白光干涉測厚儀 白光干涉測厚儀是用來測量材料及物體厚度的儀表。在工業(yè)生產(chǎn)中常用來連續(xù)或抽樣測量產(chǎn)品的厚度（如鋼板、鋼帶、薄膜、紙張、金屬箔片等材料）。設(shè)計、安裝測厚儀時要在可能的條件下盡量靠近工作輥，目的是降低板厚的滯后調(diào)整時間。白光干涉測厚儀可以用來在線測量軋制后的板帶材厚度，并以電訊號的形式輸出。該電訊號輸給顯示器和自動厚度控制系統(tǒng)，以實現(xiàn)對板帶厚度的自動厚度控制。 精品推薦
品牌： 美國海洋光學 型號： NanoCalc 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：蔚海光學儀器（上海）有限公司

NanoCalc 薄膜反射測量系統(tǒng) 薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進行10nm~250m的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。 產(chǎn)品特點 可分析單層或多層薄膜 分辨率達0.1nm 適合于在線監(jiān)測 操作理論 最常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。 查找n和k值 可以進行多達三層的薄膜測量，薄膜和基體測量可以是金屬、電介質(zhì)、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫，用戶也可以自己添加和編輯。 NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等。
品牌： 美國AEP Technology 型號： NanoMap-WLS 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：aep Technology中國辦事處

薄膜測厚儀儀器簡介：提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動動態(tài)存儲、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計的計算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區(qū)差異繪圖。膜厚儀主要特點：◆微觀二維（2D）和三維(3D)形貌輪廓獲取◆多種測量功能將采樣數(shù)據(jù)運算后,可獲得精確定量的面積（空隙率，缺陷密度，磨損輪廓截面積等）、體積（孔深，點蝕，圖案化表面，材料表面磨損體積以及球狀和環(huán)狀工件表面磨損體積等）、臺階高度、線與面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半徑以及其它幾何參數(shù)等測量數(shù)據(jù)。NanoMap-1000WLINanoMap-1000WLI膜厚儀是非接觸式三維高清圖像的光學輪廓儀白光干涉儀器 - 白光干涉帶來了高的分辨率、 400萬像素的圖像、大的掃描范圍，可定制的波長范范圍，使用戶可以輕松靈活的的到任何表面形貌。提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動動態(tài)存儲、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計的計算包括峰值和谷值分析。基于傅立葉變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區(qū)差異繪圖。測量表面可以覆蓋90%以上材料表面。設(shè)備傳感器精度高，穩(wěn)定性好，材料應(yīng)用面廣。熱噪聲是同類產(chǎn)品最低的。垂直分辨率可達0.01 nm ( phase-shift mode) 可測跨學科、跨領(lǐng)域的各種樣品表面，包括透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)；膜厚儀參數(shù)性能追尋持續(xù)改進的目標AEP的技術(shù)致力于日新月異的改善產(chǎn)品性能參數(shù)。 欲了解最新的配置和性能，請與我們聯(lián)系。搭載多鏡頭 最多可同時搭載6枚物鏡Z軸聚焦范圍 0.1納米至10mm手動旋轉(zhuǎn)平臺范圍 360度高清圖像2維、3維的直方圖等視圖白光干涉可以呈現(xiàn)2維和3維圖像。利用所提供的軟件，通過設(shè)置一些選項、可以得到客戶需求的的曲線、標繪、視圖（例如直方圖及雷達圖等）成像光源長壽命強光LED，用戶可自選波長范圍白光干涉儀對其光源承諾史無前例的十年質(zhì)保。高亮的LED允許成像樣品的反射率范圍從小于0.4%到100%（高亮度的LED使反射率從小于0.4%到100%的樣品均可清晰成像。）白光干涉光源承諾十年質(zhì)保。三維形貌儀允許客戶改變可用波長掃描各種樣品。聯(lián)系方式：aep Technology電話：+86-010-68187909傳真：+86-010-68187909手機：+86-15611184708何先生公司網(wǎng)址：www.aeptechnolongy.com.cn

品牌： 美國海洋光學 型號： NanoCalc 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：雷迪美特中國有限公司

NanoCalc 薄膜反射測量系統(tǒng)薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進行10nm~250μm的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。產(chǎn)品特點可分析單層或多層薄膜分辨率達0.1nm適合于在線監(jiān)測操作理論最常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。查找n和k值可以進行多達三層的薄膜測量，薄膜和基體測量可以是金屬、電介質(zhì)、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫，用戶也可以自己添加和編輯。應(yīng)用NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等。NanoCalc系統(tǒng)NC-UV-VIS-NIR重量：250-1100 nm厚度：10 nm-70 μm光源：氘鹵燈NC-UV-VIS重量：250-850 nm厚度：10 nm-20 μm光源：氘鹵燈NC-VIS-NIR重量：400-1100 nm厚度：20nm-100μm (可選1μm-250μm)光源：鹵燈NC-VIS重量：400-850 nm厚度：50 nm-20μm光源：鹵燈NC-NIR重量：650-1100 nm厚度：70 nm-70μm光源：鹵燈NC-NIR-HR重量：650-1100nm厚度：70 nm-70μm光源：鹵燈NC-512-NIR重量：900-1700 nm厚度：50 nm-200μm光源：高亮度鹵燈NanoCalc規(guī)格入射角：90°層數(shù)：3層以下需要進行參考值測量：是透明材料：是傳輸模式：是粗糙材料：是測量速度：100ms - 1s在線監(jiān)測：可以公差（高度）：參考值測量或準直(74-UV)公差（角度）：參考值測量微黑子選項：配顯微鏡顯示選項：配顯微鏡定位選項：6"和12" XYZ 定位臺真空：可以

