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Couloscope CMS2電解法鍍層測(cè)厚儀_Couloscope CMS2測(cè)厚儀-篤摯儀器(上海)有限公司

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2019-09-02  來(lái)源:儀器信息網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):341
核心提示:Couloscope CMS2電解法鍍層測(cè)厚儀 在電鍍行業(yè)中,對(duì)多層鎳鍍層中各自層的同時(shí)的厚度和電極電位的測(cè)定變成了一個(gè)越來(lái)越重要的需求。的多鍍層組成為不含硫的半光亮鎳層和含硫的光亮鎳層。這兩個(gè)鎳層?reg;間足夠的電位差導(dǎo)致了光亮鎳層優(yōu)先腐蝕于半光亮鎳層。這種次序也就延遲了整個(gè)鎳層的穿透速度,并且給了基材相對(duì)于單鍍層更好的防腐保護(hù)。 Couloscope CMS2電解法鍍層測(cè)厚儀電位差測(cè)試方法 1、低壓電壓的測(cè)量 在低壓線路中,欲測(cè)某兩點(diǎn)間的電壓,只要把電壓表的兩端直接接到被測(cè)的兩點(diǎn)即可。這種方法叫并聯(lián)
Couloscope CMS2電解法鍍層測(cè)厚儀
在電鍍行業(yè)中,對(duì)多層鎳鍍層中各自層的同時(shí)的厚度和電極電位的測(cè)定變成了一個(gè)越來(lái)越重要的需求。的多鍍層組成為不含硫的半光亮鎳層和含硫的光亮鎳層。這兩個(gè)鎳層?reg;間足夠的電位差導(dǎo)致了光亮鎳層優(yōu)先腐蝕于半光亮鎳層。這種次序也就延遲了整個(gè)鎳層的穿透速度,并且給了基材相對(duì)于單鍍層更好的防腐保護(hù)。

Couloscope CMS2電解法鍍層測(cè)厚儀

 

電位差測(cè)試方法

1、低壓電壓的測(cè)量

在低壓線路中,欲測(cè)某兩點(diǎn)間的電壓,只要把電壓表的兩端直接接到被測(cè)的兩點(diǎn)即可。這種方法叫并聯(lián)法。即電壓表是并聯(lián)在線路中。如下圖所示。

測(cè)量時(shí)應(yīng)注意的事項(xiàng):

首先要估計(jì)被測(cè)電壓值的范圍,選好檔位,以免損壞儀表。一般以被測(cè)量處于zui大量程的2/3左右處較為準(zhǔn)確。測(cè)量直流電壓應(yīng)注意極性。

測(cè)量電壓是帶電進(jìn)行的,因此要注意安全。

 

Couloscope CMS2

COULOSCOPE CMS電解多鍍層庫(kù)侖法測(cè)厚儀可用于測(cè)量:
Au、Cd、Cr、Pd、Ni、Sn、Zn、Pb、Pb60Sn40、Brass 等金屬

COULOSCOPE CMS可以通過(guò)定位于電位-時(shí)間表中相關(guān)部分的雙指針來(lái)方便地測(cè)出鍍層厚度和電位差。這個(gè)圖表能夠外部保存或通過(guò)RS232轉(zhuǎn)換到PC電腦中。


基材可為 Cu and Cu-Alloy、Al and Al-Alloy、Zn and Zn-Alloy、Ni、Fe、非金屬材料等
COULOSCOPE CMS基本配置:
儀器:  Couloscope CMS
測(cè)量臺(tái):  V24、V26、V18 等
電解液:  F1 ~ F22

 

Couloscope CMS2電解法鍍層測(cè)厚儀
COULOSCOPE CMS特征:
標(biāo)準(zhǔn):DIN EN ISO 2177 ; ASTM B504
大屏幕點(diǎn)陣液晶顯示屏,可顯示文字與圖形:126 * 70 mm 
可設(shè)置和儲(chǔ)存:50個(gè)應(yīng)用程式、600個(gè)數(shù)據(jù)組;3 000個(gè)數(shù)據(jù)
統(tǒng)計(jì):平均值、zui大值、zui小值、標(biāo)準(zhǔn)偏差、測(cè)量次數(shù)、Cp、Cpk 和直方圖
使用多層菜單和軟鍵,使操作更方便
RS232 接口可通過(guò)電纜和傳輸軟件將數(shù)據(jù)傳到 PC
模擬輸出: 0 ~ -18V
輸入阻抗: > 2 K
工作溫度: 10 ℃ ~ 40 ℃
儀器重量: 6 kg 
電源: AC 220 V ,50-60 Hz;zui大功耗 85 VA
尺寸: 350W * 140H * 200D  mm
COULOSCOPE CMS STEP 雙層鎳鍍層測(cè)量版本
Couloscope CMS2 STEP 電解測(cè)厚儀
4種不同類型的測(cè)量臺(tái)適合于測(cè)量各種種類的被測(cè)物體。

 
 
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