OAI INSTRUMENTS是業(yè)內(nèi)生產(chǎn)可靠并精密設(shè)備的MEMS，半導(dǎo)體，納米技術(shù)，潔凈室自動(dòng)化和紫外線光測量的優(yōu)秀制造商。OAI系統(tǒng)可同時(shí)用于研發(fā)和生產(chǎn)半導(dǎo)體，MEMS和微流體裝置。從光罩對準(zhǔn)和UV光源UV電力儀表，OAI是在同行業(yè)中的領(lǐng)先者超過35年。OAI光功率計(jì)以其測量精度，重復(fù)性著稱，測量數(shù)據(jù)符合美國NIST標(biāo)準(zhǔn)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻能量測量及控制。OAI INSTRUMENTS光刻機(jī)

OAI INSTRUMENTS光刻機(jī)產(chǎn)品范圍：

美國OAI INSTRUMENTS曝光機(jī)、OAI INSTRUMENTS光刻機(jī)、OAI INSTRUMENTS光源、OAI INSTRUMENTS、OAI INSTRUMENTS光功率計(jì)、OAI INSTRUMENTS分析儀

主要型號：

Model 306、Model 308、Model 311、Model 316、Model 317、Model 356、Model 357、Model 358、Model 457、Model 458、Model 459

美國OAI INSTRUMENTS Model 800半自動(dòng)光刻機(jī)簡介：

光刻方式：接近式，軟，硬，真空接觸式

曝光距離：0-3000 m

間隙調(diào)節(jié)步進(jìn)：1um

機(jī)械精度：1.5um

光刻精度：軟接觸2um,硬接觸小于1um

美國OAI INSTRUMENTS Model 6000全自動(dòng)光刻機(jī)技術(shù)規(guī)格：

光刻方式：接近式，軟，硬，真空接觸式

基底尺寸：2-12寸晶圓或者最大200mm方形

曝光分辨率：

真空接觸:0.5-0.8um

硬接觸:0.8-1.0um

軟接觸:1.0-3.0um

接近式(20um 間隙):3.0um

曝光均勻性：優(yōu)于 3%

對準(zhǔn)精度：頂面0.5um，底面1.0um（選件）

產(chǎn)量：180片/小時(shí)最大

天津賽力斯自動(dòng)化科技有限公司是一家集研發(fā)、工程、銷售、技術(shù)服務(wù)于一體的現(xiàn)代化企業(yè)，是國內(nèi)自動(dòng)化領(lǐng)域競爭力的設(shè)備供應(yīng)商。公司主要經(jīng)營歐美和日韓 等發(fā)達(dá)國家的機(jī)電一體化設(shè)備、高精度分析檢測儀器、環(huán)境與新能源工業(yè)設(shè)備及電動(dòng)工具等工控自動(dòng)化產(chǎn)品。 憑借專業(yè)的技術(shù)與商務(wù)團(tuán)隊(duì)， 公司在為客戶帶來優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品的同時(shí)還可提供自動(dòng)化工程技術(shù)服務(wù)及成套解決方案。