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原子層沉積系統(tǒng)(ALD)

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2019-08-31  來源:儀器信息網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):767
核心提示:原子層沉積系統(tǒng) 原子層沉積系統(tǒng)是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中,新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯(lián)的,這種方式使每次反應只沉積一層原子。原子層沉積系統(tǒng)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應器并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種方法(技術)。 精品推薦 品牌: 美國SVT Associates 型號: ALD-05 產(chǎn)地:美國 供應商:美國SVTA公司中國辦事處 美國SVT公司ALD原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng) 原子層沉積系統(tǒng) 原子層沉積系統(tǒng)是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中,新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯(lián)的,這種方式使每次反應只沉積一層原子。原子層沉積系統(tǒng)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應器并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種方法(技術)。 精品推薦
品牌: 美國SVT Associates 型號: ALD-05 產(chǎn)地:美國 供應商:美國SVTA公司中國辦事處

美國SVT公司ALD原子層沉積系統(tǒng)自1990年來薄膜淀積設備頂級制造商。擁有獨立的室內(nèi)實驗室用于材料研究和工藝開發(fā)。提供廣泛的服務,包括淀積設備、淀積部件、集成傳感器以及工藝控制設備制造和工藝技術的高度結合,為客戶提供可靠的技術服務實驗室7臺應用淀積設備生長出世界級的材料多條設備生產(chǎn)線幾乎覆蓋了整個薄膜淀積設備市場在薄膜淀積領域擁有超過120臺設備的頂級供應商。NorthStar ALD系統(tǒng)介紹:NorthStar ALD原子層沉積系統(tǒng)提供各種淀積方法,包括熱淀積以及能量增強淀積。每臺設備可以提供多達8個先驅(qū)源管路以及一個熱壁淀積腔,使其應用范圍極為廣泛。設備的快速艙口蓋或裝載室(可選件)使樣品操作快捷方便。NorthStar ALD系統(tǒng)不但能跟其他設備連接起來,還能連接多種測量儀器。原位測量工具以及RoboALD軟件自動化系統(tǒng)提高了工藝的再現(xiàn)性??梢灾苯由壷脸哒婵仗峁┕に囇菔疽约肮に嚺嘤柗諡闈撛诳蛻籼峁┟赓M樣品測試。應用領域:High-K電介質(zhì)納米涂層MEMS光子晶體擴散阻擋層器件封裝表面改性層技術參數(shù):為科研客戶量身打造最先進的原子層沉積系統(tǒng)。提供4"、6"、8"、12"等多種尺寸的樣品平臺。針對客戶的需求,提供多種輸氣設計。---可控真空度: 1 Torr to UHV---氣道加熱---氣體快速進出---樣品尺寸: 4in standard, optional 12in---基底加熱: up to 300 ℃, optional higher temp主要特點:最安全的設計,多樣化的配置,全方位的測試手段。精確的控制手段打造完美的成膜質(zhì)量。強大的科研團隊鑄就領先的科技實力。---氣體離子化---臭氧輸送裝置---石英振蕩器---四重質(zhì)量分光計---實時溫度顯示---橢偏儀---進樣室


品牌: 德國Diener 型號: P300 產(chǎn)地:德國 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

