鍍膜材料一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。

鍍膜技術(shù)的發(fā)展可以追溯到18世紀(jì)末，但真空鍍膜技術(shù)是從20世紀(jì)30年代才開始崛起。1930年，由油擴(kuò)散泵和旋片機(jī)械泵組成的真空機(jī)組為真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展推波助瀾。

真空鍍膜發(fā)展初期，由于所用材料種類繁多，用戶分散，用量甚少，所以無法形成鍍膜材料的商品化生產(chǎn)。我國從事鍍膜科研和鍍膜技術(shù)的科技人員也只是根據(jù)自身工作的需要，開發(fā)所用材料，鍍膜材料只是鍍膜科技人員“自留地”上的產(chǎn)物。

20世紀(jì)80年代，國外大型鍍膜企業(yè)進(jìn)入我國。隨著材料用量的增加，國外材料廠商開始在我國尋找合作伙伴或代理經(jīng)銷商，真空鍍膜材料終于在我國活躍起來。21世紀(jì)初，真空鍍膜材料在我國開始大規(guī)模生產(chǎn)，并形成一定規(guī)模的市場。

真空鍍膜材料也被稱為真空鍍膜用“源物質(zhì)”，主要分為兩類：一是真空蒸發(fā)法鍍膜用的源物質(zhì)：蒸發(fā)材料，二是真空濺射法鍍膜用源物質(zhì)：濺射靶材。真空蒸發(fā)法和真空濺射法均屬于物理氣相沉積(PVD)法。與物理氣相沉積方法相應(yīng)的，還有化學(xué)氣相沉積(CVD)法。

真空蒸發(fā)法是在真空條件下，用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料，使之蒸發(fā)或升華進(jìn)入氣相，氣相粒子流直接射向基片并在基片上沉積或結(jié)晶形成固態(tài)薄膜。真空蒸發(fā)鍍膜是發(fā)展較早的鍍膜技術(shù)，其設(shè)備相對簡單，沉積速度高，膜層純度高，應(yīng)用相當(dāng)廣泛。按蒸發(fā)源不同，蒸發(fā)法主要有：電阻加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、電弧蒸發(fā)和激光蒸發(fā)等。

真空濺射法是物理氣相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展，濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展，在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨(dú)到之處，主要濺射方法有：直流濺射、射頻濺射、磁控濺射和反應(yīng)濺射。在濺射裝置內(nèi)配以離子束源以及在襯底上施加偏壓等方法使濺射方法不斷推陳出新，以適應(yīng)對薄膜材料瞬息萬變的需求。

此外，人們又綜合蒸發(fā)法和濺射法兩種方法的優(yōu)缺點(diǎn)，取長補(bǔ)短，發(fā)展出一些新的方法，如離子鍍和離子束輔助沉積等。由于這些方法嫁接兩種方法的優(yōu)點(diǎn)，不能簡單地劃分這類方法的歸屬，但他們?nèi)匀粚儆谖锢須庀喑练e方法。

1、機(jī)械加工

機(jī)械加工是利用已有的原材料，通過破碎、切割、球磨等機(jī)械加工獲得所需形狀的蒸發(fā)鍍膜材料。如SiO2破碎顆粒、切割圓柱形顆粒、圓片、石英珠、石英環(huán)，Al2O3晶體顆粒等。

2、燒結(jié)

燒結(jié)主要包括大氣內(nèi)燒結(jié)和真空燒結(jié)。從原料粉末出發(fā)，通過混合、造粒、制片后在空氣燒結(jié)爐或真空燒結(jié)爐中燒結(jié)，制成燒結(jié)顆粒、小片等蒸發(fā)鍍膜材料。大部分氧化物蒸發(fā)鍍膜材料多采用燒結(jié)法制備。

3、晶體生長

有些材料，如Ti2O3、Ti3O5、MgF2、MgO、Nb2O5、La2Ti2O7、ZnSe、ZnS等需要采用晶體生長技術(shù)獲得晶體顆粒以滿足用戶要求。

1、材料純度

為了獲得符合要求的薄膜，往往要求使用純度較高的鍍膜材料，鍍膜材料生產(chǎn)廠則希望獲得高純原料。但這種要求不能盲目，因?yàn)檫^高的純度要付出過高的代價(jià)。