品牌： 上海屹持光電 型號： SIT-200 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海屹持光電技術(shù)有限公司

硅片厚度測量儀（SIT-200）由精確可調(diào)激光光源，聚焦傳感器，光學接收器組成。波長掃描光聚焦照射到目標上，由目標表面和背面反射光干涉形成干涉圖案，經(jīng)過聚焦傳感器后由光學探測器進行檢測。

品牌： 日本HalfMoon 型號： * 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點：?光譜儀(MCPD-9800/MCPD-3700/MCPD-7700)提供豐富選配套件以及客制化光纖。?可依據(jù)安裝現(xiàn)場需求評估設(shè)計。?可靈活架設(shè)于各種環(huán)境下的最佳即時測量系統(tǒng)。測量項目： 分光光譜儀種類測量波長范圍MCPD-9800：高動態(tài)范圍型360～1100nmMCPD-3700：紫外/可視/近紅外光型220~1000nmMCPD-7700：高感度型220~1100nm平面顯示器模組測量：平面顯示器（FPD）模組、液晶顯示器（LCD）模組、電漿顯示器（PDP）模組、CRT顯示器、OLED面板系統(tǒng)架構(gòu)： ①光譜儀②受光光纖③放射感應(yīng)器測量實例： 液晶面板色度測量液晶面板對比測量

品牌： 日本HalfMoon 型號： 01 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點：?自由搭配的光纖架構(gòu)，可安裝于生產(chǎn)線上、半導(dǎo)體晶圓研磨設(shè)備或真空鍍膜設(shè)備中。?遠端同步控制、高速多點同步測量等。?豐富多樣的光學系統(tǒng)套件與應(yīng)用軟件，提供特殊環(huán)境下最理想的膜厚解決方案。產(chǎn)品架構(gòu)： ?半導(dǎo)體晶圓面內(nèi)分布測量?玻璃基板面內(nèi)分布測量?即時性量測?輸送方向的定點品質(zhì)管理?對應(yīng)真空環(huán)境之設(shè)備?即時性測量?輸送方向的全面品質(zhì)管理

品牌： 日本HalfMoon 型號： - 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點：?薄膜到厚膜的測量范圍、UV～NIR光譜分析。?高性能的低價光學薄膜測量儀。?藉由絕對反射率光譜分析膜厚。?完整繼承FE-3000高端機種90%的強大功能。?無復(fù)雜設(shè)定，操作簡單，短時間內(nèi)即可上手。?非線性最小平方法解析光學常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。產(chǎn)品規(guī)格： 型號FE-300VFE-300UVFE-300NIR對應(yīng)膜厚標準型薄膜型厚膜型超厚膜型樣品尺寸最大8寸晶圓（厚度5mm）膜厚范圍100nm~40μm10nm~20μm3μm~30μm15μm~1.5mm波長范圍450nm~780nm300nm~800nm900nm~1600nm1470nm~1600nm膜厚精度±0.2nm以內(nèi)±0.2nm以內(nèi)--重復(fù)再現(xiàn)性(2σ)0.1nm以內(nèi)0.1nm以內(nèi)--測量時間0.1s～10s以內(nèi)測量口徑約Φ3mm光源鹵素燈UV用D2燈鹵素燈鹵素燈通訊界面USB尺寸重量280（W）×570（D）×350（H）mm，約24kg軟件功能標準功能波峰波谷解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乘法解析選配功能材料分析軟件、薄膜模型解析、標準片解析應(yīng)用范圍： ?半導(dǎo)體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)?光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)應(yīng)用范例：?PET基板上的DLC膜?Si基板上的SiNx

品牌： 日本HalfMoon 型號： 1 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點：?400波長以上多通道分光的橢偏儀，高速測量橢圓偏光光譜。?自動變更反射測量角度，可得到更詳細的薄膜解析數(shù)據(jù)。?采用正弦桿自動驅(qū)動方式，展現(xiàn)測量角度變更時優(yōu)異的移動精度。?搭載薄膜分析所需的全角度同時測量功能。?可測量晶圓與金屬表面的光學常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。產(chǎn)品規(guī)格： 樣品對應(yīng)尺寸100×100mm測量方式偏光片元件回轉(zhuǎn)方式入射/反射角度范圍45～90o入射/反射角度驅(qū)動方式反射角度可自動變更波長測量范圍300～800nm分光元件Poly-chrometer尺寸650（H）×400（D）×560（W）mm重量約50kg

