校準理論：

校準包括校準樣品的測量和確定分析物線的強度“I”與這些樣品中的濃度c之間的函數(shù)關(guān)系。功能關(guān)系是校準函數(shù)或校準曲線。它包括蒸發(fā)，激發(fā)，輻射輸出，分散和測量值之間的關(guān)系。由于光譜化學分析是一個分析過程，是一個通過比較分析的過程，有必要用精確已知濃度的樣品校準樣品進行校準。 

對于光學發(fā)射光譜法，沒有可用于實際目的的校準曲線的理論。有些公式可以假設(shè)可以將線強度和濃度之間的關(guān)系表示為冪函數(shù)：I = I0 ck。校準功能可以用各種方式在數(shù)學上表示： 

線性校準函數(shù)：I = f（c）= a0 + a1 c

非線性校準函數(shù)：I = f（c）= a0 + a1 c + a2 c2 + ... + cn 

回歸接近校準的真實過程的程度

校準樣品 

國際社會和國際標準化組織（ISO）證實了校準樣品的基本作用，該組織提供了以下定義：

參考材料（RM）：它們是材料或物質(zhì)，其特性定義明確，可用于校準儀器，驗證測量或為材料指定值。 

認證參考物質(zhì)（CRM）：它們是材料，其有關(guān)一個或多個物業(yè)的價值通過有效的技術(shù)程序進行認證，并配有證書或來自合格技術(shù)機構(gòu)的其他文件。 

校準樣品存在三個缺點：

1）它們很貴

2）它們的尺寸和形狀并不總是適用于光譜儀的樣品架。

3）它們僅適用于某些元素和濃度

重新校準樣品 

使用校準樣品校準光譜儀時（參考樣品）

重新校準樣品被多次測量，以獲得適合于校準的可靠標稱值。光譜儀靈敏度的附加和/或乘法變化導致校準曲線在坐標系統(tǒng)的線性標度中的位移。為了在任何后期追蹤（計算）實際強度值回到校準時提交的標稱強度值，每個分析物通道需要低（LP）和高（HP）強度。在火花放電的金屬分析中，所有分析物通道的低點通常用純基體（Fe，Al，Cu，......）測量。通常從具有盡可能多的元素的合成樣品測量高點，具有良好的均勻性和精確度。 

合成組合物作為指導分析給出，樣品通常不在校準曲線上。校準的數(shù)學過程是一個自動過程。

在發(fā)射光譜法中，由于在重新校準之前拋光表面，重新校準樣品用完了。更換重新校準樣品時，無法保證即使樣品編號相同，新樣品濃度也會與更換的樣品完全一致。因此，在校準用于金屬分析的光譜儀時，應提供最少量的重新校準樣品，例如每種類型的五個重新校準樣品。 

重新校準的頻率取決于儀器及其使用。

與儀器的相互依賴意味著必須以不同的間隔重新校準相同類型的設(shè)備，特別是由于不同的光電管穩(wěn)定性。使用相互依賴意味著，即使穩(wěn)定性相同，重新校準頻率也取決于分析的類型（痕量分析，分類分析）。

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