頂立科技|碳碳/碳陶剎車盤制備系列設(shè)備 工藝流程

1、碳纖維預(yù)制體 高溫處理 壓力浸漬 碳化 機械加工 石墨化 陶瓷化 后續(xù)加工
2、碳纖維預(yù)制體 高溫處理 化學氣相沉積 機械加工 石墨化 陶瓷化 后續(xù)加工

頂立科技|碳碳/碳陶剎車盤制備系列設(shè)備 配置選擇

u 爐門：絲杠升降/液壓升降/手動升降；手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊

u 爐殼：全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼/Q345

u 爐膽：軟碳氈/軟石墨氈/硬質(zhì)復(fù)合氈/耐火磚+陶瓷纖維/CFC

u 加熱器：等靜壓石墨/細顆粒石墨/Ni-Cr;Fe-Cr-Nb

u 馬弗：模壓三高石墨/細顆粒石墨/SUS316L

u 工藝氣路系統(tǒng)：體積/質(zhì)量流量計；手動閥/自動閥；進口/國產(chǎn)

u 真空泵和真空計:進口/國產(chǎn)

u PLC：歐姆龍/西門子

u 控溫儀表：島電/歐陸

u 熱電偶：C分度號/S分度號/K分度號/N分度號

u 紅外儀：單比色/雙比色；千野/雷泰

u 人機界面：模擬屏/觸摸屏/工控機

u 電器元件：正泰/施耐德/西門子

u 中頻電源：IGBT/KGPS

產(chǎn)品規(guī)格

 碳碳/碳陶剎車盤制備系列設(shè)備產(chǎn)品規(guī)格

設(shè)備類型

化學氣相沉積爐

真空石墨化爐

參數(shù)型號

VCVD

-0610-C

VCVD

-1120-C

ICVD

-0610-C

ICVD

-1120-C

VIG

-0610-C

VIG

-1120-C

HVG

-131320-C

工作區(qū)尺寸

W H L（mm）

600

1000

1100

2000

600

1000

1100

2000

600

1000

1100

2000

1300 1300

2000

zui高溫度（℃）

1200

1200

1200

1200

2600

2600

2600

溫度均勻性（℃）

5

7.5

15

20

15

20

10

極限真空度（Pa）

60

60

60

60

60

60

60

設(shè)備類型

滲硅爐

真空碳化爐

真空壓力浸漬爐

參數(shù)型號

ISII

-0610

ISII

-1120

VSII

-131320

VVC

I-0608

VVC

-1015

VPI

I-0608

VPI

-1015

工作區(qū)尺寸

W H L（mm）

600

1000

1100

2000

1300 1300

2000

600

800

1000

1500

600

800

1000

1500

zui高溫度（℃）

2000

2000

2000

1000

1000

300

300

溫度均勻性（℃）

7.5

7.5

10

7.5

10

15

15

極限真空度（Pa）

60

60

60

60

60

60

60

zui高壓力(MPa)

/

/

/

/

/

5

5

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進行調(diào)整，不作為驗收依據(jù)，具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準。