頂立科技|碳碳/碳陶剎車盤制備系列設(shè)備 工藝流程
1、碳纖維預(yù)制體 高溫處理 壓力浸漬 碳化 機械加工 石墨化 陶瓷化 后續(xù)加工
2、碳纖維預(yù)制體 高溫處理 化學氣相沉積 機械加工 石墨化 陶瓷化 后續(xù)加工
頂立科技|碳碳/碳陶剎車盤制備系列設(shè)備 配置選擇
u 爐門:絲杠升降/液壓升降/手動升降;手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊
u 爐殼:全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼/Q345
u 爐膽:軟碳氈/軟石墨氈/硬質(zhì)復(fù)合氈/耐火磚+陶瓷纖維/CFC
u 加熱器:等靜壓石墨/細顆粒石墨/Ni-Cr;Fe-Cr-Nb
u 馬弗:模壓三高石墨/細顆粒石墨/SUS316L
u 工藝氣路系統(tǒng):體積/質(zhì)量流量計;手動閥/自動閥;進口/國產(chǎn)
u 真空泵和真空計:進口/國產(chǎn)
u PLC:歐姆龍/西門子
u 控溫儀表:島電/歐陸
u 熱電偶:C分度號/S分度號/K分度號/N分度號
u 紅外儀:單比色/雙比色;千野/雷泰
u 人機界面:模擬屏/觸摸屏/工控機
u 電器元件:正泰/施耐德/西門子
u 中頻電源:IGBT/KGPS
產(chǎn)品規(guī)格
碳碳/碳陶剎車盤制備系列設(shè)備產(chǎn)品規(guī)格
設(shè)備類型
化學氣相沉積爐
真空石墨化爐
參數(shù)型號
VCVD
-0610-C
VCVD
-1120-C
ICVD
-0610-C
ICVD
-1120-C
VIG
-0610-C
VIG
-1120-C
HVG
-131320-C
工作區(qū)尺寸
W H L(mm)
600
1000
1100
2000
600
1000
1100
2000
600
1000
1100
2000
1300 1300
2000
zui高溫度(℃)
1200
1200
1200
1200
2600
2600
2600
溫度均勻性(℃)
5
7.5
15
20
15
20
10
極限真空度(Pa)
60
60
60
60
60
60
60
設(shè)備類型
滲硅爐
真空碳化爐
真空壓力浸漬爐
參數(shù)型號
ISII
-0610
ISII
-1120
VSII
-131320
VVC
I-0608
VVC
-1015
VPI
I-0608
VPI
-1015
工作區(qū)尺寸
W H L(mm)
600
1000
1100
2000
1300 1300
2000
600
800
1000
1500
600
800
1000
1500
zui高溫度(℃)
2000
2000
2000
1000
1000
300
300
溫度均勻性(℃)
7.5
7.5
10
7.5
10
15
15
極限真空度(Pa)
60
60
60
60
60
60
60
zui高壓力(MPa)
/
/
/
/
/
5
5
以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進行調(diào)整,不作為驗收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準。