品牌： 日本HalfMoon 型號： // 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點：?橢圓偏振術(shù)測量紫外光到可見光波長橢圓參數(shù)。?0.1nm以上奈米級光學薄膜厚度測量。?400波長以上多通道分光的橢偏儀，高速測量橢圓偏光光譜。?可自由變換反射測量角度，得到更詳細的薄膜解析數(shù)據(jù)。?非線性最小平方法解析多層膜、光學常數(shù)。產(chǎn)品規(guī)格： 膜厚測量范圍0.1nm~波長測量范圍250~800nm（可選擇350～1000nm）感光元件光電二極管陣列512ch（電子制冷）入射/反射角度范圍45～90o電源規(guī)格AC1500VA（全自動型)尺寸1300（H）×900（D）×1750（W）mm重量約350kg（全自動型）應(yīng)用范圍： ■半導(dǎo)體晶圓?電晶體閘極(Gate)氧化薄膜、氮化膜，電極材料等?SiO2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al2O2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN?光阻劑光學常數(shù)(波長色散)■化合物半導(dǎo)體?AlxGa(1-x)As多層膜、非結(jié)晶矽■平面顯示器?配向膜?電漿顯示器用ITO、MgO等■新材料?類鉆碳薄膜(DLC膜)、超傳導(dǎo)性薄膜、磁頭薄膜■光學薄膜?TiO2、SiO2、多層膜、抗反射膜、反射膜■平版印刷領(lǐng)域?g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)等于各波長的n、k值評價應(yīng)用范例： 非線性最小平方法比對NIST標準樣品(SiO2)膜厚精度確認

品牌： 日本HalfMoon 型號： 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點： ?非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計。?高精度、高再現(xiàn)性測量紫外到近紅外波長反射率光譜，分析多層薄膜厚度、光學常數(shù)（n：折射率，k消光系數(shù)）。?寬闊的波長測量范圍。（190nm-1100nm）?薄膜到厚膜的膜厚測量范圍。（1nm~250μm）?對應(yīng)顯微鏡下的微距測量口徑。產(chǎn)品規(guī)格： 標準型厚膜專用型膜存測量范圍1nm~40μm0.8μm~250μm波長測量范圍190~1100nm750~850nm感光元件PDA512ch（電子制冷）CCD512ch（電子制冷）PDA512ch（電子制冷）光源規(guī)格D2（紫外線）、12（可見光）、D2+12（紫外-可見光）12（可見光）電源規(guī)格AC100V±10V750VA（自動樣品臺規(guī)格）尺寸4810（H）×770（D）×714（W）mm（自動樣品臺規(guī)格之主體部分）重量約96kg（自動樣品臺規(guī)格之主體部分）應(yīng)用范圍： FPD-LCD、TFT、OLED（有機EL）半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體-矽半導(dǎo)體、半導(dǎo)體鐳射、強誘電、介電常數(shù)材料資料儲存-DVD、磁頭薄膜、磁性材料光學材料-濾光片、抗反射膜平面顯示器-液晶顯示器、膜膜電晶體、OLED薄膜-AR膜其他-建筑用材料測量范圍： 玻璃上的二氧化鈦膜厚、膜質(zhì)分析

品牌： 南京科美 型號： ST4080-OSP 產(chǎn)地：韓國 供應(yīng)商：北京三尼陽光科技發(fā)展有限公司

儀器簡介：1996年以來，科美在半導(dǎo)體，平板顯示器，電子物質(zhì)，生命科學和化學分析上，研發(fā)和提供了獨特的，先進的解決方案。科美，作為測量和分析技術(shù)市場上的領(lǐng)頭和動力，以它突出的表現(xiàn)得到了世界范圍的認可。技術(shù)參數(shù)：波長范圍 420nm ~ 640nm 厚度測量范圍 350 ~ 3 最小光斑尺寸 1.35, 0.135 目標面積 864X648 / 86.4X64.8 物鏡轉(zhuǎn)動架 5X(spot size 20), 50X(spot size 0.2) 測量層 1 固定樣臺面積 270mm(L) X 240mm(D) Z軸再現(xiàn)性 ± 1 自動Z裝置 Z direction Head Movement Travel range: 50mm Max. velocity: 50mm/s Non-destructive OSP thickness measurement No sample preparation for fast and easy operation Available to detect OSP coating on Cu with rough surface conditions Auto-focusing function 3D contours results主要特點：ST4080-OSP（有機可焊性保護膜）專用于測量PCB/PW板的銅鉑表面的OSP厚度。作為使用分光反射法的非破壞性光學測量儀，它可提供平均厚度和詳細的3D平面輪廓資料，使得實時檢測無需任何的樣品制備。 由于ST4080-OSP具有測量很小面積與自動聚焦功能，適用于PCB基板表面的實模式。ST4080-OSP基于科美公司的厚度測量技術(shù)，而它在半導(dǎo)體，平板顯示與其他電子材料行業(yè)方面的可靠性得到了證實。 為什么要選擇 ST4080-OSP? ST4080-OSP使用反射測量法提供PCB/PWB表面OSP涂層厚度的非接觸和非破壞性實時測量。 ST4080-OSP 無需樣品制備，可確?？焖俸秃啽悴僮鳌? ST4080-OSP測量的光斑尺寸可減小到0.135，這使得它可測量表面粗糙的銅的OSP涂層厚度. ST4080-OSP 與紫外可見分光計，受迫離子束方法，時序電化學還原分析還有其他的測量方法相比較，它基于更可靠的測量技術(shù)。 ST4080-OSP 可獲取420nm~640nm范圍內(nèi)的多波長光譜。 ST4080-OSP可提供各點和它們的平均厚度的詳細數(shù)據(jù)，這樣可幫助人們更好地控制OSP質(zhì)量。 ST4080-OSP 通過3D表面形態(tài)學將測量程序最優(yōu)化。

