納米微米壓痕劃痕測試儀；近場掃描光學(xué)顯微鏡；接觸角測量儀；表面張力儀；LB膜分析儀；開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量)；表面等離子共振譜儀(SPR)；輪廓儀；摩擦計；(顯微)硬度計；磁控濺射儀；熱蒸發(fā)電子束蒸發(fā)沉積；等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)；原子層沉積系統(tǒng)(ALD)；快速退火爐；霍爾效應(yīng)儀；探針臺；光致發(fā)光掃描儀(PL)；橢偏儀；膜厚儀；氣溶膠發(fā)生器，粒徑譜儀，稀釋器；濾料測試系統(tǒng)；煙霧發(fā)生器；空氣示蹤器；zeta電位分析儀；內(nèi)表面粗糙度測量儀；(氙燈)光反應(yīng)器；太陽模擬器；高壓反應(yīng)釜；

 科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理。科睿公司一貫秉承『誠信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化，為廣大中國用戶提供儀器、設(shè)備，最周到的技術(shù)、服務(wù)和完美的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國，納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領(lǐng)域，都需要與歐美發(fā)達國家完全接軌的儀器設(shè)備平臺來實現(xiàn)?？祁ＴO(shè)備有限公司有幸成長在這個火熱的年代，我們愿意化為一座橋梁，見證中國科技水平的提升，與中國科技共同飛速成長。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國香港，在中國上海設(shè)立了分公司，在國內(nèi)多個城市設(shè)立了辦事處或維修站，旨在為客戶提供全方位的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年，科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心，同時提供在大陸的各項技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù)，我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員，并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件，能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應(yīng)，72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務(wù)！ 
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng)，主要用戶包括：中科院物理所，中科院半導(dǎo)體所，中科院大連化學(xué)物理研究所，國家納米中心，上海納米中心，北京大學(xué)，清華大學(xué)，中國科技大學(xué)，南京大學(xué)，復(fù)旦大學(xué)，上海交通大學(xué)，華東理工大學(xué)，浙江大學(xué)，中山大學(xué)，西安交通大學(xué)，四川大學(xué)，中國工程物理研究院，香港大學(xué)，香港城市大學(xué)，香港中文大學(xué)，香港科技大學(xué)等。

儀器簡介：

全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備制造商，為各個領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案：電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強化學(xué)氣相沉積、離子泵等；


E -Beam Evaporation System
2.高真空統(tǒng)High Vacuum E -Beam Evaporation System
3.超高真空Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System
4.離子輔助蒸發(fā)系統(tǒng)Ion Beam Assisted Evaporation System
5.離子電鍍系統(tǒng)Ion Plating System
6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System
7.在線電子束蒸發(fā)系統(tǒng)In-line E -Beam Evaporation System

技術(shù)參數(shù)：

1.電子束源 電源
      單個或者可自由切換換電子束源：
       --蒸發(fā)室數(shù)量 1 ~ 12(標(biāo)配: 4, 6)
       --坩堝容量：7 ~ 40 cc (最大可達200 cc)
       --標(biāo)準(zhǔn)：25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket)
       --最大：200 cc (156cc for UHV) 可用于長時間的沉積
       --偏轉(zhuǎn)角度：180o, 270o
       --輸出功率：6, 10, 15, 20 kW
       --支持兩個或者三個電子束源在一個系統(tǒng)上
       --可連續(xù)或者同時沉積兩種或三種材料
       --高速率沉積

    2.薄膜沉積控制：
      IC-5 ( or XTC, XTM) 和計算機控制
      --沉積過程參數(shù)可控
      --石英晶體振蕩傳感器
      --光學(xué)檢測系統(tǒng)用于光學(xué)多層薄膜沉積：測量波長范圍350-2000 nm，分辨率1 nm
      --薄膜厚度檢測和處理過程可通過計算機程序控制
      --薄膜厚度檢測和沉積速率可通過計算機程序控制
      --支持大面積沉積
      --支持在線電子束蒸發(fā)沉積
      --基底尺寸：20~100英寸
      --薄膜均勻性 1.0 to 5.0 %
 
    3.真空腔體：
      --圓柱形腔體
      --直徑： 500 ~ 1,500 mm
      --高度：800 ~ 1500 mm
      --方形腔體
      --根據(jù)客戶的需求定制

    4.真空泵和測量裝置：
      --低真空：干泵和convectron真空規(guī)
      --高真空：渦輪分子泵，低溫泵和離子規(guī)
      --超高真空：雙級渦輪分子泵，離子泵和離子規(guī)

    5.控制系統(tǒng)PLC和 觸摸屏計算機：
      --硬件: PLC, 觸摸屏計算機
      --包括模擬和數(shù)字輸入/輸出卡
      --顯示器: LCD
      --自動和手動程序控制
      --程序控制：加載，編輯和保存
      --程序激活控制：
      --泵抽真空，蒸發(fā)沉積，加熱， 旋轉(zhuǎn)等
      --膜厚度檢測和控制多層薄膜沉積
      --系統(tǒng)狀態(tài)，數(shù)據(jù)加載等
      --問題解答和聯(lián)動狀態(tài)

擴展功能：

1、質(zhì)量流量控制器：反應(yīng)和等離子體輔助惰性氣體控制
    2、離子源和控制器：等離子體輔助沉積
    3、射頻電源：基底預(yù)先處理
    4、溫度控制器：基底加熱
    5、熱蒸發(fā)器：1 or 2 boat
    6、蒸鍍源cell：1 or 2 for doping
    7、冷卻器：系統(tǒng)冷卻