韻翔光電 是一家專注于光譜科技和應(yīng)用開發(fā)的高新技術(shù)企業(yè)，提供紫外，可見，近紅外到中紅外范圍的產(chǎn)品，包括光譜應(yīng)用系統(tǒng)，光譜儀，光源，光纖，積分球，光學(xué)元件，光學(xué)機(jī)械，二次應(yīng)用開發(fā)等產(chǎn)品和服務(wù)。為科研院所和企業(yè)客戶提供專業(yè)的應(yīng)用咨詢服務(wù)和產(chǎn)品解決方案。韻翔光電專業(yè)代理美國(guó)Edmundoptics，美國(guó)Thorlabs，德國(guó)Layertec,美國(guó)Inphotonics，美國(guó)FJW，美國(guó)Ocean Optics等品牌的產(chǎn)品，能夠?yàn)榭蛻籼峁I(yè)的產(chǎn)品銷售服務(wù)和售后技術(shù)支持，提供設(shè)計(jì)開發(fā)解決方案。

可見光和近紅外光譜范圍的光學(xué)鍍膜

氧化物和氟化鎂是這個(gè)范圍內(nèi)光學(xué)涂層的材料。它們形成致密，耐用的薄膜，能抵抗機(jī)械和氣候的影響，具有極低的吸收率和低散射。因此，該光譜范圍的涂層顯示出高的操作性和抗輻射性。離子輔助的使用給所得結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性帶來額外的益處。

我們的涂層不限于一套標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)。相反，我們盡力滿足客戶的要求。請(qǐng)，我們將盡zui大努力解決您的問題。

1.防反射涂層

2.電介質(zhì)鏡

3.分光鏡涂層

1.防反射（AR）涂層

1.1。 MgF2四分之一波長(zhǎng)增透膜

zui簡(jiǎn)單的干涉抗反射涂層似乎由單層氟化鎂（MgF2）組成。由于MgF2薄膜具有非常低的折射率（在550納米大約為1.38），在任何光學(xué)玻璃上沉積四分之一波長(zhǎng)薄膜可以顯著減少殘余反射。所以，K8（折射率1.52） - 從4.1％到1.2％。在高折射率玻璃和藍(lán)寶石上，這種薄膜的效果甚至更高，在未涂布產(chǎn)品反射7-9％時(shí)，中心波長(zhǎng)處的反射降低到0.5％以下。在中心波長(zhǎng)的左側(cè)和右側(cè)，反射逐漸增大，保留在整個(gè)光譜中低于沒有覆蓋的細(xì)節(jié)的反射。所以550納米中心的薄膜在整個(gè)可見光范圍內(nèi)提供了可接受的清晰度。對(duì)于K8玻璃，對(duì)于高折射率玻璃，400-800nm的積分反射損耗在每個(gè)表面上減少約兩倍，減少了10倍。

這種涂層的一個(gè)重要優(yōu)勢(shì)是其機(jī)械和化學(xué)耐受性zui高。

圖1.1。裸K8和藍(lán)寶石表面對(duì)MgF2涂層的反射比較。

1.2。特定波長(zhǎng)的V型增透膜

名稱 V型 來自殘余反射曲線的V形形式（與MgF2膜相反，當(dāng)反射曲線看起來像非常平坦的 U 時(shí)）。 V型增透膜通常由兩個(gè)不同厚度的高折射率和低折射率的氧化物層組成。改變層的厚度和折射率，可以在給定的波長(zhǎng)下實(shí)現(xiàn)極低的損耗。通常，這種涂層是為激光發(fā)生生產(chǎn)線設(shè)計(jì)的。該設(shè)計(jì)針對(duì)光的入射角度進(jìn)行了優(yōu)化。

