復(fù)雜形狀以及小孔鍍耐磨材料分析光學(xué)顯微鏡

電解液共沉積工藝具有以下特點(diǎn):

  1.能夠按高精度公差鍍制，于是通常能節(jié)約后加工費(fèi)用。
  2.鍍層的結(jié)合強(qiáng)度甚至在高鉻鋼上也能超過(guò)7000MPa
  3.該.工藝不必加熱，因而基體金屬或合金的冶金性能不受影
響，制品也沒(méi)有變形的危險(xiǎn)。
  4.適當(dāng)設(shè)計(jì)陽(yáng)極、夾具和鍍制參數(shù)等，甚至可以在復(fù)雜形狀
的基體上獲得均勻的鍍層。對(duì)于某些特殊應(yīng)用，該工藝可能是唯一
可行的技術(shù)(例如對(duì)小孔鍍耐磨材料)，于是制品可以采用前所未
有的設(shè)計(jì)。
  5.該工藝特別經(jīng)濟(jì)，并且可以在軟金屬基體上鍍適當(dāng)?shù)挠?br>鍍層。
  6.該工藝可以配制大范圍的金屬一微粒成分，于是有可能鍍
制具有所要求表面特性的鍍層。
  7.該工藝適于自動(dòng)化生產(chǎn)。
  電解液共沉積的復(fù)合材料可分為5類:
  I.微粒彌散金屬?gòu)?fù)合材料((PDMC)
  2.纖維增強(qiáng)金屬?gòu)?fù)合材料(FRMC)
  3.化學(xué)鍍金屬?gòu)?fù)合材料
  4.層狀復(fù)合材料
  5.光學(xué)復(fù)合材料

  采用適當(dāng)?shù)姆椒?，微粒彌散?fù)合材料可作為表面鍍層，或作為
電成形材料。將不溶的材料以微粉的形式加進(jìn)電鍍槽.然后以常規(guī)
方式進(jìn)行電鍍，即可獲得微粒彌散復(fù)合鍍層.在電鍍時(shí)，微粒被結(jié)
合在沉積物中，從而形成復(fù)合沉積物。制備實(shí)際應(yīng)用的電鍍復(fù)合材
料時(shí)，微粒是保持懸浮狀態(tài)的。所用的方法有空氣攪動(dòng)、機(jī)械攪動(dòng)、
磁攪拌和流動(dòng)電解液懸浮等。

  復(fù)合材料可以鍍?cè)陔婂兯玫母鞣N基體上。鍍層的厚度與微
粒尺度、微粒性質(zhì)和所沉積金屬的性質(zhì)有關(guān)。

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