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磁控濺射靶材-91化工儀器網(wǎng)

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2019-09-02  來源:儀器信息網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):619
核心提示:廣州競贏有限公司是一家綜合性的商貿(mào)企業(yè),集實(shí)驗(yàn)室設(shè)備經(jīng)銷、實(shí)驗(yàn)室組建策劃于一體。公司經(jīng)營的商品主要包括:Ted Pella公司微波快速組織處理系統(tǒng)及電鏡耗材、DOSAKA切片機(jī)、CRESSINGTON鍍膜儀、英國Aquila NKD薄膜分析系統(tǒng)、法國CAD混凝土流變儀、英國MILLBROOK公司 MiniSIMS二次離子質(zhì)譜儀、美國NEOCERA公司 PLD/PED沉積系統(tǒng)等生化儀器,檢測儀器、環(huán)保儀器、化學(xué)試劑、實(shí)驗(yàn)室耗材等。目前,競贏公司與國內(nèi)外數(shù)百家實(shí)驗(yàn)儀器生產(chǎn)廠家有著良好的業(yè)務(wù)聯(lián)系和協(xié)作關(guān)系,客戶

廣州競贏有限公司是一家綜合性的商貿(mào)企業(yè),集實(shí)驗(yàn)室設(shè)備經(jīng)銷、實(shí)驗(yàn)室組建策劃于一體。公司經(jīng)營的商品主要包括:Ted Pella公司微波快速組織處理系統(tǒng)及電鏡耗材、DOSAKA切片機(jī)、CRESSINGTON鍍膜儀、英國Aquila NKD薄膜分析系統(tǒng)、法國CAD混凝土流變儀、英國MILLBROOK公司 MiniSIMS二次離子質(zhì)譜儀、美國NEOCERA公司 PLD/PED沉積系統(tǒng)等生化儀器,檢測儀器、環(huán)保儀器、化學(xué)試劑、實(shí)驗(yàn)室耗材等。目前,競贏公司與國內(nèi)外數(shù)百家實(shí)驗(yàn)儀器生產(chǎn)廠家有著良好的業(yè)務(wù)聯(lián)系和協(xié)作關(guān)系,客戶涉及高校、科研院所、醫(yī)院、企業(yè)、政府部門等多個(gè)領(lǐng)域。競贏員工90%以上擁有學(xué)士、碩士學(xué)位,雄厚的技術(shù)實(shí)力是競贏公司質(zhì)量和服務(wù)的有力保證。 專業(yè)精神、真誠服務(wù) 是競贏化工的服務(wù)宗旨。我們不懈地追求完善的售前、售后服務(wù)以提高客戶滿意度。為了全面提升競贏公司的服務(wù)質(zhì)量,除了不斷引進(jìn)新的產(chǎn)品,近年來我們更著重于從優(yōu)化組織構(gòu)架、培訓(xùn)提升員工服務(wù)意識(shí)等。面對(duì)新的挑戰(zhàn),我們深沉思索、感悟良多, 學(xué)習(xí)成就未來 將指導(dǎo)我們明確方向、激勵(lì)我們追求卓越!


高純度的金屬濺射靶材適用于多種品牌的離子濺射儀: 包括PELCO , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.?這些磁控濺射靶材的直徑分為60,57,54,50和19mm。

1、高純60mm金屬靶材:適用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500離子濺射儀。

貨號(hào)

產(chǎn)品描述

單位

91217

銅靶, 99.99% Cu ( 60mm x 0.076mm)

91210

金靶, 99.99% Au ( 60mm x 0.1mm)

91212

金鈀合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 ( 60mm x 0.1mm)

91216

鎳靶, 99.98% Ni ( 60mm x 0.1mm)

91214

鉑靶, 99.95% Pt ( 60mm x 0.1mm)

91219

鈀靶, 99.95% Pd ( 60mm x 0.1mm)

91229

銀靶, 99.99% Ag ( 60mm x 0.1mm)

2、高純57mm金屬靶材:適合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super離子濺射儀
 

貨號(hào)

產(chǎn)品描述

單位

8074

鉻靶, 99.95% Cr ( 57mm x 3.2mm) (208HR only)

91117

銅靶, 99.99% Cu ( 57mm x 0.1mm)

8077

銅靶, 99.99% Cu ( 57mm x 0.3mm)

91110

金靶, 99.99% Au ( 57mm x 0.1mm)

8071

金靶, 99.99% Au ( 57mm x 0.2mm)