品牌： 南京科美 型號： ST5000 產(chǎn)地：韓國 供應(yīng)商：北京三尼陽光科技發(fā)展有限公司

儀器簡介：1996年以來，科美在半導(dǎo)體，平板顯示器，電子物質(zhì)，生命科學和化學分析上，研發(fā)和提供了獨特的，先進的解決方案?？泼?，作為測量和分析技術(shù)市場上的領(lǐng)頭和動力，以它突出的表現(xiàn)得到了世界范圍的認可。技術(shù)參數(shù)：活動范圍 ~300mm x 300mm 測量范圍 100~ 35(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40/20,4(option) 測量速度 1~2 sec./site(fitting time) 應(yīng)用領(lǐng)域 All Capability of ST2000 More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measurement 選擇 Transmittance Module Reference Sample(K-MAC or KRISS or NIST) 接物鏡旋轉(zhuǎn)器 Quintuple Revolving Nosepiecs 焦點 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附帶照明 12v 100W Halogen Lamp主要特點：尺寸 1100 x 1250 x 1550 mm 重量 400kg 類型 自動的 測量方法 無連接的 測量原理 反射計 測量迅速，操作簡單 非接觸式，非破壞方式 優(yōu)秀的重復(fù)性和再現(xiàn)性 2D/3D 映射和造型 自動機械活動控制 電荷耦合器件照相機 自動調(diào)焦

品牌： 南京科美 型號： ST5030-SL 產(chǎn)地：韓國 供應(yīng)商：北京三尼陽光科技發(fā)展有限公司

儀器簡介： 1996年以來，科美在半導(dǎo)體，平板顯示器，電子物質(zhì)，生命科學和化學分析上，研發(fā)和提供了獨特的，先進的解決方案?？泼?，作為測量和分析技術(shù)市場上的領(lǐng)頭和動力，以它突出的表現(xiàn)得到了世界范圍的認可。
測量速度 1~2 sec./site (fitting time) 應(yīng)用領(lǐng)域 All Capability of ST2000 More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measure 選擇 Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST) Anti-vibration table 接物鏡轉(zhuǎn)換器 Quintuple Revolving Nosepiecs 焦點 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附帶照明 12v 100W Halogen Lamp
品牌： 南京科美 型號： ST4000-DLX 產(chǎn)地：韓國 供應(yīng)商：北京三尼陽光科技發(fā)展有限公司

儀器簡介： 1996年以來，科美在半導(dǎo)體，平板顯示器，電子物質(zhì)，生命科學和化學分析上，研發(fā)和提供了獨特的，先進的解決方案?？泼?，作為測量和分析技術(shù)市場上的領(lǐng)頭和動力，以它突出的表現(xiàn)得到了世界范圍的認可。
應(yīng)用領(lǐng)域 All Capability of ST2000 More Precision Measurement Intended for Wafer Measurement OLED 選項 Programmable Auto Z Stage 參考樣品(K-MAC or KRISS or NIST) 焦點 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附帶照明 12v 100W Halogen Lamp
品牌： 南京科美 型號： ST2000-DLXn 產(chǎn)地：韓國 供應(yīng)商：北京三尼陽光科技發(fā)展有限公司

儀器簡介： 1996年以來，科美在半導(dǎo)體，平板顯示器，電子物質(zhì)，生命科學和化學分析上，研發(fā)和提供了獨特的，先進的解決方案?？泼?，作為測量和分析技術(shù)市場上的領(lǐng)頭和動力，以它突出的表現(xiàn)得到了世界范圍的認可。
nosepiece Quadruple Revolving Mechanism with Inward Tilt 照明類型 12V 35W Halogen Lamp Built-in Control Device Transformer
品牌： 德國applied-spectroscopy 型號： Plasma Emission Messurement System 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：安柏來科學儀器（上海）有限公司

等離子體發(fā)射測量在紫外線…近紅外線范圍可同時觀察到等離子發(fā)射低壓等離子沉積技術(shù)是一個客觀的連續(xù)不斷的過程，如PVD（物理氣象沉積）是今天真正的問題之一。除了等離子體發(fā)射光的表觀檢查，有時也使用質(zhì)譜技術(shù)。但是質(zhì)譜技術(shù)既不方便操作，其結(jié)果也不容易理解。與此相比，使用OES（發(fā)射光譜）和光纖耦合TranSpec光譜儀的有點是顯而易見的。技術(shù)特征在200…1000nm光譜范圍內(nèi)可同時測量可檢測非常底的發(fā)射信號可連接到幾乎每個真空室無需維護舒適和易于使用的PEMProVis專業(yè)版軟件用于全球主要的汽車燈以及CD生產(chǎn)商進行有機膜厚測試

品牌： 德國applied-spectroscopy 型號： TranSpec 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：安柏來科學儀器（上海）有限公司

