光刻膠的定義:
 光刻膠(Photoresist簡稱PR)又稱光致抗蝕劑，它是一種對(duì)光敏感的有機(jī)化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。

作用：
 a、將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓表面頂層的光刻膠中；
 b、在后續(xù)工序中，保護(hù)下面的材料（刻蝕或離子注入）。

光刻膠的主要成分

樹脂：光刻膠樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì)，是用來將其它材料聚合在一起的粘合劑。光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的。

感光劑：感光劑是光刻膠的核心部分，它對(duì)光形式的輻射能，特別在紫外區(qū)會(huì)發(fā)生反應(yīng)。曝光時(shí)間、光源所發(fā)射光線的強(qiáng)度都根據(jù)感光劑的特性選擇決定的。

溶劑：光刻膠中容量zui大的成分，感光劑和添加劑都是固態(tài)物質(zhì)，為了方便均勻的涂覆，要將它們加入溶劑進(jìn)行溶解，形成液態(tài)物質(zhì)，且使之具有良好的流動(dòng)性，可以通過旋轉(zhuǎn)方式涂布在wafer表面。

添加劑：用以改變光刻膠的某些特性，如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑。

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