光學(xué)顯微鏡測量微觀很深表面要用孔徑小物鏡

光學(xué)顯微鏡測量法能夠研究金屬一周圍介質(zhì)分界面上固體的
結(jié)構(gòu)特點(diǎn)。但是．光學(xué)顯微鏡的分辨率(取決于數(shù)值孔徑(么)和
光的波長(=0．50微米))較低，因而它的應(yīng)用受到了限制。這
時，研究微觀形貌很深的表面要用孔徑小的物鏡。這就使光學(xué)顯顯微鏡
的分辨率更加降低。

應(yīng)用了紫外線輻射（=0.21）.
借助于光學(xué)顯微鏡來研究微觀形貌具有很大的意義。干涉測
量術(shù)是測量表面微觀形貌的一種最靈敏、最精密的光測方法。大家
知道有兩種基本的干涉法，即雙射線法和多射線法。多射線法能
得到很細(xì)的干涉條紋，以致就連條紋極小的位移也能看出，而這
樣就能測出表面形貌的微小差別(約5埃)。

  光學(xué)顯微鏡因分辨率低而產(chǎn)生的主要缺點(diǎn)，在電子顯微鏡中
能得到克服，電子顯微鏡為了照明而采用了有效波長約為0．05埃
的電子。這就是說，電子顯微鏡的分辨率有可能比光學(xué)顯微鏡高
108倍。實(shí)際上，由于受電子透鏡結(jié)構(gòu)和試樣制備方法的限制，
分辨率僅達(dá)2埃左右，而經(jīng)常使用時為10埃左右。可見，電子
顯微鏡能夠觀察和測量原子級結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)。作這些研究時，
除了要復(fù)制所研究的表面以外，還要將大試樣削薄成尺寸達(dá)
0．5一O．25微米的透明薄箔，也就是要研究對電子“透明”的試
樣。

  使用光柵電子顯微鏡是在電子顯微測量研究中跨出了新的一
步。使用這些儀器可以研究電子透不過的大塊對象。對于
分析具有一般深度形貌的真實(shí)摩擦面結(jié)構(gòu)，光柵電子顯微鏡測量
法具有特別重要的意義。問題是，由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn)，光柵電子
顯微鏡具有非常大的焦深。當(dāng)放大率為X 500時，焦深為0．5毫米
當(dāng)放大率為×10000時，焦深達(dá)8000埃。這種性能使光柵電子顯微鏡
能研究有效放大率為20000 - 40000(這一點(diǎn)大大超過光學(xué)顯微鏡)時
的表面形貌

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