產(chǎn)品描述TranSpec光譜儀結(jié)合創(chuàng)新的光電技術(shù)與強大的模擬/數(shù)字電子技術(shù)和最新的計算機技術(shù)。借助于靈活的光纖，TranSpec的應(yīng)用范圍從標準的常規(guī)實驗室分析到在線過程測量技術(shù)的特殊任務(wù)。使用FSMA標準光纖連接的高穩(wěn)定性光電二級管陣列分光計使用spurious-free動態(tài)范圍的1MHz16位模擬/數(shù)字轉(zhuǎn)換器針對紫外線……近紅外光譜范圍可使用不同的分光計模塊可選的集成鹵素或氘/鹵素結(jié)合光譜燈無可移動部分-無需重復(fù)校準-無需維護可連接到標準USB2.0（USB3.0）或選擇連到以太網(wǎng)/局域網(wǎng)可用程序庫開發(fā)特殊的應(yīng)用應(yīng)用領(lǐng)域用于全球主要的汽車燈以及CD生產(chǎn)商進行有機膜厚測試。

品牌： 德國applied-spectroscopy 型號： TranSpec Micro 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：安柏來科學儀器（上海）有限公司

產(chǎn)品描述TranSpecMicro新的光纖耦合TranSpecMicro薄膜厚度顯微鏡可以將薄膜厚度測量點的大小降到50-100um。測量點的圖像可通過裝在顯微鏡上的特殊彩色相機實時查看。TranSpecMicro薄膜厚度測量儀和我們TranSpec和TranSpecLite儀器一樣采用白光干涉原理。為了測量非常小的點，TranSpecMicro使用裝有實時顯示相機的光纖耦合顯微鏡。光纖耦合纖維鏡可以將薄膜厚度測量點的大小降到50-100um（根據(jù)放大倍數(shù)的不同），測量點的圖像可通過裝在顯微鏡上的特殊彩色相機實時查看。應(yīng)用領(lǐng)域主要用于全球主要的汽車燈以及CD生產(chǎn)商進行有機膜厚測試。

品牌： 德國applied-spectroscopy 型號： Transpec Lite 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：安柏來科學儀器（上海）有限公司

技術(shù)特點光學方法，非接觸、無損測量，安全無輻射。快速膜厚分析，只需幾毫秒即可獲得測量結(jié)果膜厚測量范圍 0.1- 150微米( 0.004 to 6 mil )極高的分析準確度，在整個厚度測量范圍內(nèi)偏差小于0.005微米可同時分析計算兩層膜厚可同時支持實驗室離線分析或者在線生產(chǎn)分析主要用于全球主要的汽車燈以及CD生產(chǎn)商進行有機膜厚測試。

氧化物、氮化物、感光耐蝕膜、聚合物、半導(dǎo)體(Si, aSi,polySi)、半導(dǎo)體化合物(AlGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS)、硬涂層(SiC, DLC), 聚合物涂料 (Paralene, 聚甲基丙烯酸甲酯, 聚酰胺), 薄金屬薄膜等。 厚度范圍: 1 nm-1 mm 波長范圍: 200nm -5000nm 在薄膜太陽能電池中的應(yīng)用: aSi, TCO, CIGS, CdS, CdTe-全太陽能堆棧測量 LCD, FPD應(yīng)用: ITO, 細胞間隙，聚酰胺。 光學涂層: 介質(zhì)濾波器，硬涂層，防反射涂層半導(dǎo)體和電解質(zhì): 氧化物，氮化物, OLED堆。 實時測量和分析。各種多層次的, 高強度的,厚的, 獨立和不均勻的層 。 豐富的材料庫 (500多種材料) 新材料容易增添。 支持參數(shù)化材料: Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA 等 使用靈活: 可聯(lián)網(wǎng)在操作臺桌面或現(xiàn)場進行研究與開發(fā)。用TCP或Modbus接口能容易的和外部系統(tǒng)連接。 測量參數(shù)： 厚度、光學常數(shù)、表面粗糙度。 界面友好強大: 測量和分析設(shè)置簡單。背景和縮放修正,連接層和材料。
* T, n k 測量的厚度范圍為25nm 5um 其他配置也是可以做到，歡迎原始設(shè)備制造商咨詢和定制開發(fā)項目。 對所有系統(tǒng)中的配件有一年的質(zhì)量保證。
品牌： 日本倉紡 型號： NR 2100 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海韻鼎國際貿(mào)易有限公司

儀器用途簡介：汽車鋼板上的防銹油、滾軋潤滑油等涂油量的測量耐指紋、潤滑性鋼板等有機油膜厚度的測量鋁罐（易拉罐內(nèi)壁）等有機膜涂布量的測量彩色鋼板的底漆厚度及背面涂布量的測量其他金屬上有機膜涂布量的測量技術(shù)參數(shù)：測量方法:紅外反射吸收方式(旋轉(zhuǎn)過濾器方式)測量范圍:0.1～10μm反復(fù)再現(xiàn)性:0.01μm以下測量面積:518×36mm(橢圓)尺寸?重量:100(W)×210(D)×145(H)、約1.5kg主要特點：三點定位，獨特光源，精確精確再精確。本產(chǎn)品深得鋼鐵業(yè)、鋁業(yè)客戶厚愛。如果把紅外線照射到被測物上,就會發(fā)生與膜厚相對應(yīng)的特定波長的紅外線吸收現(xiàn)象。從透過光或鏡面金屬板的正反射光來掌握吸收量,再按事先測得的吸光度與水分值的關(guān)系式,可以測量膜厚。并且,采用本公司獨自的P偏光入射方式。消除因表面反射或內(nèi)部多重反射引起的誤差,提供紅外線測厚儀最理想的硬件。 小型、輕量自由攜帶,可測量鋼板上的任意位置。 高性能通過采用P偏光方式,即使是薄的有機膜也可測量。 內(nèi)置打印機因內(nèi)部設(shè)置了打印機，數(shù)據(jù)的整理變得極為簡單。