V涂層的每個(gè)表面的殘留反射的標(biāo)準(zhǔn)值小于0.25％。在特殊要求下，達(dá)到 0.15％的值也是可能的。

不同于MgF2的單層清除，這種結(jié)構(gòu)可以被優(yōu)化以在幾乎所有品牌和大多數(shù)晶體的玻璃上產(chǎn)生這種反射。

圖1.2.A. 具有V型抗反射涂層的K8部件在633nm的垂直入射角下的剩余反射率。

圖1.2.B 具有垂直入射角為1064nm的V型抗反射涂層的K8部件的剩余反射率。

圖1.2.C. 具有V型抗反射涂層的K8部件在1550nm的垂直入射角下的剩余反射率。

但是，應(yīng)該記住，在狹窄的操作范圍之外，來自該結(jié)構(gòu)的反射將比來自未涂覆的表面更高。

圖1.2.D. 帶有V型抗反射涂層的元件的反射與裸K8的反射相比較。 入射角30 ，偏振（s + p）/ 2。

1.3。 雙波段W型增透膜

當(dāng)光學(xué)元件必須在兩個(gè)不同的波長(zhǎng)下提供非常高的透射率時(shí)，需要雙向AR多層涂層。 例如，當(dāng)需要確保激光產(chǎn)生的基波波長(zhǎng)和二次諧波通過光學(xué)元件時(shí)。 在這種涂層的殘余反射光譜中存在兩個(gè) 下降 ，使其看起來像字母W，這個(gè)名稱給這個(gè)涂層家族。 在結(jié)構(gòu)上，這些涂層由4層具有不同折射率的三種材料組成。

圖1.3.А. 具有W型AR涂層的K8表面在1064和532nm，入射角為0 時(shí)的剩余反射率。

圖1.3.В. W型AR涂層為532和1064 nm，入射角為0 。

1.4。 寬帶防反射（BBAR）涂層

在寬光譜范圍內(nèi)的低反射通過使用通常由三種或更多種具有不同折射率的材料構(gòu)成的三至六層的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)。

圖1.4.A. 與寬帶AR涂層為400-700納米范圍內(nèi)，入射角的法線夾角的TF-9部分的剩余反射。

圖1.4.B.具有寬帶AR涂層的K8部件的1.2-2 m范圍的殘余反射率，入射角45 ，（s + p）/ 2。

2.高反光涂層

2.1。電介質(zhì)鏡

高反射（鏡面）涂層由足夠數(shù)量的等電介質(zhì)材料層組成。根據(jù)在中心工作波長(zhǎng)和工作入射角獲得所需反射的條件來確定層的厚度和成對(duì)的數(shù)量。反射區(qū)的寬度由所使用的電介質(zhì)的折射率的比率決定，約為工作波長(zhǎng)的10-12％。這樣的反射鏡是為了與激光器一起工作而設(shè)計(jì)的，當(dāng)需要在一個(gè)波長(zhǎng)和高輻射阻抗下進(jìn)行高反射時(shí)。這種結(jié)構(gòu)在工作范圍內(nèi)的反射率超過了99％（金屬的典型值不超過95％），輻射電阻是幾個(gè)焦耳每平方厘米（相對(duì)于金屬0.3J / cm2）。這些涂層通常設(shè)計(jì)為0或45度的入射角，但可以針對(duì)幾乎任何其他角度進(jìn)行優(yōu)化。例如，對(duì)于我們的離軸拋物面反射鏡，電介質(zhì)設(shè)計(jì)針對(duì)等于拋物線的離軸角的一半的工作入射角進(jìn)行優(yōu)化。

圖2.1.A. 高反射介質(zhì)鏡，1064納米，入射角0 。

圖2.1.B 750-850nm范圍的介電鏡，入射角22.5 。 顯示剩余透射。 偏振（S + P）/ 2。

圖2.1.C. 2.1 m波長(zhǎng)的介質(zhì)鏡，入射角為45 ，（s + p）/ 2。

2.2。 雙波段高反射涂層

由于在同一襯底上連續(xù)沉積兩個(gè)介質(zhì)鏡而獲得的設(shè)計(jì)在兩個(gè)波長(zhǎng)處將具有高反射，盡管其抗輻射性將顯著降低。 當(dāng)系統(tǒng)使用兩個(gè)激光器或一個(gè)激光器及其諧波時(shí)，這些反射鏡便于使用。 一個(gè)典型的問題是引導(dǎo)1064nm工作光束和633nm先導(dǎo)成像光束。

圖2.2。 雙波長(zhǎng)高反射鏡。

2.3。 寬帶高反射涂層

在一個(gè)基片上濺射兩個(gè)以兩個(gè)近距離波長(zhǎng)為中心的電介質(zhì)反射鏡，可以獲得具有寬而均勻的反射光譜的產(chǎn)品。 這些涂層需要使用可調(diào)諧激光器（例如Ti：Sa），特別是在高入射角下，以及在廣泛的工作角度下提供高反射的產(chǎn)品。