實(shí)際上，不同用途薄膜對材料純度的要求也不盡相同。就光學(xué)薄膜來說，膜層的指標(biāo)往往體現(xiàn)在透過率、折射率等光譜性質(zhì)上。如果透過率相差千分之一，在光譜圖上已難于發(fā)現(xiàn)，大體上3N純度的材料能滿足一般光學(xué)薄膜的要求。一些特別情況，也不是一般意義上的高純度，盲目要求4N，甚至5N高純原料并非一劑良藥。

另外，還存在敏感雜質(zhì)的問題，比如提高某一波段的透過率，首先需要清楚在該波段造成吸收的最敏感雜質(zhì)，控制該雜質(zhì)，可達(dá)到事半功倍之效。對激光薄膜來說，對鐵和鋯的含量要求較高，因?yàn)殍F和鋯在某些激光波段造成吸收并引起薄膜的激光損傷。

光學(xué)薄膜對材料純度的要求相對較高，特別是制備多層膜時(shí)，雜質(zhì)的影響可成疊加之勢，因而對材料純度的要求更高。但光學(xué)用途以外的其他膜層，如彩色裝飾膜、機(jī)械保護(hù)膜、車燈反光膜等，對材料純度的要求要比光學(xué)薄膜寬松。這里也存在敏感雜質(zhì)的問題，比如一種彩色膜，某一種雜質(zhì)，可能特別具有“毒性”，對這種顏色造成嚴(yán)重偏色。

2、材料形狀

鍍膜工藝對材料形狀的要求來自兩個(gè)方面，一是剛性的要求，如鍍膜機(jī)設(shè)計(jì)本身的要求或鍍膜工藝要求。二是習(xí)慣要求，一名技術(shù)人員長期使用一臺鍍膜機(jī)會形成特定的工藝條件。改變形狀意味著改變工藝，對成功率會有一定風(fēng)險(xiǎn)。

從材料本身角度考察，形狀也會對膜層質(zhì)量造成影響。最著名的例子是日本產(chǎn)SiO2顆粒，石英玻璃破碎后，形成的顆粒有尖角，尖角受到電子束轟擊后，容易爆裂，產(chǎn)生飛濺，對膜層質(zhì)量造成影響。

Optron公司將SiO2顆粒加熱到軟化溫度，剛好使尖角軟化，并自然收縮，尖角鈍化，不但減少尖角爆裂，還消除顆粒內(nèi)部應(yīng)力，提高了磨料質(zhì)量。在我國，更常用的方法是機(jī)械消除尖角的辦法，如加工成圓柱顆?；蚯驙铑w粒，效果也很好。另外如石英環(huán)、石英靶材等也避開了尖角的影響，廣泛用于鍍膜工藝中。

3、材料密度

對燒結(jié)磨料來說，密度常常成為一項(xiàng)重要指標(biāo)。如材料密度過低，材料松軟，加熱時(shí)，材料放氣噴濺，影響膜層質(zhì)量。但密度并非越高越好，有些材料，特別是燒結(jié)靶材，密度過高，加熱時(shí)易于開裂，鍍膜工藝參數(shù)產(chǎn)生波動。折中、協(xié)調(diào)、尋求平衡點(diǎn)往往是解決問題的辦法。

1、在眼鏡上的應(yīng)用

鍍膜常用在相機(jī)鏡頭、近視、遠(yuǎn)視、老花鏡等矯正眼鏡上使用。

鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光、鬼影;不同顏色的鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，鍍膜尚可延遲鏡片老化、變色的時(shí)間。

眼鏡鍍膜常用藥品：二氧化鋯(ZrO2)、二氧化硅(SiO2)、ITO(增加鏡片導(dǎo)電抗紫外線)、HT-100(防水膜，防止老化和氧化)……

鍍膜原理：高電壓電子槍將以上幾種藥品汽化，均勻分布在鏡片表面。

2、在汽車上的應(yīng)用

鍍膜美容是漆面保護(hù)的最高措施，可以避免氧化，達(dá)到使漆面增亮、抗酸堿、抗氧化、抗紫外線等多重功效。由于膜的材料本身是一種無機(jī)物，對車漆沒有損害。

一般在給車鍍膜時(shí)，車身由于老化而變色脆化的漆皮及長年腐蝕形成的氧化層會一并除掉?？稍黾悠崦嬗捕龋苊庑〉膭澓酆凸馊Ξa(chǎn)生。保持時(shí)間也最長，約有一年多。光學(xué)鍍膜材料鍍膜也不是十全十美的，鍍完膜時(shí)光亮度不如封釉，所以并不適合愛靚的車友，整車鍍膜的價(jià)格在千元以上。