品牌： 美國Rtec 型號： UP- 3D 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：南京冉銳科技有限公司

美國Rtec三維形貌儀測量系統(tǒng)沿著縱軸捕獲一系列位置的光強數(shù)據(jù)。通過白光干涉圖的形狀，干涉圖的局部相位或者是二者的結(jié)合來確定表面位置。本公司還有激光共焦，白光共焦，拉曼光譜儀等，可以把這些設(shè)備自由組合在一起，以實現(xiàn)客戶的不同需求特點：快速直觀的操作較高的計算程序，精確的高測量速度和簡便的操作軟件，使用戶能夠快速的分析和創(chuàng)建報告多個物鏡帶有6物鏡轉(zhuǎn)輪，包括多個物鏡：長焦，短焦，不同數(shù)值孔徑，投射鏡頭等電子器件先進的控制器，低機械噪聲，自校準系統(tǒng)，可選波長，64位并行處理器，標準分辨率達到1920*1920硬件能夠被固定到全自動化的平臺，高強度LED10年保修，高級精加工零部件，低能耗，遠程訪問，內(nèi)置相機側(cè)視圖，有效照明等。軟件三維虛擬軟件影像分析多種標準，粗糙，平面，波浪以及其他表面參數(shù)微粒（粒子）和細孔分析力曲線分析附帶傅里葉分析過濾用戶界面報告的創(chuàng)建和編輯影像編輯特征-光，顏色等尺寸，表面積，體積，承載比分析紋理計算，分類，其他紋理分析光譜和分形分析先進的統(tǒng)計分析能夠輸出原始數(shù)據(jù)，影像，全部報告數(shù)個可用的附加功能參數(shù)：內(nèi)校準4百萬像素可選波長高強度長壽命LED1920*1920成像64位中央處理器低機械噪聲并行處理6物鏡轉(zhuǎn)輪

品牌： 美國Rtec 型號： UP-WLI 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：南京冉銳科技有限公司

白光干涉測量系統(tǒng)沿著垂直軸向捕獲光強數(shù)據(jù)，通過白光干涉圖的形狀，局部相位或者兩者結(jié)合確定表面位置 Vertical Resolution 垂直分辨率 0.1nm 0.1nm Turret upto 6 objective turret (manual or automatic) 6鏡頭轉(zhuǎn)輪（自動或手動） Scan Range 掃描范圍 Up to 150mm x 150mm 最高達150mmx150mm Sample thickness 試樣厚度 upto 100mm 最高達100mm FOV upto 10mm 最高達10mm Objectives 10x,50x 10倍，50倍 Z focussing range Z軸方向聚焦范圍 nm to 10mm 0.1nm到10mm Scanning area 掃描區(qū)域 150x150mm 150x150mm Tilt 傾斜角 +/- 7 degree +/-7度 Rotation (theta) 平臺旋轉(zhuǎn)范圍 360 Degree 360度 Pixel Standard 1024 x 1024 標準1024x1024

品牌： 美國AEP Technology 型號： NanoMap-1000WLI（0） 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：aep Technology中國辦事處

NanoMap-1000WLI 膜厚儀儀器簡介：該膜厚儀提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動動態(tài)存儲、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計的計算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區(qū)差異繪圖。主要特點：◆微觀二維（2D）和三維(3D)形貌輪廓獲取◆多種測量功能將采樣數(shù)據(jù)運算后,可獲得精確定量的面積（空隙率，缺陷密度，磨損輪廓截面積等）、體積（孔深，點蝕，圖案化表面，材料表面磨損體積以及球狀和環(huán)狀工件表面磨損體積等）、臺階高度、線與面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半徑以及其它幾何參數(shù)等測量數(shù)據(jù)。NanoMap-1000WLINanoMap-1000WLI膜厚儀是非接觸式三維高清圖像的光學輪廓儀白光干涉儀器 - 白光干涉帶來了高的分辨率、 400萬像素的圖像、大的掃描范圍，可定制的波長范范圍，使用戶可以輕松靈活的的到任何表面形貌。提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動動態(tài)存儲、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計的計算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區(qū)差異繪圖。膜厚儀主要應(yīng)用在金屬材料、生物材料、聚合物材料、陶瓷材料等各種材料表面的薄膜厚度，臺階高度，二維粗糙度（Ra,Rq,Rmax...），三維粗糙度（Sa,Sq,Smax），劃痕截面面積，劃痕體積，磨損面積，磨損體積，磨損深度，薄膜應(yīng)力（曲定量率半徑法）等定量測量。擺脫了以往只能得到二維信息，或三維信息過于粗糙的現(xiàn)狀。將輪廓儀帶入了另一個高精度測量的新時代。測量表面可以覆蓋90%以上材料表面。設(shè)備傳感器精度高，穩(wěn)定性好，材料應(yīng)用面廣。熱噪聲是同類產(chǎn)品最低的。垂直分辨率可達0.01 nm ( phase-shift mode) 可測跨學科、跨領(lǐng)域的各種樣品表面，包括透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)；三維形貌儀參數(shù)性能追尋持續(xù)改進的目標AEP的技術(shù)致力于日新月異的改善產(chǎn)品性能參數(shù)。 欲了解最新的配置和性能，請與我們聯(lián)系。搭載多鏡頭 最多可同時搭載6枚物鏡Z軸聚焦范圍 0.1納米至10mm手動旋轉(zhuǎn)平臺范圍 360度高清圖像2維、3維的直方圖等視圖白光干涉可以呈現(xiàn)2維和3維圖像。利用所提供的軟件，通過設(shè)置一些選項、可以得到客戶需求的的曲線、標繪、視圖（例如直方圖及雷達圖等）成像光源長壽命強光LED，用戶可自選波長范圍白光干涉儀對其光源承諾史無前例的十年質(zhì)保。高亮的LED允許成像樣品的反射率范圍從小于0.4%到100%（高亮度的LED使反射率從小于0.4%到100%的樣品均可清晰成像。）白光干涉光源承諾十年質(zhì)保。三維形貌儀允許客戶改變可用波長掃描各種樣品。聯(lián)系方式：aep Technology電話：+86-010-68187909傳真：+86-010-68187909手機：+86-15611184708何先生公司網(wǎng)址：www.aeptechnolongy.com.cn關(guān)