簡介:聚對二甲苯(Poly-p-xylene),商品名帕里綸(Parylene),是通過化學氣相沉積法制備的具有聚二甲撐苯撐結構的聚合物薄膜的統(tǒng)稱,它有極其優(yōu)良的電性能、耐熱性、耐候性和化學穩(wěn)定性,主要有 Parylene N(聚對二甲苯)、Parylene C(聚一氯對二甲苯)和 Parylene D(聚二氯對二甲苯)三種。它是采用真空熱解氣相堆積工藝制備,可制成極薄的薄膜,主要用作薄膜和涂層,用于電子元器件的電絕緣介質(zhì)、保護性涂料和包封材料等。工作原理:將該二聚體進行高溫裂解產(chǎn)生雙自由基,再導入成膜室在成膜物體表面冷凝并迅速聚合,得到均勻致密的聚對二甲苯薄膜。聚對二甲苯薄膜涂層特點:聚對二甲苯薄膜無色透明,膜厚0.1μm 時仍無針孔。它的化學性能穩(wěn)定 ,有優(yōu)良的機\電\熱和生物相容性,對氣體有良好的阻擋作用,還能提高被抱覆物的耐摸性,同時是一種能防潮\防霉\防酸堿\耐輻照的高品質(zhì)防護涂層。聚對二甲苯薄膜涂層的優(yōu)良特性,使其在許多高科技領域具有廣闊的應用前景 。Parylene涂層在電子領域應用極其廣泛,主要用于:電路板,半導體器件,集成電路,混合微電路, 混合微電路,電容器,微型電機和鐵氧體;在光學和光電領域主要用于光學光電器件,復印技術光電感光體,激光存儲和記錄器件;在生物醫(yī)學領域用于人工假體,埋入式器件,血液分析器等;在航空航天領域主要用在航空航天器上,用于絕緣保護。Diener P300聚對二甲苯涂沉系統(tǒng)技術參數(shù):涂層材料;聚對二甲苯 N,C,D涂層厚度:0.05~100μm加熱爐:4kW/Max.850℃沉積室:Dia.700*H720mmGas injection:homogenous dispersal systemCarrousel:Dia.600mm*H600mmPumping system:two-stage rotary vane suction power 65m3/hUltimate pressure:1*10-3mbarContral:Full PC based contral system on Windows-basedCompressed air:6bars oil free and dryExhaust:40mm tubeDimensions:W2700*D2200*1600mmConnections:3phase/400V/16A/50,60Hz爾迪儀器提供優(yōu)質(zhì)的售前售后服務.


品牌: 德國Diener 型號: P30 產(chǎn)地:德國 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

簡介:聚對二甲苯(Poly-p-xylene),商品名帕里綸(Parylene),是通過化學氣相沉積法制備的具有聚二甲撐苯撐結構的聚合物薄膜的統(tǒng)稱,它有極其優(yōu)良的電性能、耐熱性、耐候性和化學穩(wěn)定性,主要有 Parylene N(聚對二甲苯)、Parylene C(聚一氯對二甲苯)和 Parylene D(聚二氯對二甲苯)三種。它是采用真空熱解氣相堆積工藝制備,可制成極薄的薄膜,主要用作薄膜和涂層,用于電子元器件的電絕緣介質(zhì)、保護性涂料和包封材料等。工作原理:將該二聚體進行高溫裂解產(chǎn)生雙自由基,再導入成膜室在成膜物體表面冷凝并迅速聚合,得到均勻致密的聚對二甲苯薄膜。聚對二甲苯薄膜涂層特點:聚對二甲苯薄膜無色透明,膜厚0.1μm 時仍無針孔。它的化學性能穩(wěn)定 ,有優(yōu)良的機\電\熱和生物相容性,對氣體有良好的阻擋作用,還能提高被抱覆物的耐摸性,同時是一種能防潮\防霉\防酸堿\耐輻照的高品質(zhì)防護涂層。聚對二甲苯薄膜涂層的優(yōu)良特性,使其在許多高科技領域具有廣闊的應用前景 。Parylene涂層在電子領域應用極其廣泛,主要用于:電路板,半導體器件,集成電路,混合微電路, 混合微電路,電容器,微型電機和鐵氧體;在光學和光電領域主要用于光學光電器件,復印技術光電感光體,激光存儲和記錄器件;在生物醫(yī)學領域用于人工假體,埋入式器件,血液分析器等;在航空航天領域主要用在航空航天器上,用于絕緣保護。Diener P30聚對二甲苯薄膜涂層系統(tǒng)技術參數(shù):涂層材料;聚對二甲笨 N,C,D涂層厚度:0.05~100μm加熱爐:4kW/Max.700℃涂層腔體尺寸:D310*H500mmGas injection:homogenous dispersal systemCarrousel:Dia.150mm*H270mmPumping system:two-stage rotary vane suction power 25m3/hUltimate pressure:1*10-3mbarContral:Full PC based contral system on Windows-basedCompressed air:6bars oil free and dryExhaust:25mm tubeDimensions:W1400*D700*1700mmConnections:3phase/400V/16A/50,60Hz爾迪儀器提供優(yōu)質(zhì)的售前售后服務.


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