圖2.3。 700-900nm范圍的高反射 雙 鏡，入射角45 ，（s + p）/ 2。

還顯示了正常入射時(shí)相同鏡面的光譜。

金屬和金屬電介質(zhì)寬帶高反射涂層也被使用。

寬帶高反射涂層也可以是金屬，金屬電介質(zhì)。

3.分光鏡涂層

3.1。 冷/熱 鏡和截止濾光片

除了主反射區(qū)之外，經(jīng)典的介質(zhì)鏡在工作波長(zhǎng)的左側(cè)和右側(cè)具有側(cè)面zui大值。

圖3.1.А. 電介質(zhì)鏡和反射側(cè)峰

通過改變 經(jīng)典 分組的某些層，我們可以在不改變工作頻譜區(qū)域中的反射的情況下重新分配這些邊的zui大值，在短波或長(zhǎng)波區(qū)域抑制它們。 這樣，可以在主反射鏡區(qū)域的左側(cè)或右側(cè)的區(qū)域中提供足夠高的透射率。 根據(jù)抑制側(cè)峰的一側(cè)，這些結(jié)構(gòu)被稱為冷鏡或熱鏡。 熱 鏡反射紅外輻射，讓可見。 這種鏡片被用在投影系統(tǒng)中以降低熱負(fù)荷。

圖3.1.В. 一個(gè) 冷 鏡子。 反射范圍1.15-1.35 m，S-pol，透射率范圍1.5-2.5 m，P-pol。 在KI石英基片上，入射角為45

可以使用相同的構(gòu)造來創(chuàng)建截止濾波器并保護(hù)光檢測(cè)器免受不必要的輻射。

圖3.1.С. 截止濾波器。 3.25-3.75 m范圍內(nèi)的透射率超過85％（AR涂層的第二面）。 透射率小于2.5微米下的0.1％。 鍺基板。 提供一系列裸鍺用于比較。

3.2。 分光和合并設(shè)計(jì)

它們類似于 冷/熱 鏡，并允許減少不同波長(zhǎng)的激光束。

3.3。 偏振分光器

在非零入射角處，S偏振光比P偏振光反射得更有效。 此外，P偏振光的高反射區(qū)比S偏振光窄得多。 這種效應(yīng)允許產(chǎn)生強(qiáng)烈反射S偏振和透射P偏振輻射的反射鏡。

圖3.3。 偏振分束器。 在2.05 m的高反射，s-pol，在2.2 m的高透射率，p-pol。 入射角50

3.4。 激光輸出鏡

需要噴射足夠數(shù)量的具有高折射率和低折射率的膜對(duì)來獲得電介質(zhì)全反射器。 對(duì)數(shù)越少，反射越低，但是一部分光會(huì)通過反射鏡。 這些設(shè)計(jì)幾乎不吸收光線，散射損失zui小。 選擇對(duì)的數(shù)量，以及zui后一層的厚度和材料，幾乎可以實(shí)現(xiàn)任何透射和反射的比率。 這些設(shè)計(jì)非常適合作為激光腔中的輸出鏡，從諧振腔中消除zui大可能的功率，并支持駐波。

圖3.4。 光束分裂涂層R =（50 1）％1064 nm，入射角0

3.5。 寬帶半反射（分束）涂層

用于寬帶應(yīng)用的部分反射涂層以相同的方式制成。 一個(gè)典型的應(yīng)用是一個(gè)光束分割器，將部分光線從物體導(dǎo)向目鏡，其余的能量導(dǎo)向光電探測(cè)器。 另一個(gè)例子是白光干涉儀中的能量分配器。

圖3.5。 1.5-3.5 m范圍（s + p）/2,45 AOI的光束分裂涂層。 KI石英基板

3.6。 太赫茲分離器

電介質(zhì)反射鏡可用于解決從鈦藍(lán)寶石泵浦激光器分離產(chǎn)生的THz輻射和殘余輻射的問題。 這個(gè)反射鏡應(yīng)該由太赫茲范圍內(nèi)的透明材料（通常是硅或水晶石英）組成，這些透明材料在太赫茲范圍內(nèi)。 在THz光譜分離器部分閱讀更多信息。