品牌： 美國AEP Technology 型號： NanoMap-1000WLI（1） 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：aep Technology中國辦事處

儀器簡介：臺階儀該款臺階儀提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動動態(tài)存儲、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計的計算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區(qū)差異繪圖。臺階儀主要特點： ◆微觀二維（2D）和三維(3D)形貌輪廓獲取 ◆多種測量功能 將采樣數(shù)據(jù)運算后,可獲得精確定量的面積（空隙率，缺陷密度，磨損輪廓截面積等）、體積（孔深，點蝕，圖案化表面，材料表面磨損體積以及球狀和環(huán)狀工件表面磨損體積等）、臺階高度、線與面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半徑以及其它幾何參數(shù)等測量數(shù)據(jù)。 NanoMap-1000WLI NanoMap-1000WLI臺階儀是非接觸式三維高清圖像的光學輪廓儀白光干涉儀器 - 白光干涉帶來了高的分辨率、 400萬像素的圖像、大的掃描范圍，可定制的波長范范圍，使用戶可以輕松靈活的的到任何表面形貌。提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動動態(tài)存儲、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計的計算包括峰值和谷值分析。基于傅立葉變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區(qū)差異繪圖。 臺階儀主要應(yīng)用在金屬材料、生物材料、聚合物材料、陶瓷材料等各種材料表面的薄膜厚度，臺階高度，二維粗糙度（Ra,Rq,Rmax...），三維粗糙度（Sa,Sq,Smax），劃痕截面面積，劃痕體積，磨損面積，磨損體積，磨損深度，薄膜應(yīng)力（曲定量率半徑法）等定量測量。擺脫了以往只能得到二維信息，或三維信息過于粗糙的現(xiàn)狀。將輪廓儀帶入了另一個高精度測量的新時代。 測量表面可以覆蓋90%以上材料表面。設(shè)備傳感器精度高，穩(wěn)定性好，材料應(yīng)用面廣。熱噪聲是同類產(chǎn)品最低的。垂直分辨率可達0.01 nm ( phase-shift mode) 可測跨學科、跨領(lǐng)域的各種樣品表面，包括透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)；
AEP的技術(shù)致力于日新月異的改善產(chǎn)品性能參數(shù)。 欲了解最新的配置和性能，請與我們聯(lián)系。 搭載多鏡頭 最多可同時搭載6枚物鏡 Z軸聚焦范圍 0.1納米至10mm 手動旋轉(zhuǎn)平臺范圍 360度 高清圖像 2維、3維的直方圖等視圖 白光干涉可以呈現(xiàn)2維和3維圖像。利用所提供的軟件，通過設(shè)置一些選項、可以得到客戶需求的的曲線、標繪、視圖（例如直方圖及雷達圖等） 臺階儀成像光源 長壽命強光LED，用戶可自選波長范圍 白光干涉儀對其光源承諾史無前例的十年質(zhì)保。高亮的LED允許成像樣品的反射率范圍從小于0.4%到100%（高亮度的LED使反射率從小于0.4%到100%的樣品均可清晰成像。）白光干涉光源承諾十年質(zhì)保。 三維形貌儀允許客戶改變可用波長掃描各種樣品。 聯(lián)系方式：aep Technology 電話：+86-010-68187909 傳真：+86-010-68187909 手機：+86-15611184708何先生 公司網(wǎng)址：www.aeptechnolongy.com.cn關(guān)鍵詞：三維表面輪廓儀、三維輪廓儀、白光干涉儀、三維臺階儀、三維薄膜分析儀、三維形貌儀、三維粗糙度儀、表面輪廓儀、表面臺階儀、薄膜分析儀、表面形貌儀、表面粗糙度儀、非接觸式輪廓儀、非接觸式臺階儀、非接觸式表面形貌儀、非接觸式表面粗糙度儀、接觸式輪廓儀、接觸式臺階儀、接觸式表面形貌儀、接觸式表面粗糙度儀、探針式輪廓儀、探針式臺階儀、探針式表面形貌儀、探針式表面粗糙度儀、雙模式輪廓儀、雙模式臺階儀、雙模式表面形貌儀、雙模式表面粗糙度儀、三維表面輪廓儀、三維表面臺階儀、三維表面形貌儀、三維表面粗糙度儀，表面臺階儀，三維臺階儀，薄膜臺階儀，微觀臺階儀，臺階測量儀

