(xué)平臺的分類|測試方法 光學(xué)平臺的選購指南

光學(xué)平臺,又稱光學(xué)面包板、光學(xué)桌面、科學(xué)桌面、實驗平臺,供水平、穩(wěn)定的臺面,一般平臺都需要進(jìn)行隔振等措施,保證其不受外界因素干擾,使科學(xué)實驗正常進(jìn)行。光學(xué)平臺的選購指標(biāo)

為了提高光學(xué)平臺使用者對產(chǎn)品質(zhì)量優(yōu)劣的鑒別能力,購買光學(xué)平臺的注意事項以及各項指標(biāo)的意義和檢測方法。

1、外觀

光學(xué)平臺外觀應(yīng)美觀,各部位都應(yīng)無影響安全的銳角及銳邊,更重要的是檢查孔口倒角是否均勻一致(螺孔旋入后應(yīng)垂直平臺面),四邊及其倒角是否平直一致。如果臺面未經(jīng)過機(jī)械加工而是人工打磨出來的孔口倒角是大小不一致的,沿臺面四周邊用目測即可看出臺面倒角處是彎曲的。

2、固有頻率(≤2Hz)

固有頻率也稱自然頻率、自振頻率,只有在環(huán)境擾動力頻率(f)與光學(xué)平臺的固有頻率(fo)的比值f/fo>√2時系統(tǒng)才有隔振作用。所以光學(xué)平臺的固有頻率越低,隔振效果效果就越好。

該指標(biāo)的檢測一般采用振動頻譜分析儀及便攜式振動分析儀來進(jìn)行多點(diǎn)測量,如供應(yīng)商不具備儀器測量,也可用以下方法:用手用力壓下(或側(cè)推)平臺,然后迅速松開,讓其大幅度上下振動(或左右、前后擺動)起來,如一秒鐘內(nèi)往復(fù)一次即為1Hz,二次即為2Hz,依此類推。須可粗略測得光學(xué)平臺的固有頻率。

3、平面度(≤0.05mm/m2)

該指標(biāo)越小即表明臺面越平整,調(diào)整光路就越容易。一般出廠要求平面度小于0.05mm/m2,檢測方法一般有:光電自準(zhǔn)直儀法、光學(xué)平面度檢查儀檢測法、水平儀檢測法、激光平面度檢測儀等等。對安裝在實驗室的光學(xué)平臺平面度一般采用光電直準(zhǔn)儀和光學(xué)平直度檢查儀檢測,經(jīng)計算后得出。

4、表面密迪紋理及粗糙度(Ra≤0.8μm)

該指標(biāo)的意義在于保證光學(xué)平臺有一個光滑但無反射的工作表面。良好的表面粗糙度有利對實驗儀器的保護(hù),光學(xué)平臺出廠要求一般在Ra≤0.8μm以下,粗糙度完成可采用對比樣板目測和粗糙度儀檢測,如果是現(xiàn)場檢測可采用... 查看全文 與光學(xué)平臺的選購指南相關(guān)文章 光學(xué)平臺的選購指南

 
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