91112

金鈀合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 ( 57mm x 0.1mm)

91111

金鈀合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 ( 57mm x 0.2mm)

91132-B

銦錫氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 銅片, ( 57mm x 3mm 總厚)(208HR only)

91120

銥靶, 99.95% Ir ( 57mm x 0.3mm) (208HR only)

91124

鐵靶, 99.5% Fe ( 57mm x 0.12mm) (208HR only)

8073

鉬靶, 99.95% Mo ( 57mm x 0.25mm) (208HR only)

91116

鎳靶, 99.98% Ni ( 57mm x 0.1mm) (208HR only)

8079

鈮靶, 99.95% Nb ( 57mm x 0.25mm) (208HR only)

91119

鈀靶, 99.95% Pd ( 57mm x 0.1mm)

91114

鉑靶, 99.95% Pt ( 57mm x 0.1mm)

8076

鉑鈀合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 ( 57mm x 0.1mm)

91115

鉑鈀合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 ( 57mm x 0.2mm)

91118

銀靶, 99.99% Ag ( 57mm x 0.1mm)

91129

銀靶, 99.99% Ag ( 57mm x 0.3mm)

8075

鉭靶, 99.95% Ta ( 57mm x 0.3mm) (208HR only)

91123

鈦靶, 99.6% Ti ( 57mm x 0.2mm) (208HR only)

8078

鎢靶, 99.95% W ( 57mm x 0.25mm) (208HR only)

3、高純54mm金屬靶材,適合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 離子濺射儀。

4、高純50mm金屬靶材,適合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76離子濺射儀。

5、高純38mm金屬靶材,適合于Cressington 308HR離子濺射儀。

6、高純19mm金屬靶材,適合于Gatan Model 681 and 682 PECS 離子束濺射儀

鍍非導(dǎo)電SEM樣品時(shí),如何選擇相應(yīng)靶材:

Gold黃金

優(yōu)良的靶材,廣泛應(yīng)用于標(biāo)準(zhǔn)SEM鍍膜。對(duì)于冷鍍膜離子濺射儀(如Cressington 108auto),對(duì)于熱敏性樣品幾乎不會(huì)產(chǎn)生任何熱量. 在高倍SEM下可看到顆粒尺寸. 

Gold/Palladium金鈀合金

濺射率低于純黃金. 與Au相比,Au/Pd 的顆粒更小,但由于其有兩個(gè)峰,所以不是很適合EDS分析,也不是很適合熱敏性物質(zhì)鍍膜。

Palladium鈀

成本低,可用于中低放大倍數(shù)場合,具有更低的SE信號(hào)

Platinum鉑金

具有比Au 或 Au/Pd更小的濺射顆粒。但濺射率更低。如果有氧氣,則應(yīng)力開裂的敏感性。有更高的SE產(chǎn)出。

Platinum/Palladium鉑鈀合金

顆粒大小與Pt差不多,但應(yīng)力開立的敏感性較小。非常適合FESEM,但更適合高分辨率鍍膜儀208HR.

Silver銀

成本低,可用于中低放大倍數(shù)場合,顆粒比Au大. 適合于小型SEMs。與Au或Pt相比,SE產(chǎn)出更低。. 如果樣品沒有放在真空環(huán)境下,則鍍膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.

Chromium鉻

非常細(xì)的濺射顆粒,適合于 FESEM. 為避免氧化,需用于208HR一樣的高真空鍍膜儀。鍍膜后的樣品只能存放在高真空環(huán)境中. 濺射離子直線下落。適合生物樣品的BE成像,濺射產(chǎn)率低。

Iridium銥

非常細(xì)的濺射顆粒,適合于 FESEM,需用于208HR一樣的高真空鍍膜儀,濺射產(chǎn)率低。

Tungsten鎢

可替代Cr.顆粒非常細(xì),但氧化非??欤瑸R射產(chǎn)率低。  

Nickel鎳

可作為特殊的EDS應(yīng)用, 不適合SE成像.適合BE成像,濺射產(chǎn)率低,鍍膜易氧化。

Copper銅

適用于EDS. 適合中/低放大倍數(shù)場合,BE成像.

Note 1:鋁的濺射產(chǎn)率非常低,對(duì)于SEM離子濺射不適用,且氧化非???。
Note 2:碳zui適合于EDS應(yīng)用,但很難濺射。碳的蒸發(fā)產(chǎn)率非常好。

 

 
關(guān)鍵詞: 適合于 合金 鍍膜 離子 顆粒
 
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