納米微米壓痕劃痕測試儀;近場掃描光學(xué)顯微鏡;接觸角測量儀;表面張力儀;LB膜分析儀;開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量);表面等離子共振譜儀(SPR);輪廓儀;摩擦計;(顯微)硬度計;磁控濺射儀;熱蒸發(fā)電子束蒸發(fā)沉積;等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD);原子層沉積系統(tǒng)(ALD);快速退火爐;霍爾效應(yīng)儀;探針臺;光致發(fā)光掃描儀(PL);橢偏儀;膜厚儀;氣溶膠發(fā)生器,粒徑譜儀,稀釋器;濾料測試系統(tǒng);煙霧發(fā)生器;空氣示蹤器;zeta電位分析儀;內(nèi)表面粗糙度測量儀;(氙燈)光反應(yīng)器;太陽模擬器;高壓反應(yīng)釜;
科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理。科睿公司一貫秉承『誠信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國用戶提供儀器、設(shè)備,最周到的技術(shù)、服務(wù)和完美的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國,納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達國家完全接軌的儀器設(shè)備平臺來實現(xiàn)??祁TO(shè)備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,見證中國科技水平的提升,與中國科技共同飛速成長。
科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國香港,在中國上海設(shè)立了分公司,在國內(nèi)多個城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供全方位的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心,同時提供在大陸的各項技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應(yīng),72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務(wù)!
因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,國家納米中心,上海納米中心,北京大學(xué),清華大學(xué),中國科技大學(xué),南京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),浙江大學(xué),中山大學(xué),西安交通大學(xué),四川大學(xué),中國工程物理研究院,香港大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等。
儀器簡介:
全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備制造商,為各個領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案:電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強化學(xué)氣相沉積、離子泵等;
E -Beam Evaporation System
2.高真空統(tǒng)High Vacuum E -Beam Evaporation System
3.超高真空Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System
4.離子輔助蒸發(fā)系統(tǒng)Ion Beam Assisted Evaporation System
5.離子電鍍系統(tǒng)Ion Plating System
6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System
7.在線電子束蒸發(fā)系統(tǒng)In-line E -Beam Evaporation System
技術(shù)參數(shù):
1.電子束源 電源
單個或者可自由切換換電子束源:
--蒸發(fā)室數(shù)量 1 ~ 12(標(biāo)配: 4, 6)
--坩堝容量:7 ~ 40 cc (最大可達200 cc)
--標(biāo)準(zhǔn):25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket)
--最大:200 cc (156cc for UHV) 可用于長時間的沉積
--偏轉(zhuǎn)角度:180o, 270o
--輸出功率:6, 10, 15, 20 kW
--支持兩個或者三個電子束源在一個系統(tǒng)上
--可連續(xù)或者同時沉積兩種或三種材料
--高速率沉積
2.薄膜沉積控制:
IC-5 ( or XTC, XTM) 和計算機控制
--沉積過程參數(shù)可控
--石英晶體振蕩傳感器
--光學(xué)檢測系統(tǒng)用于光學(xué)多層薄膜沉積:測量波長范圍350-2000 nm,分辨率1 nm
--薄膜厚度檢測和處理過程可通過計算機程序控制
--薄膜厚度檢測和沉積速率可通過計算機程序控制
--支持大面積沉積
--支持在線電子束蒸發(fā)沉積
--基底尺寸:20~100英寸
--薄膜均勻性 1.0 to 5.0 %
3.真空腔體:
--圓柱形腔體
--直徑: 500 ~ 1,500 mm
--高度:800 ~ 1500 mm
--方形腔體
--根據(jù)客戶的需求定制
4.真空泵和測量裝置:
--低真空:干泵和convectron真空規(guī)
--高真空:渦輪分子泵,低溫泵和離子規(guī)
--超高真空:雙級渦輪分子泵,離子泵和離子規(guī)
5.控制系統(tǒng)PLC和 觸摸屏計算機:
--硬件: PLC, 觸摸屏計算機
--包括模擬和數(shù)字輸入/輸出卡
--顯示器: LCD
--自動和手動程序控制
--程序控制:加載,編輯和保存
--程序激活控制:
--泵抽真空,蒸發(fā)沉積,加熱, 旋轉(zhuǎn)等
--膜厚度檢測和控制多層薄膜沉積
--系統(tǒng)狀態(tài),數(shù)據(jù)加載等
--問題解答和聯(lián)動狀態(tài)
擴展功能:
1、質(zhì)量流量控制器:反應(yīng)和等離子體輔助惰性氣體控制
2、離子源和控制器:等離子體輔助沉積
3、射頻電源:基底預(yù)先處理
4、溫度控制器:基底加熱
5、熱蒸發(fā)器:1 or 2 boat
6、蒸鍍源cell:1 or 2 for doping
7、冷卻器:系統(tǒng)冷卻