品牌： 德國BMT 型號： WLI VLA 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：佰匯興業(yè)（北京）科技有限公司

德國BMT WLI VLA干涉儀德國BMT WLI VLA干涉儀可快色準確的測量粗糙和鏡面反射工件的表面輪廓?？捎糜跍y量平整度、波紋度、扭曲、臺階高度和多種其他表面特性。產(chǎn)品特點：粗糙和鏡面反射表面的微觀測量平整度和輪廓測量測量結(jié)果不受樣品的顏色和材料影響測量時間短，數(shù)秒完成測量范圍大快速分析表面結(jié)構(gòu)非常小巧自動獲取數(shù)據(jù)并評估進行可定制各種配置幾乎免維護技術(shù)參數(shù)：光源 LED測量范圍 （mm) 15垂直分辨率（nm） ≥1橫向分辨率（μm） 20-80測量面積 （mm） 10×10 40×40工作距離 （mm) 24數(shù)碼相機＜14位（Pixel） 1280×1024

品牌： 德國BMT 型號： WLI Infra 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：佰匯興業(yè)（北京）科技有限公司

WLI Infra干涉儀德國BMT WLI Infra干涉儀是用于硅薄膜的厚度測量設(shè)備。儀器適用于實驗室、車間和生產(chǎn)線上的質(zhì)量管理。測量頭提供空前的重復(fù)性，設(shè)計堅固緊湊、免維護，適用于在線測量。產(chǎn)品特點：MEMS、硅梁、透明薄材料的非接觸高精度厚度測量；納米級分辨率；手動或自動測量步驟設(shè)計，簡單易用；不受溫度變化和熱效應(yīng)的影響；極佳的重復(fù)性；可配備表面輪廓測量。技術(shù)參數(shù)：厚度分辨率（nm） 1探針大小 （μm） 約150（可定制）厚度范圍 （μm） 0.1-600儀器尺寸 （mm） 320x320x380重量 （kg） 120晶圓夾具 定制，可達30cm 全自動測量標準或定制的軟件包

品牌： 德國BMT 型號： WLI Lab 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：佰匯興業(yè)（北京）科技有限公司

德國BMT WLI Lab 白光干涉儀德國BMT WLI Lab 白光干涉儀可準確快速測量表面輪廓、粗糙度參數(shù)、臺階高度及其他各種表面參數(shù)，具有穩(wěn)定性高，設(shè)計堅固和易于操作的特點。LED光源的應(yīng)用使得在即使是很微弱的反射表面上也可進行測量。專為電子、汽車、工程工業(yè)、研究所而特別研發(fā)。主要用途： ........◆ 粗糙和光滑表面的顯微測量◆ 產(chǎn)品凸凹結(jié)構(gòu)圖◆ 可根據(jù)特殊用途定制主要特點：◆粗糙和光滑表面的顯微測量；◆數(shù)秒內(nèi)快速測量；◆快速更換被測物；◆測量結(jié)果不受樣品的顏色和材料影響；◆產(chǎn)品堅固耐用。技術(shù)數(shù)據(jù)：◆光源: LED（多個）◆垂直分辨率（nm） 0.1◆焦距，大約（mm) 15◆圖像尺寸（像素） 1400×1000移動平臺◆X、Y、Z軸（mm） 50～300或更大◆步長（μm） 1◆平直度/100mm 約1μm冷軋和拉絲不銹鋼表面的顯微測量和特性描述

品牌： 德國BMT 型號： WLIRING 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：佰匯興業(yè)（北京）科技有限公司

WLIRing 測量系統(tǒng)用于快速準確測量圓柱形工件的表面形貌，計算粗糙度參數(shù)，微觀結(jié)構(gòu)，及外壁表面特征。WLI Ring 產(chǎn)品特點● 對內(nèi)外壁都可進行測量；● 光滑粗糙表面都可進行測量；● 測量結(jié)果不受工件的顏色和材料影響；● 數(shù)秒內(nèi)快速測量；● 用于在線測量的OEM測量頭。技術(shù)參數(shù)測量頭光源： LED垂直分辨率（nm）： 1水平分辨率（μm）：≥1焦距，大約（mm)： 1測量區(qū)域的尺寸： 由物體決定圖像尺寸（Pixel）： 1000 ×1000

品牌： 德國BMT 型號： WLI LA 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：佰匯興業(yè)（北京）科技有限公司

WLI LA 白光干涉儀德國BMT WLI LA 白光干涉儀比使用顯微物鏡的設(shè)備可測面積大得多，同時具有非常高的數(shù)值孔徑。非常適于平整度測量。特點：● 表面輪廓和平整度測量；● 粗糙和光滑表面均可測量；● 測量不受顏色和材料影響；● 數(shù)秒內(nèi)完成測量；● 測量范圍大。技術(shù)參數(shù)：適用于較大面積平面的表面結(jié)構(gòu)形狀測量測量頭● 光源 LED● 測量范圍 （μm) 100/150● 垂直分辨率（nm） ≥1● 橫向分辨率（μm） 30● 測量面積 （mm） 14×10● 工作距離 （mm) 24● 數(shù)碼相機＜14位（Pixel） 1392×1040

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